[實用新型]一種等離子清洗機

有效

• 申請號: 201821354683.0
• 申請日: 2018-08-22
• 公開（公告）號: CN208894765U
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發明（設計）人: 郭馳
• 申請（專利權）人: 張家港康得新光電材料有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B15/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本實用新型涉及基板清洗技術領域，尤其涉及一種等離子清洗機，其包括腔體和排氣罩，所述腔體的下部設置有多個等離子體出口，所述排氣罩的數量為多個，且多個所述排氣罩與多個所述等離子體出口一一對應設置。本實用新型通過設置多個排氣罩，使每個等離子體出口對應一個排氣罩，有效縮小了排氣罩的體積，使得等離子體出口的氣流壓力能夠將從基板上清洗下來的污染物順利從排氣罩的排氣口排出，提升了等離子清洗機的排氣性能。

技術領域

本實用新型涉及基板清洗技術領域，尤其涉及一種等離子清洗機。

背景技術

在顯示技術領域，基板制備的過程中，都會經過清洗、涂覆、曝光、顯影、烘烤等工藝以在基板上形成需要的圖案。基板在清洗后都需要經過等離子清洗設備。等離子清洗設備噴出的等離子體與基板表面的有機物結合，將有機物氧化分解成水和二氧化碳等以除去基板表面的有機物。

現有技術提供了一種等離子清洗機，如圖1所示，包括腔體10’、排氣罩20’、以及位于腔體10’與排氣罩20’之間的傳送裝置(圖中未示出)，基板100由傳送裝置在腔體10’與排氣罩20’之間進行傳送，腔體10’內能夠產生等離子體，等離子體由腔體10’下部的多個等離子體出口11’噴到基板100表面，基板100清洗后的污染物200在等離子體出口11’噴出的氣流壓力的作用下流向排氣罩20’，并由排氣罩20’下部的排氣口21’排出。現有技術的不足之處在于，多個等離子體出口11’共用一個排氣罩20’，排氣罩20’體積較大，等離子體出口11’噴出的氣流壓力不足以將污染物200全部從排氣口21’排出，排氣性能較差，而且漂浮在排氣罩20’內的污染物200在等離子清洗機放電或放氣時會重新附著在基板100表面，造成產品不良問題。

因此，亟需一種等離子清洗機以解決上述技術問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種等離子清洗機，以解決現有技術中的等離子清洗機存在的排氣性能較差的技術問題。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種等離子清洗機，包括腔體和排氣罩，所述腔體的下部設置有多個等離子體出口，所述排氣罩的數量為多個，且多個所述排氣罩與多個所述等離子體出口一一對應設置。

作為優選，所述排氣罩內位于進氣口與排氣口之間設置有防倒流裝置。

作為優選，所述排氣罩包括平直段和收口段，所述平直段位于靠近所述等離子體出口的一側，所述進氣口設置于所述平直段靠近所述等離子體出口的一端，所述收口段的大端連接于所述平直段遠離所述等離子體出口的一端，所述排氣口設置于所述收口段的小端，所述防倒流裝置設置于所述平直段內。

作為優選，所述防倒流裝置與所述進氣口之間的距離是所述平直段整體高度的三分之一。

作為優選，所述防倒流裝置為單向閥。

作為優選，所述防倒流裝置為擋板，所述擋板上設置有若干通氣孔。

作為優選，所述等離子清洗機還包括傳送裝置，所述傳送裝置設置于所述等離子體出口與所述排氣罩之間。

作為優選，所述傳送裝置包括多個傳送桿和套設在每個所述傳送桿上的多個傳送滾輪。

作為優選，所述腔體內設置有電離電極。

本實用新型相比于現有技術的有益效果：

1)本實用新型提供的等離子清洗機，通過設置多個排氣罩，使每個等離子體出口對應一個排氣罩，有效縮小了排氣罩的體積，使得等離子體出口的氣流壓力能夠將從基板上清洗下來的污染物順利從排氣罩的排氣口排出，提升了等離子清洗機的排氣性能；

2)本實用新型提供的等離子清洗機，通過在排氣罩內設置防倒流裝置，防倒流裝置防倒流裝置使得污染物不會反向流動，避免了基板被二次污染的可能，提高了基板的良率。