[實用新型]一種冷卻站

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821040534.7
• 申請日: 2018-06-29
• 公開（公告）號: CN208478300U
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發(fā)明（設計）人: 薛榮華;闞保國;劉家樺;葉日銓
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海思捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本實用新型提供了一種冷卻站，包括：冷卻腔體；用于放置待冷卻物的支架，所述支架設置于所述冷卻腔體內(nèi)；以及用于偵測所述待冷卻物是否在預設位置范圍內(nèi)的偵測元件，所述偵測元件設置于所述冷卻腔體內(nèi)。本實用新型通過在冷卻腔體內(nèi)設置偵測元件，其用于偵測待冷卻物是否在預設位置范圍內(nèi)，以減少晶圓位置偏移造成晶圓破損，并降低機臺宕機率，提高晶圓生產(chǎn)效率。

技術領域

本實用新型涉及集成電路制造領域，特別是涉及一種冷卻站。

背景技術

隨著科技的快速發(fā)展，高科技電子產(chǎn)品使用于日常生活已是相當普遍，例如手機、主板、數(shù)字相機等電子產(chǎn)品，該類電子產(chǎn)品內(nèi)部皆裝設并布滿許多半導體器件，而半導體器件的材料來源就是晶圓，為了能夠滿足各式高科技電子產(chǎn)品的大量需求，故晶圓代工產(chǎn)業(yè)皆以如何更加快速且精確制造出晶圓為目標，不斷地進行研發(fā)與改良突破。

在晶圓的加工過程中，晶圓從工作腔體中出來時溫度一般在80℃至170℃之間，需要經(jīng)過冷卻站將溫度冷卻至一定范圍(例如是≤50℃)才可以進行后續(xù)操作。而當冷卻站整體發(fā)生傾斜未被及時糾正，以及，晶圓通過傳送手臂放入冷卻站或自冷區(qū)站取出時位置發(fā)生偏移，都會造成晶圓之間相互發(fā)生摩擦、碰撞或與冷卻站的腔體內(nèi)壁發(fā)生碰撞，從而造成晶圓破損，嚴重時甚至引起機臺宕機，影響晶圓生產(chǎn)效率。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種冷卻站，以減少因晶圓位置偏移造成晶圓破損，并降低機臺宕機率，提高晶圓生產(chǎn)效率。

為了解決上述問題，本實用新型提出了一種冷卻站，包括：冷卻腔體；用于放置待冷卻物的支架，所述支架設置于所述冷卻腔體內(nèi)；以及用于偵測所述待冷卻物是否在預設位置范圍內(nèi)的偵測元件，所述偵測元件設置于所述冷卻腔體內(nèi)。

可選的，所述冷卻腔體包括：相對設置的上內(nèi)壁和下內(nèi)壁；以及連接所述上內(nèi)壁和下內(nèi)壁多個側(cè)內(nèi)壁。

可選的，所述支架包括：多個凸起部分，所述多個凸起部分分別設置于所述冷卻腔體的多個側(cè)內(nèi)壁上，所述多個凸起部分共同構(gòu)成一承載面，所述承載面用于放置所述待冷卻物。

可選的，所述偵測元件包括：多對光電傳感器，每對光電傳感器分別設置在所述冷卻腔體的上內(nèi)壁和下內(nèi)壁，每對光電傳感器的連線均垂直于所述承載面，待冷卻物超出預設位置范圍時至少一對光電傳感器的信號被阻斷。

可選的，所述待冷卻物為晶圓，每三個凸起部分共同構(gòu)成一承載面。

可選的，所述偵測元件包括至少為3對光電傳感器。

可選的，所述冷卻腔體為長方體結(jié)構(gòu)。

可選的，所述冷卻腔體設置有用于待冷卻物出入的開口。

可選的，還包括：用于顯示所述偵測元件狀態(tài)的顯示元件，所述顯示元件設置于所述冷卻腔體上。

可選的，所述冷卻腔體的材質(zhì)為不銹鋼。

由于采用了以上技術方案，本實用新型具有以下有益效果：

本實用新型提供的一種冷卻站，通過在冷卻腔體內(nèi)設置偵測元件，其用于偵測待冷卻物(例如是晶圓)是否在預設位置范圍內(nèi)，以減少晶圓位置偏移造成晶圓破損，并降低機臺宕機率，提高晶圓生產(chǎn)效率。

附圖說明

圖1為本實用新型一實施例提供的冷卻站的示意圖；

圖2為本實用新型一實施例的光電傳感器的位置示意圖。

附圖標記說明：

100-冷卻腔體；101-上內(nèi)壁；102-下內(nèi)壁；104-后側(cè)內(nèi)壁；105-左側(cè)內(nèi)壁；106-右側(cè)內(nèi)壁；

200-偵測元件；210-光電傳感器；