[實(shí)用新型]一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821239904.X
• 申請(qǐng)日: 2018-08-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208632632U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳金海;劉濤;金勇超;梁文勇
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 科匯納米技術(shù)（常州）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/26
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/26
• 代理公司: 南京禾易知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32320
• 代理人: 王彩君

1.一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，包括裝置外殼(1)和抽真空裝置(7)，所述裝置外殼(1)位于抽真空裝置(7)正上方位置處，所述裝置外殼(1)與抽真空裝置(7)焊接固定，且所述裝置外殼(1)與抽真空裝置(7)之間相連通，其特征在于：所述裝置外殼(1)上表面中心位置處設(shè)置有控制系統(tǒng)(2)，所述控制系統(tǒng)(2)與裝置外殼(1)上表面中心位置固定連接，所述裝置外殼(1)內(nèi)部下底端位置處設(shè)置有真空鍍膜室(4)，所述真空鍍膜室(4)固定于裝置外殼(1)內(nèi)底端中心處，所述真空鍍膜室(4)上頂面設(shè)置有固定底板(3)，所述固定底板(3)與真空鍍膜室(4)上頂面焊接固定，所述固定底板(3)兩側(cè)頂端位置處與裝置外殼(1)內(nèi)壁焊接固定，所述真空鍍膜室(4)內(nèi)部上頂面位置處設(shè)置有基材固定架(16)，所述基材固定架(16)上頂面與固定底板(3)螺釘連接，所述真空鍍膜室(4)兩側(cè)位置處設(shè)置有電熱管(17)，所述電熱管(17)上頂端與固定底板(3)固定連接，所述真空鍍膜室(4)內(nèi)部中心位置處設(shè)置有靶材(18)，所述靶材(18)外端面纏繞有鎢絲(19)，所述靶材(18)兩側(cè)端中心位置設(shè)置有高電流線(xiàn)路(20)，所述基材固定架(16)下表面兩側(cè)端位置處設(shè)置有滑動(dòng)導(dǎo)軌(21)，所述滑動(dòng)導(dǎo)軌(21)兩側(cè)端與基材固定架(16)內(nèi)壁焊接固定，所述滑動(dòng)導(dǎo)軌(21)共有兩組，所述基材固定架(16)中心位置設(shè)置有基材固定板(22)，所述基材固定板(22)四角位置處設(shè)置有滑塊(24)，所述滑塊(24)與基材固定板(22)螺釘連接，所述真空鍍膜室(4)下底面一側(cè)位置處固定連接有預(yù)抽真空管道(5)，所述預(yù)抽真空管道(5)連通至裝置外殼(1)外端，所述預(yù)抽真空管道(5)中心位置處設(shè)置有真空電磁閥(6)，所述真空電磁閥(6)與預(yù)抽真空管道(5)固定連接，所述預(yù)抽真空管道(5)下底端與抽真空裝置(7)焊接固定，且所述預(yù)抽真空管道(5)下底端與抽真空裝置(7)內(nèi)部連通，所述抽真空裝置(7)內(nèi)部下底面一側(cè)端設(shè)置有高真空抽氣管道(12)，所述高真空抽氣管道(12)外頂端位置處設(shè)置有真空泵(13)，所述真空泵(13)與高真空抽氣管道(12)焊接固定，所述高真空抽氣管道(12)上頂端焊接固定有緩沖管道(11)，所述緩沖管道(11)上頂端位置處設(shè)置有高真空閥(9)，且所述高真空閥(9)與預(yù)抽真空管道固定連通，所述高真空閥(9)內(nèi)部一側(cè)固定連接有水冷循環(huán)管(10)，所述高真空閥(9)與緩沖管道(11)焊接固定，所述高真空閥(9)另一側(cè)頂端連通有排氣管道(15)，所述排氣管道(15)與高真空閥(9)固定連接，所述排氣管道(15)中心位置處設(shè)置有排氣閥(14)，所述排氣閥(14)與排氣管道(15)外壁固定連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，其特征在于：所述裝置外殼(1)上部?jī)蓚?cè)壁中心位置處設(shè)置有電源箱(8)，所述電源箱(8)與裝置外殼(1)固定連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，其特征在于：所述電熱管(17)呈弧形，所述靶材(18)通過(guò)高電流線(xiàn)路(20)與電源箱(8)電性連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，其特征在于：所述基材固定板(22)內(nèi)表面外端邊緣位置處設(shè)置有彈簧板夾(23)，所述彈簧板夾(23)與基材固定板(22)螺釘連接，且所述彈簧板夾(23)共有四組。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，其特征在于：所述滑塊(24)套接與滑動(dòng)導(dǎo)軌(21)外表面，所述滑塊(24)共有四組，且所述基材固定板(22)通過(guò)滑塊(24)與滑動(dòng)導(dǎo)軌(21)滑動(dòng)連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，其特征在于：所述基材固定板(22)中心位置處固定基材，所述彈簧板夾(23)壓固基材。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于物理氣相沉積的電介質(zhì)沉積的設(shè)備，其特征在于：所述基材固定板(22)與靶材(18)垂直位置處于同一軸線(xiàn)。