[實用新型]研磨墊有效
| 申請號： | 201821246351.0 | 申請日： | 2018-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN208801198U | 公開（公告）日： | 2019-04-30 |
| 發明（設計）人： | 吳宗儒;白昆哲 | 申請（專利權）人： | 智勝科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/22 | 分類號： | B24B37/22 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 吳志紅;臧建明 |
| 地址： | 中國臺灣*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 檢測窗 離型層 研磨層 黏著層 開口 研磨 保護層 研磨墊 背面 本實用新型 彼此相對 外來物 研磨面 暴露 配置 沾附 橫跨 檢測 | ||
1.一種研磨墊，其特征在于，包括：
研磨層，具有彼此相對的研磨面及背面；
至少一檢測窗，位于所述研磨層中，且所述檢測窗的底面與所述研磨層的所述背面共平面；
黏著層，配置于所述研磨層的所述背面下方，所述黏著層具有至少一第一開口暴露出所述至少一檢測窗；
離型層，配置于所述黏著層的下方，所述離型層具有至少一第二開口暴露出所述至少一檢測窗；以及
檢測窗保護層，連接于所述離型層且橫跨所述至少一第二開口，
其中所述至少一檢測窗的邊緣對齊所述至少一第一開口與所述至少一第二開口的邊緣。
2.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層在可見光下具有透光性。
3.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層包括離型膜、膠帶或靜電吸附膜。
4.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層的面積大于所述檢測窗的面積且小于或等于所述研磨墊的面積。
5.一種研磨墊，其特征在于，包括：
研磨層，具有彼此相對的研磨面及背面；
至少一檢測窗，位于所述研磨層中，且所述檢測窗的底面與所述研磨層的所述背面共平面；
黏著層，配置于所述研磨層的所述背面下方，所述黏著層具有至少一開口暴露出所述至少一檢測窗；以及
檢測窗保護層，配置于所述黏著層的下方且橫跨所述至少一開口，
其中所述至少一檢測窗的邊緣對齊所述至少一開口的邊緣。
6.根據權利要求5所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層在可見光下具有透光性。
7.根據權利要求5所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層包括離型膜。
8.根據權利要求7所述的研磨墊，其特征在于，所述離型膜的材料包括聚酰亞胺、聚酯、聚乙烯、聚丙烯、含硅酮聚合物或含氟素聚合物。
9.根據權利要求5所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層的面積等于所述研磨墊的面積。
10.一種研磨墊，其特征在于，包括：
研磨層，具有彼此相對的研磨面及背面；
至少一檢測窗，位于所述研磨層中，且所述檢測窗的底面與所述研磨層的所述背面共平面；
第一黏著層，配置于所述研磨層的所述背面下方，所述第一黏著層具有至少一第一開口暴露出所述至少一檢測窗；
基底層，配置于所述第一黏著層的下方，所述基底層具有至少一第二開口暴露出所述至少一檢測窗；
第二黏著層，配置于所述基底層的下方，所述第二黏著層具有至少一第三開口暴露出所述至少一檢測窗；
離型層，配置于所述第二黏著層的下方，所述離型層具有至少一第四開口暴露出所述至少一檢測窗；以及
檢測窗保護層，連接于所述離型層且橫跨所述至少一第四開口，
其中所述至少一檢測窗的邊緣對齊所述至少一第一開口、所述至少一第二開口、所述至少一第三開口及所述至少一第四開口的邊緣。
11.根據權利要求10所述的研磨墊，其特征在于，檢測窗保護層在可見光下具有透光性。
12.根據權利要求10所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層包括離型膜、膠帶或靜電吸附膜。
13.根據權利要求10所述的研磨墊，其特征在于，所述檢測窗保護層的面積大于所述檢測窗的面積且小于或等于所述研磨墊的面積。
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