[實用新型]原子層沉積裝置

有效

• 申請號: 201821264170.0
• 申請日: 2018-08-07
• 公開（公告）號: CN208649461U
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 夏洋
• 申請（專利權）人: 嘉興科民電子設備技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種原子層沉積裝置，其特征在于，包括：真空腔(11)、樣品臺(12)、第一真空泵(13)、第二真空泵(14)、第一反應氣體源(15)、第二反應氣體源(16)以及惰性氣體源(17)；其中，

所述樣品臺(12)設置在所述真空腔(11)中；

所述真空腔(11)包括進氣口和出氣口，所述真空腔(11)的進氣口通過管道連接所述第一反應氣體源(15)、所述第二反應氣體源(16)以及所述惰性氣體源(17)，所述真空腔(11)的出氣口通過管道連接所述第一真空泵(13)和所述第二真空泵(14)。

2.根據權利要求1所述的原子層沉積裝置，其特征在于，所述真空腔(11)的進氣口包括第一進氣口、第二進氣口以及第三進氣口；

所述第一進氣口通過二通管道連接所述第一反應氣體源(15)，所述第二進氣口通過二通管道連接所述第二反應氣體源(16)，所述第三進氣口通過二通管道連接所述惰性氣體源(17)；

所述第一進氣口與所述第一反應氣體源(15)之間的管道、所述第二進氣口與所述第二反應氣體源(16)之間的管道、所述第三進氣口與所述惰性氣體源(17)之間的管道上均設置有閥門。

3.根據權利要求1所述的原子層沉積裝置，其特征在于，所述真空腔(11)的進氣口包括第一進氣口和第二進氣口；

所述第一進氣口通過三通管道連接所述第一反應氣體源(15)和所述惰性氣體源(17)，所述第二進氣口通過二通管道連接所述第二反應氣體源(16)，其中，三通管道的主管連接所述第一進氣口；

三通管道的兩條支管、所述第二進氣口與所述第二反應氣體源(16)之間的管道上均設置有閥門。

4.根據權利要求1所述的原子層沉積裝置，其特征在于，所述真空腔(11)的進氣口包括第一進氣口和第二進氣口；

所述第一進氣口通過二通管道連接所述第一反應氣體源(15)，所述第二進氣口通過三通管道連接所述第二反應氣體源(16)和所述惰性氣體源(17)，其中，三通管道的主管連接所述第二進氣口；

三通管道的兩條支管、所述第一進氣口與所述第一反應氣體源(15)之間的管道上均設置有閥門。

5.根據權利要求1所述的原子層沉積裝置，其特征在于，所述真空腔(11)的進氣口通過四通管道連接所述第一反應氣體源(15)、所述第二反應氣體源(16)以及所述惰性氣體源(17)，其中，四通管道的主管連接所述真空腔(11)的進氣口，四通管道的三條支管上均設置有閥門。

6.根據權利要求1至5任一項所述的原子層沉積裝置，其特征在于，所述真空腔(11)的出氣口包括第一出氣口和第二出氣口；

所述第一出氣口通過二通管道連接所述第一真空泵(13)，所述第二出氣口通過二通管道連接所述第二真空泵(14)；

所述第一出氣口與所述第一真空泵(13)之間的管道、所述第二出氣口與所述第二真空泵(14)之間的管道上均設置有閥門。

7.根據權利要求1至5任一項所述的原子層沉積裝置，其特征在于，所述真空腔(11)的出氣口通過三通管道連接所述第一真空泵(13)和所述第二真空泵(14)，其中，三通管道的主管連接所述真空腔(11)的出氣口，三通管道的兩條支管上均設置有閥門。

8.根據權利要求1所述的原子層沉積裝置，其特征在于，所述惰性氣體源(17)為氮氣源。