[實用新型]硅片清洗用的集中供熱系統和硅片清洗系統有效
| 申請號： | 201821075314.8 | 申請日： | 2018-07-06 |
| 公開（公告）號： | CN208712384U | 公開（公告）日： | 2019-04-09 |
| 發明（設計）人： | 但漢滿 | 申請（專利權）人： | 阜寧協鑫光伏科技有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/10 | 分類號： | B08B3/10;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 唐清凱 |
| 地址： | 224400 江蘇省鹽*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 清洗機 水漂洗 集中供熱系統 輸水 硅片清洗系統 硅片清洗 加熱裝置 控制系統 控制加熱裝置 本實用新型 循環再利用 供熱方式 集中加熱 加熱效率 熱水輸送 直接排放 作業效率 漂洗 上游 插片機 漂洗槽 水供給 水加熱 槽體 插片 料槽 水資源 運轉 節約 應用 | ||
1.一種硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，包括：
清洗機水漂洗槽；
加熱裝置，所述加熱裝置用于給所述清洗機水漂洗槽內的水加熱；
輸水組件，所述輸水組件與所述清洗機水漂洗槽相連，用于將所述清洗機水漂洗槽內的熱水輸送給插片機上料槽；
控制系統，所述控制系統用于控制所述加熱裝置和輸水組件的運轉。
2.根據權利要求1所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，
所述輸水組件包括：
水箱，所述水箱通過溢流水管與所述清洗機水漂洗槽設置的熱水溢流口連通；
水泵，所述水泵與所述水箱相連；
第一水管，所述第一水管的一端與所述水泵相連，用于將水泵從水箱抽出的熱水輸送給所述插片機上料槽。
3.根據權利要求2所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，還包括：
第二水管，所述第二水管的一端與所述第一水管連通，用于將所述第一水管的熱水輸送給所述清洗機水漂洗槽上游側的上游漂洗槽。
4.根據權利要求2或3所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，所述水箱內設置有第一液位傳感器，所述控制系統根據接收到的第一液位傳感器發送的水箱液位信號控制水泵的運轉。
5.根據權利要求3所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，所述第一水管上設有控制閥；所述控制系統用于控制所述控制閥的開啟程度。
6.根據權利要求5所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，還包括設置在所述上游漂洗槽的第二液位傳感器；所述控制系統根據接收到的第二液位傳感器發送的漂洗槽液位信號控制所述控制閥的開啟程度。
7.根據權利要求6所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，還包括設于所述插片機上料槽的溫度傳感器；所述控制系統根據收到的第二液位傳感器發送的漂洗槽液位信號以及溫度傳感器發送的溫度信號控制所述控制閥的開啟程度。
8.根據權利要求5所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，還包括設于所述插片機上料槽的溫度傳感器；所述控制系統根據收到的溫度傳感器發送的溫度信號控制所述控制閥的開啟程度。
9.根據權利要求3所述的硅片清洗用的集中供熱系統，其特征在于，
還包括位于所述清洗機水漂洗槽的下游側的下游漂洗槽，所述下游漂洗槽設有溢流結構，所述下游漂洗槽通過所述溢流結構使所述下游漂洗槽內的水溢流進入所述清洗機水漂洗槽。
10.一種硅片清洗系統，其特征在于，所述硅片清洗系統包括插片機和清洗機，以及如權利要求1至9中任意一項所述的集中供熱系統。
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