[實用新型]一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821239904.X
• 申請日: 2018-08-02
• 公開（公告）號: CN208632632U
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳金海;劉濤;金勇超;梁文勇
• 申請（專利權(quán)）人: 科匯納米技術(shù)（常州）有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 南京禾易知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32320
• 代理人: 王彩君

本實用新型公開了一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，包括裝置外殼和抽真空裝置，裝置外殼位于抽真空裝置正上方位置處，裝置外殼與抽真空裝置焊接固定，且裝置外殼與抽真空裝置之間相連通，利用設(shè)置的靶材與鎢絲的配合，實現(xiàn)對于氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時，把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物蒸鍍在基材上，同時呈弧形的電熱管實現(xiàn)對于真空鍍膜室內(nèi)部的高溫提供。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及物理氣相沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體處理中，物理氣相沉積(PVD)是用于沉積薄膜的傳統(tǒng)使用的工藝。 PVD工藝大體上包括轟擊靶材，致使源材料被從靶材濺射，所述靶材包括具有來自等離子體的離子的源材料。噴射出的源材料接著經(jīng)由電壓偏壓而被加速朝向待處理的基板，導(dǎo)致具有與其他反應(yīng)劑反應(yīng)，或不具有與其他反應(yīng)劑反應(yīng)的源材料的沉積。近年來，PVD工藝已被越來越多地用以取代化學(xué)氣相沉積 (CVD)而沉積電介質(zhì)材料。與通過CVD而形成的電介質(zhì)膜相比，通過PVD而形成的電介質(zhì)薄膜具有更少的污染，因此具有更高的質(zhì)量

但是，現(xiàn)有的用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備在進(jìn)行蒸鍍過程中往往無法保證很好的真空環(huán)境而使蒸鍍成本增加，且蒸鍍過程由于基材的固定使蒸鍍時無法保證均勻的蒸鍍結(jié)果。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，包括裝置外殼和抽真空裝置，所述裝置外殼位于抽真空裝置正上方位置處，所述裝置外殼與抽真空裝置焊接固定，且所述裝置外殼與抽真空裝置之間相連通：所述裝置外殼上表面中心位置處設(shè)置有控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)與裝置外殼上表面中心位置固定連接，所述裝置外殼內(nèi)部下底端位置處設(shè)置有真空鍍膜室，所述真空鍍膜室固定于裝置外殼內(nèi)底端中心處，所述真空鍍膜室上頂面設(shè)置有固定底板，所述固定底板與真空鍍膜室上頂面焊接固定，所述固定底板兩側(cè)頂端位置處與裝置外殼內(nèi)壁焊接固定，所述真空鍍膜室內(nèi)部上頂面位置處設(shè)置有基材固定架，所述基材固定架上頂面與固定底板螺釘連接，所述真空鍍膜室兩側(cè)位置處設(shè)置有電熱管，所述電熱管上頂端與固定底板固定連接，所述真空鍍膜室內(nèi)部中心位置處設(shè)置有靶材，所述靶材外端面纏繞有鎢絲，所述靶材兩側(cè)端中心位置設(shè)置有高電流線路，所述基材固定架下表面兩側(cè)端位置處設(shè)置有滑動導(dǎo)軌，所述滑動導(dǎo)軌兩側(cè)端與基材固定架內(nèi)壁焊接固定，所述滑動導(dǎo)軌共有兩組，所述基材固定架中心位置設(shè)置有基材固定板，所述基材固定板四角位置處設(shè)置有滑塊，所述滑塊與基材固定板螺釘連接，所述真空鍍膜室下底面一側(cè)位置處固定連接有預(yù)抽真空管道，所述預(yù)抽真空管道連通至裝置外殼外端，所述預(yù)抽真空管道中心位置處設(shè)置有真空電磁閥，所述真空電磁閥與預(yù)抽真空管道固定連接，所述預(yù)抽真空管道下底端與抽真空裝置焊接固定，且所述預(yù)抽真空管道下底端與抽真空裝置內(nèi)部連通，所述抽真空裝置內(nèi)部下底面一側(cè)端設(shè)置有高真空抽氣管道，所述高真空抽氣管道外頂端位置處設(shè)置有真空泵，所述真空泵與高真空抽氣管道焊接固定，所述高真空抽氣管道上頂端焊接固定有緩沖管道，所述緩沖管道上頂端位置處設(shè)置有高真空閥，且所述高真空閥與預(yù)抽真空管道固定連通，所述高真空閥內(nèi)部一側(cè)固定連接有水冷循環(huán)管，所述高真空閥與緩沖管道焊接固定，所述高真空閥另一側(cè)頂端連通有排氣管道，所述排氣管道與高真空閥固定連接，所述排氣管道中心位置處設(shè)置有排氣閥，所述排氣閥與排氣管道外壁固定連接。

優(yōu)選的，所述裝置外殼上部兩側(cè)壁中心位置處設(shè)置有電源箱，所述電源箱與裝置外殼固定連接。

優(yōu)選的，所述電熱管呈弧形，所述靶材通過高電流線路與電源箱電性連接。

優(yōu)選的，所述基材固定板內(nèi)表面外端邊緣位置處設(shè)置有彈簧板夾，所述彈簧板夾與基材固定板螺釘連接，且所述彈簧板夾共有四組。

優(yōu)選的，所述滑塊套接與滑動導(dǎo)軌外表面，所述滑塊共有四組，且所述基材固定板通過滑塊與滑動導(dǎo)軌滑動連接。