[實用新型]一種遮擋結構和蒸發臺有效
| 申請號: | 201821211390.7 | 申請日: | 2018-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN208517519U | 公開(公告)日: | 2019-02-19 |
| 發明(設計)人: | 程國慶;耿智薔 | 申請(專利權)人: | 吉林華微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 葛松生 |
| 地址: | 132013 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柱體部 擋圈 遮擋結構 蒸鍍 蒸發臺 蒸發舟 中空的 傾斜構造 四棱柱體 圓柱體形 蒸發過程 柱形結構 均勻性 拼合 蒸鋁 柱體 半導體 鄰近 軌道 | ||
1.一種遮擋結構,用于提高蒸發臺蒸鋁均勻性,所述蒸發臺具有蒸發舟,其特征在于,所述遮擋結構包括:
第一擋圈,所述第一擋圈鄰近所述蒸發舟布置,所述蒸發舟位于所述第一擋圈限定的區域內,所述第一擋圈為柱形結構,所述第一擋圈包括相互連接的第一柱體部和第二柱體部;
所述第一柱體部由具有第一缺口且中空的圓柱體形構成,所述第二柱體由具有第二缺口且中空的四棱柱體構成,所述第一柱體部和所述第二柱體部通過所述第一缺口和所述第二缺口的對接而拼合為一體。
2.根據權利要求1所述的遮擋結構,其特征在于,所述第一缺口沿所述圓柱體的軸向延伸至全部高度。
3.根據權利要求2所述的遮擋結構,其特征在于,所述第二缺口由所述四棱柱體的四個側壁中的任意一個被全部去除而形成。
4.根據權利要求1所述的遮擋結構,其特征在于,在軸向,所述圓柱體由第一端面至第二端面延伸而成;所述第一端面為平面狀,所述第二端面為階梯狀。
5.根據權利要求4所述的遮擋結構,其特征在于,所述第二端面具有兩個臺階,且由第一次端面、第二次端面、第三次端面構成,所述第一次端面、所述第二次端面、所述第三次端面與所述第一端面之間的距離依次遞減。
6.根據權利要求5所述的遮擋結構,其特征在于,所述第三次端面至所述第一端面之間的距離為18cm,所述第一次端面至所述第一端面之間的距離為30cm,所述第一次端面至所述第二次端面之間的距離為5cm,所述圓柱體的內壁直徑為152cm、壁厚為1.5cm。
7.根據權利要求5或6所述的遮擋結構,其特征在于,所述四棱柱體與所述圓柱體同向延伸,且是由第三端面至第四端面延伸而成,所述第四端面為平面狀且鄰近所述第三次端面,所述第三端面為傾斜的平面,所述第三端面具有鄰近所述第一端面的相鄰部分,所述第三端面具有遠離所述第一端面的相離部分,所述相鄰部分到所述第四端面的距離大于所述相離部分到所述第四端面的距離。
8.根據權利要求7所述的遮擋結構,其特征在于,所述第三端面的傾斜角度為65℃。
9.根據權利要求7所述的遮擋結構,其特征在于,所述相鄰部分到所述第四端面的距離為30cm,所述四棱柱體在所述圓柱體的徑向的延伸長度為20cm。
10.一種蒸發臺,其特征在于,包括如根據權利要求1~9中任一項所述的遮擋結構。
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