[實(shí)用新型]一種柔性高效PECVD特氣槽有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821377476.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208748195U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 范志東;王峰;吳翠平;楊瑞臣;耿小丕 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 承德石油高等專(zhuān)科學(xué)校 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/513 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/513;C23C16/455;C23C16/34 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 067000 河北省*** | 國(guó)省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 滾軸 金屬薄片 特氣孔 特氣 反應(yīng)腔室 右倉(cāng) 左倉(cāng) 本實(shí)用新型 氣路 纏繞 | ||
本實(shí)用新型提供了一種柔性高效PECVD特氣槽,特氣槽包括左倉(cāng)室4、右倉(cāng)室7,所述左倉(cāng)室4內(nèi)設(shè)有左滾軸8,所述右倉(cāng)室7內(nèi)設(shè)有右滾軸5,所述左滾軸8以及所述右滾軸5之間纏繞著金屬薄片1,所述金屬薄片1圍繞在反應(yīng)腔室10的外側(cè),所述金屬薄片1上設(shè)有特氣孔2,所述特氣孔2與所述反應(yīng)腔室10上的特氣孔氣路對(duì)應(yīng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種光伏技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種柔性高效PECVD特氣槽。
背景技術(shù)
太陽(yáng)能電池是通過(guò)光電效應(yīng)或者光化學(xué)效應(yīng)直接把光能轉(zhuǎn)化成電能的裝置。目前,晶硅太陽(yáng)能電池仍為市場(chǎng)上的主流,其制備過(guò)程主要包括,太陽(yáng)能電池片的生產(chǎn)工藝流程分為硅片檢測(cè)——表面制絨及酸洗——擴(kuò)散制結(jié)——去磷硅玻璃——等離子刻蝕及酸洗——鍍減反射膜——絲網(wǎng)印刷——快速燒結(jié)等。
其中“鍍減反射膜”,工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設(shè)備制備減反射膜。PECVD即等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積。它的技術(shù)原理是利用低溫等離子體作能量源,樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上,利用輝光放電使樣品升溫到預(yù)定的溫度,然后通入適量的反應(yīng)氣體SiH4和NH3,氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng),在樣品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜。
在Si片表面生長(zhǎng)Si3N4膜層時(shí),會(huì)在工藝腔室和特氣槽表面中同樣沉積上Si3N4,隨著沉積Si3N4數(shù)量的增加,特氣槽上的Si3N4局部掉落在Si片表面導(dǎo)致產(chǎn)品不合格率增加。
因此,需要在設(shè)備連續(xù)運(yùn)行一周左右,暫停設(shè)備進(jìn)行維護(hù),將特氣槽清理干凈。缺點(diǎn)是很難把Si3N4清理干凈,且耽誤產(chǎn)量,另外會(huì)導(dǎo)致特氣槽發(fā)生變形。
所以,如何提供一種柔性高效PECVD特氣槽,解決上述缺陷,是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此,本實(shí)用新型提供了一種柔性高效PECVD特氣槽,解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,具體方案如下:
一種柔性高效PECVD特氣槽, 包括左倉(cāng)室4、右倉(cāng)室7,所述左倉(cāng)室4內(nèi)設(shè)有左滾軸8,所述右倉(cāng)室7內(nèi)設(shè)有右滾軸5,所述左滾軸8以及所述右滾軸5之間纏繞著金屬薄片1,所述金屬薄片1圍繞在反應(yīng)腔室10的外側(cè),所述金屬薄片1上設(shè)有特氣孔2,所述特氣孔2與所述反應(yīng)腔室10上的特氣孔氣路對(duì)應(yīng)。
具體的,所述反應(yīng)腔室10的截面為梯形。
具體的,所述金屬薄片1的外側(cè)還設(shè)有兩個(gè)以上滾輪3。
具體的,所述反應(yīng)腔室10的上底面由所述金屬薄片1通過(guò)卡子6連接形成。
具體的,所述卡子6包括卡子本體60以及固定裝置61,所述卡子主體60內(nèi)設(shè)有上下兩層的滾珠62。
具體的,所述反應(yīng)腔室10的上底面的所述金屬薄片1的上方設(shè)有磁性塊9。
具體的,所述金屬薄片1為柔性金屬薄片。
具體的,所述左滾軸8或所述右滾軸5與電機(jī)連接。
一種柔性高效率PECVD特氣槽的使用方法,包括如下步驟:
S1:打開(kāi)左倉(cāng)室4或右倉(cāng)室7,將纏繞有金屬薄片1的卷軸插入左滾軸8或右滾軸5上;
S2:拉出左滾軸8或右滾軸5上的金屬薄片1,繞過(guò)滾輪3和卡子6固定到右倉(cāng)室7內(nèi)的右滾軸5上或者左倉(cāng)室4內(nèi)的左滾軸8上,使特氣孔2和特氣管路相對(duì)應(yīng);
S3:設(shè)定工作時(shí)長(zhǎng)為80-150小時(shí);
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





