[實用新型]一種用于制造半導(dǎo)體陶瓷片的沖片機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821216456.1 | 申請日: | 2018-07-30 |
| 公開(公告)號: | CN209224254U | 公開(公告)日: | 2019-08-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 田茂標(biāo);劉瑞生;成彪;周富;陳書生 | 申請(專利權(quán))人: | 成都萬士達瓷業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | B28B3/02 | 分類號: | B28B3/02 |
| 代理公司: | 成都天嘉專利事務(wù)所(普通合伙) 51211 | 代理人: | 蘇丹 |
| 地址: | 611332 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 沖片機 氣缸座 支撐臂 模安裝板 模安裝 小氣缸 沖壓 底座 沖床 半導(dǎo)體陶瓷片 沖壓片 大氣缸 緩沖板 本實用新型 上半部 緩沖 制造 貫穿 | ||
本實用新型公開了一種用于制造半導(dǎo)體陶瓷片的沖片機,其特征在于包括:大氣缸、小氣缸、氣缸座、位模安裝座、位模安裝板、位模、支撐臂、沖壓底座、被沖壓片、沖床緩沖板和沖片機基座,所述沖壓底座底部設(shè)置有多個貫穿整個沖片機的支撐臂,所述支撐臂上設(shè)置有沖片機基座,所述沖壓底座上設(shè)置有用于緩沖被沖壓片沖擊的沖床緩沖板,所述支撐臂的上半部設(shè)置有氣缸座,所述氣缸座的上部設(shè)置有大氣缸,所述氣缸座的下部設(shè)置有小氣缸,所述小氣缸設(shè)置有位模安裝座,所述位模安裝座上設(shè)置有位模安裝板,所述位模安裝板上設(shè)置有位模。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于制造半導(dǎo)體陶瓷片的沖片機。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體陶瓷具有半導(dǎo)體特性、電導(dǎo)率約在10-6~105S/m的陶瓷。半導(dǎo)體陶瓷的電導(dǎo)率因外界條件(溫度、光照、電場、氣氛和溫度等)的變化而發(fā)生顯著的變化,因此可以將外界環(huán)境的物理量變化轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘枺瞥筛鞣N用途的敏感元件。
半導(dǎo)體陶瓷生產(chǎn)工藝的共同特點四必須經(jīng)過半導(dǎo)化過程。半導(dǎo)化過程可通過摻雜不等價離子取代部分主晶相離子(例如,BaTiO3中的Ba2+被La3+取代),使晶格產(chǎn)生缺陷,形成施主或受主能級,以得到n型或p型的半導(dǎo)體陶瓷。另一種方法是控制燒成氣氛、燒結(jié)溫度和冷卻過程。例如氧化氣氛可以造成氧過剩,還原氣氛可以造成氧不足,這樣可使化合物的組成偏離化學(xué)計量而達到半導(dǎo)化。半導(dǎo)體陶瓷敏感材料的生產(chǎn)工藝簡單,成本低廉,體積小,用途廣泛。壓敏陶瓷,指伏安特性為非線性的陶瓷。如碳化硅、氧化鋅系陶瓷。它們的電阻率相對于電壓是可變的,在某一臨界電壓下電阻值很高,超過這一臨界電壓則電阻急劇降低。典型產(chǎn)品是氧化鋅壓敏陶瓷,主要用于浪涌吸收、高壓穩(wěn)壓、電壓電流限制和過電壓保護等方面。隨著功率電子器件的發(fā)展,電路板集成度與工作頻率不斷提高,散熱問題已成為功率電子器件發(fā)展中必須要解決的關(guān)鍵問題。陶瓷基片是大功率電子器件、集成電路基片的封裝材料,是功率電子、電子封裝與多芯片模塊等技術(shù)中的關(guān)鍵配套材料,其性能決定著模塊的散熱效率和可靠性。
低氧銅燒結(jié)DBC半導(dǎo)體熱電基片由于具有高導(dǎo)熱性、高電絕緣性、電流容量大、機械強度高、與硅芯片相匹配的溫度特性等特點,因此被廣泛應(yīng)用于航天、軍工、汽車等特殊電子行業(yè),用來做功率芯片的絕緣與散熱。
現(xiàn)有工藝是采用Al2O3陶瓷基片與經(jīng)過氧化處理后的覆銅燒結(jié),其中無氧銅氧化處理工藝復(fù)雜難以控制氧化的一致性,所以價格十分昂貴,無氧銅燒結(jié)DBC半導(dǎo)體熱電基片售價是低氧銅燒結(jié)DBC半導(dǎo)體熱電基片售價的5倍左右。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種用于制造半導(dǎo)體陶瓷片的沖片機。
一種用于制造半導(dǎo)體陶瓷片的沖片機,其特征在于包括:大氣缸、小氣缸、氣缸座、位模安裝座、位模安裝板、位模、支撐臂、沖壓底座、被沖壓片、沖床緩沖板和沖片機基座,所述沖壓底座底部設(shè)置有多個貫穿整個沖片機的支撐臂,所述支撐臂上設(shè)置有沖片機基座,所述沖壓底座上設(shè)置有用于緩沖被沖壓片沖擊的沖床緩沖板,所述支撐臂的上半部設(shè)置有氣缸座,所述氣缸座的上部設(shè)置有大氣缸,所述氣缸座的下部設(shè)置有小氣缸,所述小氣缸設(shè)置有位模安裝座,所述位模安裝座上設(shè)置有位模安裝板,所述位模安裝板上設(shè)置有位模。
所述大氣缸為單缸氣缸。
所述小氣缸為多缸氣缸。
所述氣缸2至少包括兩個氣缸。
所述位模為可更換式模具。
所述沖壓底座底部設(shè)置至少2個支撐臂。
附圖說明
本實用新型的前述和下文具體描述在結(jié)合以下附圖閱讀時變得更清楚,附圖中:
圖1是本實用新型體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖中:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于成都萬士達瓷業(yè)有限公司,未經(jīng)成都萬士達瓷業(yè)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821216456.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





