[實用新型]一種鈦旋轉靶

有效

• 申請號: 201821065048.0
• 申請日: 2018-07-06
• 公開（公告）號: CN208604200U
• 公開（公告）日: 2019-03-15
• 發明（設計）人: 張曉輝;丁拉會
• 申請（專利權）人: 寶雞市杰特瑞金屬材料有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京中濟緯天專利代理有限公司 11429
• 代理人: 石淑珍

本實用新型公開了一種鈦旋轉靶，包括第一銅輔助部、鈦靶主體、第二銅輔助部，所述第一銅輔助部、鈦靶主體、第二銅輔助部順次連接形成管狀結構，所述第一銅輔助部和第二銅輔助部為對稱結構，所述第一銅輔助部為臺階狀結構，包括第一直徑段、第二直徑段、第三直徑段，所述第一直徑段、第二直徑段、第三直徑段順次連接為一體結構，所述第一直徑段外側設置有外螺紋，所述第三直徑段外側設置有外螺紋，所述鈦靶主體采用高純鈦材料制成，所述鈦靶主體為T字形結構，其兩側端部設置有內螺紋，所述鈦靶主體兩側端部設置的內螺紋和第三直徑段外側設置的外螺紋配合連接，裝配簡單，使用方便，降低了成本。

技術領域

本實用新型屬于靶材技術領域，具體涉及一種鈦旋轉靶。

背景技術

物理氣相沉積PVD被廣泛地應用在光學、電子、信息等高端產業中，例如：集成電路、液晶顯示器、工業玻璃、照相機鏡頭、信息存儲、船舶、化工等。PVD中使用的金屬靶材組件則是集成電路、液晶顯示器等制造過程中最重要的原材料之一。鈦靶是一種比較典型的金屬靶材，鈦靶的抗腐蝕性能好，電磁屏蔽性能好。鈦靶廣泛應用在裝飾和功能鍍膜工業、平面顯示工業、光數據存儲工業、光通訊工業等行業,是一種具有高附加值的特種電子材料,國內外對優質高純度的靶材需求越來越大,具有良好的市場前景。

目前，軋制更大尺寸的濺射靶材在設備及技術上均超出了絕大多數靶材生產廠商的能力。平面靶材在濺射過程中只沿磁場回路發生刻蝕，在靶材表面形成跑道，靶材利用率最多在30％，而且平面靶材需要頻繁更換,難以進行連續生產；靶材與銅背板一般是通過釬焊的方式做綁定，綁定質量靶材與銅背板的綁定質量較差，影響后續鍍膜工藝的穩定性、成膜的質量等。

實用新型內容

本實用新型解決了現有技術的不足，提供一種鈦靶主體與銅輔助部通過螺紋配合連接的鈦旋轉靶，裝配簡單，使用方便。

本實用新型所采用的技術方案是：一種鈦旋轉靶，包括第一銅輔助部、鈦靶主體、第二銅輔助部，所述第一銅輔助部、鈦靶主體、第二銅輔助部順次連接形成管狀結構，所述第一銅輔助部和第二銅輔助部為對稱結構，所述第一銅輔助部為臺階狀結構，包括第一直徑段、第二直徑段、第三直徑段，所述第一直徑段、第二直徑段、第三直徑段順次連接為一體結構，所述第一直徑段的外徑小于第二直徑段的外徑，所述第一直徑段的內徑大于第二直徑段的內徑，所述第一直徑段外側設置有外螺紋，所述第三直徑段外徑小于第二直徑段外徑，所述第三直徑段內徑等于第二直徑段外徑，所述第三直徑段外側設置有外螺紋，所述鈦靶主體采用高純鈦材料制成，所述鈦靶主體為T字形結構，其兩端延伸的凸起環套設于第三直徑段外，所述鈦靶主體兩側端部設置有內螺紋，且所述鈦靶主體兩側端部設置的內螺紋和第三直徑段外側設置的外螺紋配合連接。

優選的，所述第一銅輔助部外側左端部設置有倒角，所述第二銅輔助部外側右端部設置有倒角。

更優選的，所述鈦靶主體長度為600mm。

相較于現有技術，本實用新型具有的有益效果：一種鈦旋轉靶，包括第一銅輔助部、鈦靶主體、第二銅輔助部，所述第一銅輔助部包括第一直徑段、第二直徑段、第三直徑段，所述第三直徑段外側設置有外螺紋，所述鈦靶主體兩側端部設置有內螺紋，所述鈦靶主體兩側端部設置的內螺紋和第三直徑段外側設置的外螺紋配合連接，鈦靶主體與銅輔助部不用通過釬焊的方式綁定，裝配方便，大大簡化了工藝程序，提高了效率，而且鈦靶使用后，拆除靶材廢料銅輔助部，銅輔助部可以二次使用，降低了成本；通過第三直徑段外側設置的外螺紋和鍍膜設備連接，簡單方便，所述鈦靶主體采用高純鈦材料制成，保證了金屬薄膜材料的性能。

附圖說明

圖1是本實用新型結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型進行詳細說明。