[實(shí)用新型]一種用于干式和沉浸式光刻機(jī)防微振基礎(chǔ)座

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821038225.6
• 申請(qǐng)日: 2018-07-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208334911U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 何成偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 協(xié)偉集成電路設(shè)備（上海）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京權(quán)智天下知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11638
• 代理人: 王新愛(ài)

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于干式和沉浸式光刻機(jī)防微振基礎(chǔ)座，本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)合理簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、安裝方便，功能齊全，能滿足該光刻機(jī)對(duì)基礎(chǔ)座的剛性需求和防微震要求，以及提供其配套設(shè)備的安裝環(huán)境，確保了中國(guó)內(nèi)陸地區(qū)在引進(jìn)干式和沉浸式光刻機(jī)的時(shí)候，能夠提供干式和沉浸式光刻機(jī)正常運(yùn)行所需要的環(huán)境，從而保證了該光刻機(jī)的順利引進(jìn)以及安裝運(yùn)行，對(duì)中國(guó)內(nèi)陸地區(qū)的整個(gè)電子廠特別是半導(dǎo)體廠，使其中國(guó)內(nèi)陸地區(qū)整個(gè)行業(yè)的半導(dǎo)體產(chǎn)品制作工藝水平得到很好改善，并且同時(shí)也提速了中國(guó)內(nèi)陸的半導(dǎo)體制造工藝達(dá)到國(guó)際水平的進(jìn)程。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光刻機(jī)基礎(chǔ)座技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種用于干式和沉浸式光刻機(jī)防微振基礎(chǔ)座。

背景技術(shù)

在電子工業(yè)廠內(nèi)特別是在半導(dǎo)體行業(yè)中，干式和沉浸式光刻機(jī)是該行業(yè)中最為昂貴和最為精密的設(shè)備之一，決定半導(dǎo)體產(chǎn)品制造工藝水平高低的關(guān)鍵因素；該設(shè)備對(duì)工作環(huán)境極為嚴(yán)格；目前中國(guó)內(nèi)陸的電子工業(yè)廠，特別是半導(dǎo)體廠，該設(shè)備并沒(méi)有普及使用，主要還是出于設(shè)備價(jià)格昂貴以及其配套的基礎(chǔ)座工藝復(fù)雜等因素。其中由于該光刻機(jī)對(duì)基礎(chǔ)座制作精度和剛性要求非常嚴(yán)格，所以該設(shè)備配套的基礎(chǔ)座制作也非常復(fù)雜，導(dǎo)致在引進(jìn)該設(shè)備時(shí)，其配套的基礎(chǔ)座能否順利到位也是各個(gè)電子廠所遇到的難題。綜述上述問(wèn)題，這些問(wèn)題直接導(dǎo)致中國(guó)內(nèi)陸地區(qū)目前半導(dǎo)體制造工藝水平難以提升至很高水平，從而影響了國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體行業(yè)整體制造工藝水平快速提升的步伐。因此設(shè)計(jì)一款用于干式和沉浸式光刻機(jī)配套的基礎(chǔ)座的難題亟待解決。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的就在于為了解決上述問(wèn)題，而提供一種用于干式和沉浸式光刻機(jī)防微振基礎(chǔ)座。

為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種技術(shù)方案：一種用于干式和沉浸式光刻機(jī)防微振基礎(chǔ)座，包括光源媒介基礎(chǔ)座、主體單元基礎(chǔ)座和晶圓處理單元基礎(chǔ)座；所述主體單元基礎(chǔ)座的具體結(jié)構(gòu)為：包括主體單元基礎(chǔ)座吊裝孔內(nèi)嵌鐵塊、主體單元基礎(chǔ)座防震腳配件、主體單元基礎(chǔ)座不銹鋼配件、主體單元基礎(chǔ)座測(cè)試點(diǎn)內(nèi)嵌鐵塊、主體單元基礎(chǔ)座內(nèi)嵌配件C型鋼和主體單元基礎(chǔ)座面體；所述主體單元基礎(chǔ)座面體上表面以矩形陣列的方式設(shè)有四個(gè)主體單元基礎(chǔ)座吊裝孔內(nèi)嵌鐵塊、主體單元基礎(chǔ)座防震腳配件和主體單元基礎(chǔ)座不銹鋼配件；所述主體單元基礎(chǔ)座面體四周外側(cè)表面上均固定連接有一個(gè)主體單元基礎(chǔ)座內(nèi)嵌配件C型鋼；所述主體單元基礎(chǔ)座面體上表面上設(shè)有一個(gè)主體單元基礎(chǔ)座測(cè)試點(diǎn)內(nèi)嵌鐵塊；所述晶圓處理單元基礎(chǔ)座的具體結(jié)構(gòu)為：包括晶圓處理單元基礎(chǔ)座防震腳配件、晶圓處理單元基礎(chǔ)座面體、晶圓處理單元基礎(chǔ)座測(cè)試點(diǎn)內(nèi)嵌鐵塊和晶圓處理單元基礎(chǔ)座內(nèi)嵌配件C型鋼；所述晶圓處理單元基礎(chǔ)座面體上表面兩側(cè)均設(shè)有一個(gè)晶圓處理單元基礎(chǔ)座防震腳配件；所述晶圓處理單元基礎(chǔ)座面體上表面上設(shè)有一個(gè)晶圓處理單元基礎(chǔ)座測(cè)試點(diǎn)內(nèi)嵌鐵塊；所述晶圓處理單元基礎(chǔ)座面體外側(cè)表面的四周上均設(shè)有一個(gè)晶圓處理單元基礎(chǔ)座內(nèi)嵌配件C型鋼；所述光源媒介基礎(chǔ)座、主體單元基礎(chǔ)座和晶圓處理單元基礎(chǔ)座之間的具體連接關(guān)系為：所述主體單元基礎(chǔ)座設(shè)置在光源媒介基礎(chǔ)座上表面中端位置，所述晶圓處理單元基礎(chǔ)座設(shè)置在光源媒介基礎(chǔ)座上表面右側(cè)位置。