[實用新型]埋入式芯片有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821362051.9 | 申請日: | 2018-08-22 |
| 公開(公告)號: | CN208706581U | 公開(公告)日: | 2019-04-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 谷新 | 申請(專利權)人: | 深南電路股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/56;H01L23/367;H01L23/373 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李慶波 |
| 地址: | 518000 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 芯片 金屬基 金屬層 埋入式芯片 連接端子 芯片表面 金屬材質(zhì) 包圍 散熱能力 散熱需求 引出端子 電連接 介質(zhì)層 散熱性 散熱 埋入 面被 扇出 申請 金屬 側(cè)面 | ||
1.一種埋入式芯片,其特征在于,所述埋入式芯片包括:
金屬基底;
金屬層,設置在所述金屬基底上,所述金屬層內(nèi)形成凹槽;
芯片,設置在所述金屬基底上,并位于所述凹槽中,所述芯片包括遠離所述金屬基底的第一芯片表面,在所述第一芯片表面上設置有連接端子;
介質(zhì)層,設置在所述芯片的所述第一芯片表面上;
引出端子,與所述芯片的連接端子電連接,以將所述連接端子扇出。
2.根據(jù)權利要求1所述的埋入式芯片,其特征在于,
所述金屬層的厚度等于或大于所述芯片的厚度。
3.根據(jù)權利要求2所述的埋入式芯片,其特征在于,所述金屬層的厚度范圍為50微米-300微米,所述金屬層的厚度比所述芯片的厚度大15-20微米。
4.根據(jù)權利要求1所述的埋入式芯片,其特征在于,所述凹槽的寬度大于或等于所述芯片的寬度。
5.根據(jù)權利要求1所述的埋入式芯片,其特征在于,所述芯片進一步包括與所述第一芯片表面相對設置的第二芯片表面;
在所述金屬基底位于所述凹槽的位置設置粘結(jié)膠,所述第二芯片表面通過所述粘結(jié)膠與所述金屬基底粘結(jié)固定。
6.根據(jù)權利要求1所述的埋入式芯片,其特征在于,所述介質(zhì)層進一步填充所述凹槽,并覆蓋所述金屬層。
7.根據(jù)權利要求1所述的埋入式芯片,其特征在于,所述引出端子包括第一引出端子和第二引出端子;
所述介質(zhì)層上進一步設置有導電通孔,所述導電通孔將所述連接端子外露,所述第一引出端子設置在所述導電通孔中,并延伸到所述介質(zhì)層外,以將所述連接端子扇出。
8.根據(jù)權利要求7所述的埋入式芯片,其特征在于,所述導電通孔的孔徑大小為30微米-100微米。
9.根據(jù)權利要求7所述的埋入式芯片,其特征在于,所述埋入式芯片還包括:
阻焊層,設置在所述介質(zhì)層上,并在對應第一引出端子的位置形成阻焊開口,以外露所述第一引出端子;
所述第二引出端子設置在所述第一引出端子上,使得所述連接端子通過所述第一引出端子和所述第二引出端子扇出。
10.根據(jù)權利要求1所述的埋入式芯片,其特征在于,所述金屬基底的厚度范圍為30微米-500微米。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





