[實用新型]一種雙載臺芯片圖形曝光機有效
| 申請號: | 201821316933.1 | 申請日: | 2018-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN208796017U | 公開(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發明(設計)人: | 韋日文;王勝利 | 申請(專利權)人: | 深圳市矽電半導體設備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518172 廣東省深圳市龍崗區龍城街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 承片臺 芯片圖形 曝光機 載臺 底座 滑軌連接 滑軌運動 本實用新型 工作效率 承片 供料 減小 移動 空閑 | ||
本實用新型公開了一種雙載臺芯片圖形曝光機。所述一種雙載臺芯片圖形曝光機,包括,底座;第一承片臺,通過第一滑軌連接于底座;第二承片臺,通過第二滑軌連接于底座;光刻部,固定于底座;第一承片臺能夠沿第一滑軌運動到光刻部正下方;第二承片臺能夠沿第二滑軌運動到光刻部正下方;采用第一承片臺和第二承片臺共同為光刻部供料的方式,當第一承片臺上的物料完成光刻后并離開光刻部后,第二承片臺移動到光刻部進行光刻;或者第二承片臺完成光刻后,第一承片臺移動到光刻部;從而減小光刻部空閑時間,提升雙載臺芯片圖形曝光機的工作效率。
技術領域
本實用新型涉及一種雙載臺芯片圖形曝光機。
背景技術
現有的雙載臺芯片圖形曝光機采用一個承片臺和一個光刻部,因此光刻完成后承片臺遠離光刻部,需要重新換片調角度才能用于光刻;而承片臺遠離光刻部到換片后回到光刻部這段時間,光刻部處于停止工作狀態,此種承片臺供料方式不利于提升承片臺的工作效率。
實用新型內容
為提升雙載臺芯片圖形曝光機的工作效率,本實用新型提出一種雙載臺芯片圖形曝光機技術方案。
本實用新型的技術方案為:一種雙載臺芯片圖形曝光機,包括,
底座;
第一承片臺,通過第一滑軌連接于底座;
第二承片臺,通過第二滑軌連接于底座;
光刻部,固定于底座;第一承片臺能夠沿第一滑軌運動到光刻部正下方;第二承片臺能夠沿第二滑軌運動到光刻部正下方。
進一步的,所述雙載臺芯片圖形曝光機還包括,
固定于光刻部的第一視覺系統,用于調整第一承片臺上圓片偏轉角度;第一承片臺能夠沿第一滑軌運動到第一視覺系統;
固定于光刻部的第二視覺系統,用于調整第二承片臺上圓片偏轉角度;第二承片臺能夠沿第二滑軌運動到第二視覺系統。
進一步的,所述第一滑軌平行于第二滑軌,所述第一滑軌和第二滑軌分布于光刻部兩側。
進一步的,所述第一滑軌與第二滑軌正對應連接,所述第一承片臺能夠運動到第二滑軌,所述第一承片臺靠近第二承片臺一側設置有防撞元件/第二承片臺靠近第一承片臺的一側設置有防撞元件。
進一步的,所述雙載臺芯片圖形曝光機還包括,
連接有第一驅動電機的第一驅動螺桿,連接于底座,用于驅動第一承片臺沿第一滑軌運動;
連接有第二驅動電機的第二驅動螺桿,連接于底座,用于驅動第二承片臺沿第二滑軌運動。
本實用新型的有益效果在于:采用第一承片臺和第二承片臺共同為光刻部供料的方式,當第一承片臺上的物料完成光刻后并離開光刻部后,第二承片臺移動到光刻部進行光刻;或者第二承片臺完成光刻后,第一承片臺移動到光刻部;從而減小光刻部空閑時間,提升雙載臺芯片圖形曝光機的工作效率。
附圖說明
圖1為本實用新型雙載臺芯片圖形曝光機結構示意圖。
具體實施方式
為便于本領域技術人員理解本實用新型的技術方案,下面將本實用新型的技術方案結合具體實施例作進一步詳細的說明。
如圖1所示,一種雙載臺芯片圖形曝光機100,包括,
底座20;
第一承片臺30,通過第一滑軌31連接于底座20,第一承片臺30能夠沿所述第一滑軌31滑動到預設位置,本實施例中包括取放片位置,調片位置和光刻位置;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市矽電半導體設備有限公司,未經深圳市矽電半導體設備有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821316933.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





