[實用新型]一種基底支撐機構以及一種曝光裝置

有效

• 申請號: 201821040778.5
• 申請日: 2018-06-29
• 公開（公告）號: CN208283723U
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發明（設計）人: 王春蘭;趙燦武
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種基底支撐機構，其特征在于，所述基底支撐機構包括一具有鏤空部的基底支撐板和多個設于所述基底支撐板上的定位塊，所述基底支撐板與多個所述定位塊構成一容置空間；

所述基底支撐板具有一支撐面以及一與所述支撐面相連的端面，所述支撐面呈圓環或圓弧形狀并圍繞所述鏤空部，所述端面包括一傾斜面，所述傾斜面向遠離所述支撐面中心的方向傾斜。

2.如權利要求1所述的基底支撐機構，其特征在于，所述支撐面的截面寬度為0mm～1.86mm。

3.如權利要求1所述的基底支撐機構，其特征在于，所述定位塊具有一導向面，所述導向面對著所述鏤空部且向所述支撐面中心傾斜。

4.如權利要求1所述的基底支撐機構，其特征在于，所述定位塊個數為三個，三個所述定位塊呈三角形排布。

5.如權利要求1所述的基底支撐機構，其特征在于，所述傾斜面直接與所述支撐面相連；或者，所述端面還包括一豎直面，所述豎直面與所述支撐面垂直相連，所述傾斜面通過所述豎直面與所述支撐面相連。

6.一種曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置包括：一曝光機構、一框架機構以及至少一如權利要求1～5中任一項所述的基底支撐機構；

所述曝光機構和所述基底支撐機構均設置于所述框架機構內，并且所述基底支撐機構位于所述曝光機構上方。

7.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述基底支撐機構的數量為多個，多個所述基底支撐機構的所述支撐面均呈圓弧形狀且支撐面的大小不同，多個所述基底支撐機構之間按從小到大依次從上到下垂直布置，多個所述支撐面的開口朝同一方向。

8.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光機構包括：曝光光源和毛玻璃板，所述曝光光源位于所述毛玻璃板下方，所述基底支撐機構位于所述毛玻璃上方。

9.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置還包括一調平機構以及一安裝底板，所述框架機構固定在所述安裝底板上，所述調平機構連接所述框架機構和所述安裝底板并能夠調整所述框架機構和所述安裝底板之間的距離與傾斜。

10.如權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于，所述調平機構包括調平底板以及多個調平單元，多個所述調平單元呈一個或者多個三角形排布，所述調平單元穿過所述調平底板，所述框架機構固定在所述調平底板上方。

11.如權利要求10所述的曝光裝置，其特征在于，所述調平單元包括固定螺釘、調整螺栓、鎖緊螺母以及球面墊片，所述固定螺釘貫穿于所述調整螺栓，所述調平機構通過所述固定螺釘固定在所述安裝底板上，所述球面墊片套設在所述固定螺釘的底部且位于所述安裝底板的上方，所述鎖緊螺母位于所述固定螺釘的頂端。