[實(shí)用新型]原子層沉積裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821264170.0
• 申請(qǐng)日: 2018-08-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208649461U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 夏洋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 嘉興科民電子設(shè)備技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455
• 代理公司: 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種原子層沉積裝置，所述原子層沉積裝置包括：真空腔、樣品臺(tái)、第一真空泵、第二真空泵、第一反應(yīng)氣體源、第二反應(yīng)氣體源以及惰性氣體源；其中，所述樣品臺(tái)設(shè)置在所述真空腔中；所述真空腔包括進(jìn)氣口和出氣口，所述真空腔的進(jìn)氣口通過(guò)管道連接所述第一反應(yīng)氣體源、所述第二反應(yīng)氣體源以及所述惰性氣體源，所述真空腔的出氣口通過(guò)管道連接所述第一真空泵和所述第二真空泵。本實(shí)用新型提供的原子層沉積裝置，通過(guò)設(shè)置兩個(gè)真空泵，能夠避免兩種反應(yīng)前驅(qū)體在同一個(gè)真空泵中發(fā)生反應(yīng)而影響真空泵的抽氣效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及薄膜涂層技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種原子層沉積裝置。

背景技術(shù)

原子層沉積(ALD，Atomic Layer Deposition)技術(shù)是最前沿的薄膜沉積技術(shù)。它的原理是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)，并以單原子膜的形式一層一層形成沉積膜的一種方法。原子層沉積主要包括以下過(guò)程：往真空腔中充入反應(yīng)前驅(qū)體，例如，反應(yīng)物A；等待反應(yīng)物A在樣品上飽和吸附后，用真空泵將多余反應(yīng)物A抽干凈；往真空腔中充入惰性氣體，例如，氮?dú)猓瑢?duì)真空腔進(jìn)行吹掃；用真空泵將惰性氣體抽干凈；往真空腔中充入另一反應(yīng)前驅(qū)體，例如，反應(yīng)物B；反應(yīng)物A和反應(yīng)物B在樣品上反應(yīng)生成A-B；用真空泵將多余反應(yīng)物B抽干凈。重復(fù)上述過(guò)程，便可以獲得所需厚度的A-B材料。

原子層沉積技術(shù)可以在基體上形成非常薄的膜，因而可以準(zhǔn)確控制薄膜的厚度，在任何形狀的基體上進(jìn)行接近百分之百的覆蓋。然而，由于反應(yīng)物A和反應(yīng)物B在真空泵中也會(huì)發(fā)生反應(yīng)，生成A-B物質(zhì)，該物質(zhì)會(huì)影響真空泵的抽氣效率，甚至導(dǎo)致真空泵的損壞。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的是原子層沉積過(guò)程中反應(yīng)前驅(qū)體會(huì)在真空泵中發(fā)生反應(yīng)的問(wèn)題。

本實(shí)用新型通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種原子層沉積裝置，包括：真空腔、樣品臺(tái)、第一真空泵、第二真空泵、第一反應(yīng)氣體源、第二反應(yīng)氣體源以及惰性氣體源；其中，所述樣品臺(tái)設(shè)置在所述真空腔中；所述真空腔包括進(jìn)氣口和出氣口，所述真空腔的進(jìn)氣口通過(guò)管道連接所述第一反應(yīng)氣體源、所述第二反應(yīng)氣體源以及所述惰性氣體源，所述真空腔的出氣口通過(guò)管道連接所述第一真空泵和所述第二真空泵。

可選的，所述真空腔的進(jìn)氣口包括第一進(jìn)氣口、第二進(jìn)氣口以及第三進(jìn)氣口；所述第一進(jìn)氣口通過(guò)二通管道連接所述第一反應(yīng)氣體源，所述第二進(jìn)氣口通過(guò)二通管道連接所述第二反應(yīng)氣體源，所述第三進(jìn)氣口通過(guò)二通管道連接所述惰性氣體源；所述第一進(jìn)氣口與所述第一反應(yīng)氣體源之間的管道、所述第二進(jìn)氣口與所述第二反應(yīng)氣體源之間的管道、所述第三進(jìn)氣口與所述惰性氣體源之間的管道上均設(shè)置有閥門。

可選的，所述真空腔的進(jìn)氣口包括第一進(jìn)氣口和第二進(jìn)氣口；所述第一進(jìn)氣口通過(guò)三通管道連接所述第一反應(yīng)氣體源和所述惰性氣體源，所述第二進(jìn)氣口通過(guò)二通管道連接所述第二反應(yīng)氣體源，其中，三通管道的主管連接所述第一進(jìn)氣口；三通管道的兩條支管、所述第二進(jìn)氣口與所述第二反應(yīng)氣體源之間的管道上均設(shè)置有閥門。

可選的，所述真空腔的進(jìn)氣口包括第一進(jìn)氣口和第二進(jìn)氣口；所述第一進(jìn)氣口通過(guò)二通管道連接所述第一反應(yīng)氣體源，所述第二進(jìn)氣口通過(guò)三通管道連接所述第二反應(yīng)氣體源和所述惰性氣體源，其中，三通管道的主管連接所述第二進(jìn)氣口；三通管道的兩條支管、所述第一進(jìn)氣口與所述第一反應(yīng)氣體源之間的管道上均設(shè)置有閥門。

可選的，所述真空腔的進(jìn)氣口通過(guò)四通管道連接所述第一反應(yīng)氣體源、所述第二反應(yīng)氣體源以及所述惰性氣體源，其中，四通管道的主管連接所述真空腔的進(jìn)氣口，四通管道的三條支管上均設(shè)置有閥門。

可選的，所述真空腔的出氣口包括第一出氣口和第二出氣口；所述第一出氣口通過(guò)二通管道連接所述第一真空泵，所述第二出氣口通過(guò)二通管道連接所述第二真空泵；所述第一出氣口與所述第一真空泵之間的管道、所述第二出氣口與所述第二真空泵之間的管道上均設(shè)置有閥門。