[實用新型]一種晶圓片盒清洗機構

有效

• 申請號: 201821338009.3
• 申請日: 2018-08-17
• 公開（公告）號: CN208853419U
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發明（設計）人: 錢誠;李剛;周少龍
• 申請（專利權）人: 無錫亞電智能裝備有限公司
• 主分類號: B08B9/34
• 分類號: B08B9/34;F26B21/00
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104
• 代理人: 曹祖良

本實用新型涉及一種清洗機構，具體的說是一種晶圓片盒清洗機構，屬于晶圓片盒清洗結構技術領域。其包括底板、旋轉臺、罩蓋、噴頭和晶圓片盒，底板中心設有旋轉臺，旋轉臺上固定多層晶圓片盒組，多層晶圓片盒組沿著旋轉臺從上到下依次設置，每層晶圓片盒組包括多個晶圓片盒；罩蓋下端固定在底板上并將旋轉臺包覆在內，罩蓋內側壁設有多層噴頭組，多層噴頭組沿著罩蓋從上到下依次設置，每層噴頭組包括多個噴頭。本實用新型純水噴淋晶圓片盒的同時，旋轉臺帶動晶圓片盒轉動甩出水珠，能夠有效提升片盒清洗的潔凈度；熱風機同時烘干晶圓片盒，保證片盒表面不會再殘留水漬。

技術領域

本實用新型涉及一種清洗機構，具體的說是一種晶圓片盒清洗機構，屬于晶圓片盒清洗結構技術領域。

背景技術

隨著半導體領域技術的發展，半導體制造商對晶圓的潔凈度要求越來越高，與晶圓直接接觸的片盒的潔凈度的要求也隨之提高，傳統的晶圓片盒清洗設備已經無法滿足潔凈度的要求。

發明內容

本實用新型的目的在于克服上述不足之處，從而提供一種晶圓片盒清洗機構，能夠有效提升片盒清洗的潔凈度。

按照本實用新型提供的技術方案，一種晶圓片盒清洗機構包括底板、旋轉臺、罩蓋、噴頭和晶圓片盒，其特征是：底板中心設有旋轉臺，旋轉臺上固定多層晶圓片盒組，多層晶圓片盒組沿著旋轉臺從上到下依次設置，每層晶圓片盒組包括多個晶圓片盒；罩蓋下端固定在底板上并將旋轉臺包覆在內，罩蓋內側壁設有多層噴頭組，多層噴頭組沿著罩蓋從上到下依次設置，每層噴頭組包括多個噴頭。

進一步的，罩蓋頂部內側設有熱風機，熱風機正對著旋轉臺。

進一步的，每層晶圓片盒組的多個晶圓片盒沿著圓周方向均勻分布。

進一步的，每層噴頭組的多個噴頭沿著圓周方向均勻分布。

本實用新型與已有技術相比具有以下優點：

本實用新型結構簡單、緊湊、合理，純水噴淋晶圓片盒的同時，旋轉臺帶動晶圓片盒轉動甩出水珠，能夠有效提升片盒清洗的潔凈度；熱風機同時烘干晶圓片盒，保證片盒表面不會再殘留水漬。

附圖說明

圖1為本實用新型主視圖。

圖2為本實用新型俯視圖。

附圖標記說明：1-底板、2-旋轉臺、3-罩蓋、4-噴頭、5-熱風機、6-晶圓片盒。

具體實施方式

下面本實用新型將結合附圖中的實施例作進一步描述：

如圖1~2所示，本實用新型主要包括底板1、旋轉臺2、罩蓋3、噴頭4、熱風機5和晶圓片盒6。

底板1中心設有旋轉臺2，旋轉臺2上固定多層晶圓片盒組，多層晶圓片盒組沿著旋轉臺2從上到下依次設置，每層晶圓片盒組包括多個晶圓片盒6，每層晶圓片盒組的多個晶圓片盒6沿著圓周方向均勻分布。

罩蓋3下端固定在底板1上并將旋轉臺2包覆在內，罩蓋3內側壁設有多層噴頭組，多層噴頭組沿著罩蓋3從上到下依次設置，每層噴頭組包括多個噴頭4，每層噴頭組的多個噴頭4沿著圓周方向均勻分布。噴頭4工作時對晶圓片盒6進行沖洗。

罩蓋3頂部內側設有熱風機5，熱風機5正對著旋轉臺2，熱風機5用于烘干旋轉臺2上的多個晶圓片盒6。

本實用新型的工作原理是：將多個晶圓片盒依次固定在旋轉臺側壁上，旋轉臺帶動多個晶圓片盒轉動，同時純水從噴頭噴出清洗晶圓片盒，間歇性噴淋一定時間后，將多個晶圓片盒將清洗干凈，由于高速旋轉而產生的離心力的作用，附著在片盒壁上的水珠將完全被甩出，輔以熱風機的烘干功能，片盒表面將不會再殘留水漬。

本實用新型結構簡單、緊湊、合理，純水噴淋晶圓片盒的同時，旋轉臺帶動晶圓片盒轉動甩出水珠，能夠有效提升片盒清洗的潔凈度；熱風機同時烘干晶圓片盒，保證片盒表面不會再殘留水漬。