[實用新型]橫向流動式原子層沉積裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821127837.2 | 申請日： | 2018-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN208649460U | 公開（公告）日： | 2019-03-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陸雪強;潘曉霞;左雪芹 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇邁納德微納技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 無錫市才標專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32323 | 代理人： | 張?zhí)煜?/td> |
| 地址： | 214000 江蘇省無錫市新*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 底座主體 原子層沉積 反應(yīng)腔室 原子層沉積裝置 本實用新型 抽氣系統(tǒng) 反應(yīng)系統(tǒng) 橫向流動 進樣管路 進樣系統(tǒng) 控制系統(tǒng) 出孔 進孔 電器開關(guān)面板 設(shè)備生產(chǎn)成本 流量計出口 吸附過濾器 真空泵連接 并聯(lián)設(shè)置 抽氣管路 出口連接 鋼瓶閥門 加熱機構(gòu) 吸氣管路 箱體內(nèi)部 載氣管路 載氣進口 接口處 控制柜 前驅(qū)體 上蓋板 消耗量 閥門 鉸連 緊湊 連通 | ||
1.橫向流動式原子層沉積裝置，包括進樣系統(tǒng)、反應(yīng)系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，其特征在于：所述進樣系統(tǒng)包括設(shè)置在箱體(1)內(nèi)的流量計(2)、載氣管路(3)、原子層沉積閥(4)和進樣管路(5)，所述流量計(2)的進口處安裝有用于連接載氣的進氣接頭(6)，流量計(2)的出口通過載氣管路(3)與若干個并聯(lián)設(shè)置的原子層沉積閥(4)的載氣進口連接，所述原子層沉積閥(4)的前驅(qū)體接口處安裝有用于連接源鋼瓶的鋼瓶閥門(7)，原子層沉積閥(4)的出口連接進樣管路(5)；
所述反應(yīng)系統(tǒng)包括底座主體(8)和上蓋板(9)，所述底座主體(8)固定安裝在箱體(1)頂部，底座主體(8)上部設(shè)有開口位于頂部的反應(yīng)腔室(8a)，底座主體(8)內(nèi)設(shè)有給反應(yīng)腔室(8a)加熱的加熱機構(gòu)，所述上蓋板(9)鉸連在底座主體(8)上，上蓋板(9)蓋合時將所述反應(yīng)腔室(8a)密封；所述底座主體(8)上設(shè)有進孔和出孔，所述進孔與出孔在底座主體(8)上呈180°對稱分布，進孔和出孔的上端均與反應(yīng)腔室(8a)連通，進孔下端與進樣管路(5)連接；
所述抽氣系統(tǒng)包括吸氣管路(16)、真空Y型閥門(17)、吸附過濾器(18)、抽氣管路(19)和真空泵(20)，所述吸氣管路(16)一端與底座主體(8)上的出孔下端連接，吸氣管路(16)另一端連接真空Y型閥門(17)，所述真空Y型閥門(17)的出口與吸附過濾器(18)的進口連接，所述吸附過濾器(18)的出口通過抽氣管路(19)與所述真空泵(20)連接；
所述控制系統(tǒng)包括控制柜(21)，所述控制柜(21)安裝在箱體(1)內(nèi)部，控制柜(21)上設(shè)有電器開關(guān)面板(24)，所述電器開關(guān)面板(24)上設(shè)有電源開關(guān)按鈕和緊停按鈕。
2.如權(quán)利要求1所述的橫向流動式原子層沉積裝置，其特征在于：所述加熱機構(gòu)包括加熱底板(10)、加熱固定支架(11)、加熱器(12)和加熱絲(13)，所述加熱底板(10)固定在箱體(1)頂部，若干個加熱固定支架(11)周向均布設(shè)置并固定安裝在加熱底板(10)上；所述底座主體(8)固定安裝在加熱底板(10)上，底座主體(8)下部設(shè)有開口位于底部的中心加熱腔(8b)和周邊加熱腔(8c)，所述進孔和出孔開設(shè)在底座主體(8)上位于中心加熱腔(8b)與周邊加熱腔(8c)之間的部分；所述加熱器(12)設(shè)置在中心加熱腔(8b)內(nèi)，所述加熱絲(13)設(shè)置在周邊加熱腔(8c)內(nèi)，加熱器(12)和加熱絲(13)均安裝在加熱固定支架(11)上。
3.如權(quán)利要求2所述的橫向流動式原子層沉積裝置，其特征在于：所述底座主體(8)的外周側(cè)面設(shè)有環(huán)形凹槽(8d)，該環(huán)形凹槽(8d)通過安裝在底座主體(8)上的水冷外殼(14)密封，水冷外殼(14)與環(huán)形凹槽(8d)組成水冷腔室，在水冷外殼(14)上安裝有與水冷腔室連通的進出水接頭(15)。
4.如權(quán)利要求1所述的橫向流動式原子層沉積裝置，其特征在于：所述反應(yīng)腔室(8a)為扁圓柱形。
5.如權(quán)利要求1所述的橫向流動式原子層沉積裝置，其特征在于：所述上蓋板(9)側(cè)邊處固定安裝上鉸鏈(25)，所述底座主體(8)的外壁上焊接固定下鉸鏈(26)，上鉸鏈(25)與下鉸鏈(26)之間通過鉸鏈銷(27)相連接。
6.如權(quán)利要求1所述的橫向流動式原子層沉積裝置，其特征在于：所述箱體(1)包括箱式框架(1.1)，在箱式框架(1.1)的四個側(cè)邊上均安裝有能夠活動打開的側(cè)門(1.2)，所述控制柜(21)固定安裝在其中一個側(cè)門(1.2)的內(nèi)壁上。
7.如權(quán)利要求1所述的橫向流動式原子層沉積裝置，其特征在于：所述控制系統(tǒng)還包括顯示器(23)，所述顯示器(23)通過安裝支架(22)安裝在箱體(1)頂部。
8.如權(quán)利要求1所述的橫向流動式原子層沉積裝置，其特征在于：所述上蓋板(9)上設(shè)有把手(28)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江蘇邁納德微納技術(shù)有限公司，未經(jīng)江蘇邁納德微納技術(shù)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821127837.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
