[實用新型]研磨墊

有效

• 申請號: 201821246351.0
• 申請日: 2018-08-03
• 公開（公告）號: CN208801198U
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 吳宗儒;白昆哲
• 申請（專利權）人: 智勝科技股份有限公司
• 主分類號: B24B37/22
• 分類號: B24B37/22
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 吳志紅;臧建明

本實用新型提供一種研磨墊，包括研磨層、至少一檢測窗、黏著層、離型層及檢測窗保護層。研磨層具有彼此相對的研磨面及背面。至少一檢測窗位于研磨層中。黏著層配置于研磨層的背面下方，且黏著層具有至少一第一開口暴露出至少一檢測窗。離型層配置于黏著層的下方，且離型層具有至少一第二開口暴露出至少一檢測窗。檢測窗保護層連接于離型層且橫跨至少一第二開口。因此，本實用新型提供的研磨墊能夠有效保護檢測窗不受到外來物沾附，進而使得在研磨工藝期間，檢測窗能夠提供完善的檢測效果。

技術領域

本實用新型涉及一種研磨墊，尤其涉及一種檢測窗受到保護的研磨墊。

背景技術

在產業的元件制造過程中，研磨工藝是現今較常使用來使待研磨的物件表面達到平坦化的一種技術。在研磨工藝中，物件是通過其本身與研磨墊彼此進行相對運動，以及選擇于物件表面及研磨墊之間提供一研磨液來進行研磨。

對于具有光學檢測系統的研磨設備，研磨墊的研磨層的某部分區域通常設置有檢測窗，其功能是當使用此研磨墊對物件進行研磨時，使用者可通過研磨設備的光學檢測系統，通過檢測窗來檢測物件的研磨情況，以作為研磨工藝的終點檢測(End-PointDetection)并確保研磨品質。一般而言，為了使操作人員在進行裝置研磨墊于研磨平臺時能準確的將檢測窗與研磨平臺上的光學檢測系統進行對位貼合以執行研磨工藝的終點檢測，檢測窗的設計會暴露于環境中，因此在進入研磨工藝前研磨墊的運送及存放的過程中或是進行裝置研磨墊的過程中，檢測窗容易沾附臟污或是碰到尖銳的外來物而產生刮傷，進而影響檢測效果。進一步而言，操作人員在開始進行研磨程序之前會以水先清洗包含檢測窗頂面的研磨面，以去除研磨墊表面的臟污；但與研磨層背面共平面的檢測窗底面的臟污或刮傷卻較不易清除或不易發覺，也因此若在研磨工藝進行前，檢測窗底面沾附臟污又無法清除的狀況下，將影響光學檢測的效果進而影響研磨品質。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型提供一種研磨墊，其能夠有效保護檢測窗不受到外來物沾附，進而使得在研磨工藝期間，檢測窗能夠提供完善的檢測效果。

本實用新型的研磨墊包括研磨層、至少一檢測窗、黏著層、離型層以及檢測窗保護層。研磨層具有彼此相對的研磨面及背面。至少一檢測窗位于研磨層中，且檢測窗的底面與研磨層的背面共平面。黏著層配置于研磨層的背面下方，且黏著層具有至少一第一開口暴露出至少一檢測窗。離型層配置于黏著層的下方，且離型層具有至少一第二開口暴露出至少一檢測窗。檢測窗保護層連接于離型層且橫跨至少一第二開口，其中至少一檢測窗的邊緣對齊至少一第一開口與至少一第二開口的邊緣。

本實用新型的研磨墊，其中所述檢測窗保護層在可見光下具有透光性。

本實用新型的研磨墊，其中所述檢測窗保護層包括離型膜、膠帶或靜電吸附膜。

本實用新型的研磨墊，其中所述檢測窗保護層的面積大于所述檢測窗的面積且小于或等于所述研磨墊的面積。

本實用新型的研磨墊包括研磨層、至少一檢測窗、黏著層以及檢測窗保護層。研磨層具有彼此相對的研磨面及背面。至少一檢測窗位于研磨層中，且檢測窗的底面與研磨層的背面共平面。黏著層配置于研磨層的背面下方，且黏著層具有至少一開口暴露出至少一檢測窗。檢測窗保護層配置于黏著層的下方且橫跨至少一開口，其中至少一檢測窗的邊緣對齊至少一第一開口與至少一第二開口的邊緣。

本實用新型的研磨墊，其中所述檢測窗保護層在可見光下具有透光性。

本實用新型的研磨墊，其中所述檢測窗保護層包括離型膜。

本實用新型的研磨墊，其中所述離型膜的材料包括聚酰亞胺、聚酯、聚乙烯、聚丙烯、含硅酮聚合物或含氟素聚合物。

本實用新型的研磨墊，其中所述檢測窗保護層的面積等于所述研磨墊的面積。