[實用新型]玻璃基板清洗系統有效
| 申請號: | 201821047024.2 | 申請日: | 2018-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN208866037U | 公開(公告)日: | 2019-05-17 |
| 發明(設計)人: | 郭向陽;郭鋒;劉文泰;魏德皇 | 申請(專利權)人: | 蕪湖東旭光電裝備技術有限公司;東旭光電科技股份有限公司;東旭集團有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B3/12;B08B1/04;B08B3/08 |
| 代理公司: | 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 蘇瑞;耿超 |
| 地址: | 241000 安徽省蕪*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 玻璃基板清洗 化學清洗單元 物理清洗 清潔度要求 玻璃基板 傳送機構 電子玻璃 干燥單元 清洗效果 清洗效率 依次連接 傳統的 基板 配合 | ||
本公開涉及一種玻璃基板清洗系統,該系統包括通過傳送機構依次連接的:物理清洗單元(1),化學清洗單元(2)和干燥單元(3)。本公開在玻璃基板清洗系統中增加化學清洗單元,配合傳統的物理清洗方法,大大提高了對玻璃基板的清洗效率,且清洗效果優異,尤其適用于清潔度要求高的電子玻璃基板。
技術領域
本公開涉及玻璃基板生產領域,具體地,涉及一種玻璃基板清洗系統。
背景技術
TFT-LCD玻璃基板一般具有較高的清潔度要求,因而對生產過程中的清洗要求很高。現有的玻璃清洗方式主要是通過刷洗、二流體清洗等,該方式清洗時間長,且難以將污漬完全清洗干凈,無法滿足玻璃基板高清潔度的要求。
實用新型內容
本公開的目的是提供一種玻璃基板清洗系統,以解決現有技術中清洗效果差的問題。
為了實現上述目的,本公開提供一種玻璃清洗系統,該系統包括通過傳送機構依次連接的:物理清洗單元,化學清洗單元和干燥單元。
可選地,所述物理清洗單元包括通過傳送機構連接的:高壓沖洗機構、盤刷沖洗機構、滾刷沖洗機構、二流體沖洗機構和超聲波沖洗機構。
可選地,所述化學清洗單元包括洗滌劑清洗機構,所述洗滌劑清洗機構包括延玻璃基板運行方向均勻設置的多個洗滌劑噴頭和通過管線與所述洗滌劑噴頭相連的洗滌劑輸送泵。
可選地,所述洗滌劑噴頭可在與所述玻璃基板平行的平面上延與所述玻璃基板運動方向相垂直的方向往復運動。
可選地,所述洗滌劑輸送泵包括酸性洗滌劑輸送泵和堿性洗滌劑輸送泵,所述酸性洗滌劑輸送泵和堿性洗滌劑輸送泵用于交替地向所述洗滌劑噴頭輸送酸性洗滌劑和堿性洗滌劑。
可選地,所述干燥單元包括風刀干燥機構。
可選地,所述系統還包括:通過傳送機構連接于所述干燥單元之后的除塵單元。
可選地,所述除塵單元包括相互平行且間隔設置的第一反光背板和第二反光背板,所述第一反光背板和第二反光背板的反光面相對設置,所述第一反光背板和第二反光背板的反光面上各自安裝有紫外線燈組和靜電消除器。
可選地,所述紫外線燈組包括平行設置的多個紫外線燈管;
所述靜電消除器包括沿玻璃的運動方向安裝在所述紫外線燈組的兩側的入口靜電消除器和出口靜電消除器。
可選地,所述入口靜電消除器和出口靜電消除器各自為離子風棒,所述離子風棒沿豎直方向安裝。
通過上述技術方案,本公開在玻璃基板清洗系統中增加化學清洗單元,配合傳統的物理清洗方法,大大提高了對玻璃基板的清洗效率,且清洗效果優異,尤其適用于清潔度要求高的電子玻璃基板。
本公開的其他特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。
附圖說明
附圖是用來提供對本公開的進一步理解,并且構成說明書的一部分,與下面的具體實施方式一起用于解釋本公開,但并不構成對本公開的限制。在附圖中:
圖1是本公開提供的玻璃基板清洗系統的一種具體實施方式的流程示意圖。
圖2是本公開提供的玻璃基板清洗系統中物理清洗單元的一種具體實施方式的流程示意圖。
圖3是本公開提供的玻璃基板清洗系統中化學清洗單元的一種具體實施方式的結構示意圖。
圖4是本公開提供的玻璃基板清洗系統中除塵單元的一種具體實施方式的結構示意圖。
附圖標記說明
1 物理清洗單元 11 高壓沖洗機構
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