[實(shí)用新型]硅片清洗用的集中供熱系統(tǒng)和硅片清洗系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821075314.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208712384U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 但漢滿 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 阜寧協(xié)鑫光伏科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B08B3/10 | 分類(lèi)號(hào): | B08B3/10;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凱 |
| 地址: | 224400 江蘇省鹽*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清洗機(jī) 水漂洗 集中供熱系統(tǒng) 輸水 硅片清洗系統(tǒng) 硅片清洗 加熱裝置 控制系統(tǒng) 控制加熱裝置 本實(shí)用新型 循環(huán)再利用 供熱方式 集中加熱 加熱效率 熱水輸送 直接排放 作業(yè)效率 漂洗 上游 插片機(jī) 漂洗槽 水供給 水加熱 槽體 插片 料槽 水資源 運(yùn)轉(zhuǎn) 節(jié)約 應(yīng)用 | ||
本實(shí)用新型涉及一種硅片清洗用的集中供熱系統(tǒng)和硅片清洗系統(tǒng)。該集中供熱系統(tǒng)包括清洗機(jī)水漂洗槽、加熱裝置、輸水組件和控制系統(tǒng)。加熱裝置用于給清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的水加熱。輸水組件與清洗機(jī)水漂洗槽相連,用以將清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的熱水輸送給插片機(jī)上料槽。當(dāng)然,輸水組件也可將水供給上游側(cè)的上游漂洗槽使用??刂葡到y(tǒng)用于控制加熱裝置和輸水組件的運(yùn)轉(zhuǎn)。應(yīng)用該集中供熱系統(tǒng),可使插片機(jī)的作業(yè)效率得到提升。此外,清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的水經(jīng)過(guò)漂洗作業(yè)后沒(méi)有直接排放,而是循環(huán)再利用。這樣有利于節(jié)約水資源。而且,這種集中加熱和供熱方式也使得各個(gè)槽體的水溫上升速度都較快,加熱效率較高。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及供熱設(shè)備領(lǐng)域,特別是涉及硅片清洗用的集中供熱系統(tǒng)和硅片清洗系統(tǒng)。
背景技術(shù)
硅片清洗系統(tǒng)一般包括脫膠機(jī)、插片機(jī)和清洗機(jī)。目前,該系統(tǒng)在使用時(shí),插片機(jī)的插片機(jī)上料水槽如果水溫過(guò)低,會(huì)導(dǎo)致硅片上的硅粉不能脫離硅片表面,從而造成了分片困難和前側(cè)出水口容易堵塞。另外,當(dāng)水溫過(guò)低時(shí),現(xiàn)有做法是將插片機(jī)上料槽內(nèi)的水進(jìn)行大幅度更換。也就是切換插片機(jī)上料槽內(nèi)的水。切換過(guò)程中如果外界水源溫度也較低,還需要先對(duì)外界水源先加熱。這樣使得整個(gè)切換過(guò)程比較費(fèi)時(shí)。上述各方面因素使得插片機(jī)的作業(yè)效率較低。
實(shí)用新型內(nèi)容
基于此,有必要針對(duì)插片機(jī)作業(yè)效率較低的問(wèn)題,提供一種硅片清洗用的集中供熱系統(tǒng)。
一種硅片清洗用的集中供熱系統(tǒng),包括:
清洗機(jī)水漂洗槽;
加熱裝置,所述加熱裝置用于給所述清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的水加熱;
輸水組件,所述輸水組件與所述清洗機(jī)水漂洗槽相連,用以將所述清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的熱水輸送給插片機(jī)上料槽;
控制系統(tǒng),所述控制系統(tǒng)用于控制所述加熱裝置和輸水組件的運(yùn)轉(zhuǎn)。
上述集中供熱系統(tǒng)中,加熱裝置可對(duì)清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的水進(jìn)行加熱,清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的熱水可通過(guò)輸水組件輸送給插片機(jī)上料槽。這樣,熱水不僅可以供清洗機(jī)水漂洗槽使用,還可使插片機(jī)上料槽內(nèi)的水的溫度控制在一個(gè)合適范圍。從而有利于硅片上的硅粉脫離,使分片較為容易且前側(cè)出水口不容易堵塞。而且,插片機(jī)上料槽內(nèi)的水通過(guò)較短時(shí)間的切換就可保證水溫在一個(gè)合適范圍。上述因素使得插片機(jī)的作業(yè)效率得到提升。此外,清洗機(jī)水漂洗槽內(nèi)的水經(jīng)過(guò)漂洗作業(yè)后沒(méi)有直接排放,而是流經(jīng)插片機(jī)上料槽使用。這樣有利于節(jié)約水資源。而且,這種集中加熱和供熱方式使得各個(gè)槽體的水溫上升速度都較快,加熱效率較高。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,
所述輸水組件包括:
水箱,所述水箱通過(guò)溢流水管與所述清洗機(jī)水漂洗槽設(shè)置的熱水溢流口連通;
水泵,所述水泵與所述水箱相連;
第一水管,所述第一水管的一端與所述水泵相連,用以將水泵從水箱抽出的熱水輸送給插片機(jī)上料槽。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,還包括:
第二水管,所述第二水管一端與所述第一水管連通,用以將第一水管的熱水輸送給所述清洗機(jī)水漂洗槽上游側(cè)的上游漂洗槽。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述水箱內(nèi)設(shè)置有第一液位傳感器,所述控制系統(tǒng)根據(jù)接收到的第一液位傳感器發(fā)送的水箱液位信號(hào)控制水泵的運(yùn)轉(zhuǎn)。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一水管上設(shè)有控制閥;所述控制系統(tǒng)用于控制所述控制閥的開(kāi)啟程度。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,還包括設(shè)置在所述上游漂洗槽的第二液位傳感器;所述控制系統(tǒng)根據(jù)接收到的第二液位傳感器發(fā)送的漂洗槽液位信號(hào)控制所述控制閥的開(kāi)啟程度。
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