[實用新型]一種自反饋密封腔氣體取樣裝置

有效

• 申請號: 201821120497.0
• 申請日: 2018-07-10
• 公開（公告）號: CN208432441U
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發明（設計）人: 田先清;王新鋒
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院化工材料研究所
• 主分類號: G01N1/22
• 分類號: G01N1/22
• 代理公司: 四川省成都市天策商標專利事務所 51213
• 代理人: 劉興亮;吳瑞芳

1.一種自反饋密封腔氣體取樣裝置，其特征在于包括工作臺，以及與工作臺相連的上蓋組件、樣品載物臺、密封穿刺組件、真空壓力傳感器，樣品載物臺通過上蓋組件固定在工作臺上，所述密封穿刺組件通過密封法蘭盤與工作臺連接，所述真空壓力傳感器通過密封法蘭盤與工作臺連接，上蓋組件通過設置在上蓋組件卡槽內的密封圈與工作臺固定，并通過限位塊固定在工作臺上，在上蓋組件的內腔中設置有樣品載物臺，樣品載物臺和上蓋組件之間有相互連通的排氣管路，在工作臺兩側分別設置有兩個真空截止閥，吹掃氣接口連接第一真空截止閥，在取樣接口也連接有第二真空截止閥。

2.根據權利要求1所述自反饋密封腔氣體取樣裝置，其特征在于：

所述的上蓋組件通過設置在上蓋組件卡槽及密封圈卡槽內的密封圈密封，所述的上蓋組件設置有真空接口，真空接口上設置有上蓋組件真空截止閥，在上蓋組件上部設置有步進電機，步進電機下方設置有密封上蓋，在密封上蓋的底部內側設置有壓力傳感器。

3.根據權利要求2所述自反饋密封腔氣體取樣裝置，其特征在于：

在密封上蓋內部設置有樣品載物臺，樣品載物臺是由適配塊和適配片組成的，在樣品載物臺內設置有樣品，樣品與適配塊之間設置有適配片，在密封上蓋及樣品載物臺上設置有穿過密封上蓋和樣品載物臺的排氣槽。

4.根據權利要求3所述自反饋密封腔氣體取樣裝置，其特征在于：

所述密封穿刺組件包括與超高真空步進電機相連的步進桿，步進桿上設置有穿刺轉頭。

5.根據權利要求4所述自反饋密封腔氣體取樣裝置，其特征在于：

所述步進桿與工作臺之間涂覆有真空酯。

6.根據權利要求2所述自反饋密封腔氣體取樣裝置，其特征在于：

所述密封圈為無氧銅或不銹鋼墊圈。