[實用新型]一種鍍膜設備

有效

• 申請號: 201821256383.9
• 申請日: 2018-08-06
• 公開（公告）號: CN208733216U
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: 陳策;丁維紅;肖念恭;陳吉利
• 申請（專利權）人: 信陽舜宇光學有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/46
• 代理公司: 北京謹誠君睿知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11538
• 代理人: 陸鑫;延慧

本實用新型涉及一種鍍膜設備，包括真空室(1)，設置在所述真空室(1)中的靶材基座(11)和基底夾具(12)，所述靶材基座(11)設置于所述基底夾具(12)的上方；還包括電極切換裝置(13)；所述電極切換裝置(13)與所述靶材基座(11)相互連接，且所述靶材基座(11)為偶數個。通過交替變換濺射靶材的電極性，從而實現本實用新型在鍍膜過程中，使帶正電荷的等離子體輪流轟擊電極性為陰極的濺射靶材，從而避免的長時間轟擊同一個濺射靶材而導致濺射靶材“中毒”，進而避免了在鍍膜過程中，濺射靶材的失效，有效提高了濺射靶材的使用壽命，并且進一步提高了鍍膜設備的鍍膜效率。

技術領域

本實用新型涉及一種鍍膜設備，尤其涉及一種用于濾光片的鍍膜設備。

背景技術

隨著科技的發展，在智能手機、車載激光雷達、安防門禁、智能家居、虛擬現實/增強現實/混合現實、3D體感游戲、3D攝像與顯示等終端運用中逐步嵌入了人臉識別、手勢識別等功能。相應的，為實現上述功能則需要用到近紅外窄帶濾光片，其能起到增透銅帶中近紅外光線，截止環境中可見光的作用。通常近紅外窄帶濾光片包括兩個膜系，分別為IR帶通膜系和長波通AR膜系。傳統膜料和真空蒸發鍍膜方式難以滿足新興市場需求，因此導致現有技術中的濾光片對近紅外光線的增透效果以及截止可見光的效果較差，在一個較大角度范圍內被攝物反射或發射光被紅外傳感器敏感捕獲的光信號通帶出現偏移，導致信號噪聲增大，進而引起識別異常，從而導致將濾光片組裝到人臉識別、手勢識別等裝置后，成像效果較差、識別精度不高，而且，傳統技術中近紅外窄帶濾光片的生產效率低，難以滿足日益增長的市場需要。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種鍍膜設備，解決濾光片生產效率低的問題。

為實現上述實用新型目的，本實用新型提供一種鍍膜設備，包括真空室，設置在所述真空室中的靶材基座和基底夾具，所述靶材基座設置于所述基底夾具的上方；還包括電極切換裝置；

所述電極切換裝置與所述靶材基座相互連接，且所述靶材基座為偶數個。

根據本實用新型的一個方面，所述靶材基座上設置有線性位移裝置；

沿豎直方向，所述線性位移裝置驅動所述靶材基座往復移動。

根據本實用新型的一個方面，還包括：設置于所述真空室中與所述靶材基座相鄰且用于提供并增強所述靶材基座位置等離子體運動速度的射頻發生器,以及設置與所述真空室外部且與所述靶材基座相對的交變磁場裝置。

根據本實用新型的一個方面，還包括：設置在所述真空室上的離子源和抽氣裝置，用于向所述真空室中通入氣體的進氣管，用于抽取所述真空室中氣體的出氣管；

所述進氣管包括用于輸送惰性氣體的第一進氣管和用于通入反應氣體的第二進氣管。

根據本實用新型的一個方面，所述進氣管與所述出氣管相對設置。

根據本實用新型的一個方面，所述電極切換裝置為交流電極切換裝置。

為實現上述實用新型目的，本實用新型提供一種鍍膜方法，包括：

S1.在真空室中分別安裝濺射靶材和基底，并將真空室中的壓力控制在預設壓力值；

S2.向所述真空室通入惰性氣體，并將所述惰性氣體電離后轟擊所述濺射靶材和所述基底的表面進行預處理；

S3.向所述真空室中通入反應氣體，在所述基底上鍍制膜層，其中，以預設周期交替變換所述濺射靶材的電極性。

根據本實用新型的一個方面，所述惰性氣體和所述反應氣體通入的體積流量小于120sccm。

根據本實用新型的一個方面，所述惰性氣體為氬氣，所述反應氣體為氫氣或氧氣；