[實用新型]一種用于干式和沉浸式光刻機防微振基礎座

有效

• 申請號: 201821038225.6
• 申請日: 2018-07-02
• 公開（公告）號: CN208334911U
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發明（設計）人: 何成偉
• 申請（專利權）人: 協偉集成電路設備（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638
• 代理人: 王新愛

1.一種用于干式和沉浸式光刻機防微振基礎座，其特征在于：包括光源媒介基礎座(1)、主體單元基礎座(2)和晶圓處理單元基礎座(3)；

所述主體單元基礎座(2)的具體結構為：包括主體單元基礎座吊裝孔內嵌鐵塊(201)、主體單元基礎座防震腳配件(202)、主體單元基礎座不銹鋼配件(203)、主體單元基礎座測試點內嵌鐵塊(207)、主體單元基礎座內嵌配件C型鋼(211)和主體單元基礎座面體(216)；所述主體單元基礎座面體(216)上表面以矩形陣列的方式設有四個主體單元基礎座吊裝孔內嵌鐵塊(201)、主體單元基礎座防震腳配件(202)和主體單元基礎座不銹鋼配件(203)；所述主體單元基礎座面體(216)四周外側表面上均固定連接有一個主體單元基礎座內嵌配件C型鋼(211)；所述主體單元基礎座面體(216)上表面上設有一個主體單元基礎座測試點內嵌鐵塊(207)；

所述晶圓處理單元基礎座(3)的具體結構為：包括晶圓處理單元基礎座防震腳配件(31)、晶圓處理單元基礎座面體(32)、晶圓處理單元基礎座測試點內嵌鐵塊(33)和晶圓處理單元基礎座內嵌配件C型鋼(36)；所述晶圓處理單元基礎座面體(32)上表面兩側均設有一個晶圓處理單元基礎座防震腳配件(31)；所述晶圓處理單元基礎座面體(32)上表面上設有一個晶圓處理單元基礎座測試點內嵌鐵塊(33)；所述晶圓處理單元基礎座面體(32)外側表面的四周上均設有一個晶圓處理單元基礎座內嵌配件C型鋼(36)；

所述光源媒介基礎座(1)、主體單元基礎座(2)和晶圓處理單元基礎座(3)之間的具體連接關系為：所述主體單元基礎座(2)設置在光源媒介基礎座(1)上表面中端位置，所述晶圓處理單元基礎座(3)設置在光源媒介基礎座(1)上表面右側位置。

2.根據權利要求1所述的一種用于干式和沉浸式光刻機防微振基礎座，其特征在于：所述光源媒介基礎座(1)的具體結構為：包括第一光源媒介基礎座面板活動板(101)、第二光源媒介基礎座面板活動板(102)、第三光源媒介基礎座面板活動板(103)、第四光源媒介基礎座面板活動板(104)、第五光源媒介基礎座面板活動板(105)、第六光源媒介基礎座面板活動板(106)、第七光源媒介基礎座面板活動板(107)、光源媒介基礎座主面板(108)、第八光源媒介基礎座面板活動板(109)、第九光源媒介基礎座面板活動板(110)、第十光源媒介基礎座面板活動板(111)、第一光源媒介基礎座支撐立柱(112)、第二光源媒介基礎座支撐立柱(113)、第三光源媒介基礎座支撐立柱(114)、第四光源媒介基礎座支撐立柱(115)、L形不銹鋼配件(116)、光源媒介基礎座鋼構框架(117)、第五光源媒介基礎座支撐立柱(118)、不銹鋼連接件(119)、第六光源媒介基礎座支撐立柱(120)；

所述光源媒介基礎座主面板(108)的上表面左側設有第二光源媒介基礎座面板活動板(102)、第三光源媒介基礎座面板活動板(103)、第四光源媒介基礎座面板活動板(104)、第五光源媒介基礎座面板活動板(105)和第六光源媒介基礎座面板活動板(106)；

所述光源媒介基礎座主面板(108)的上表面右側設有第十光源媒介基礎座面板活動板(111)；

所述光源媒介基礎座主面板(108)的上表面中端位置上設有第一光源媒介基礎座面板活動板(101)、第七光源媒介基礎座面板活動板(107)、第八光源媒介基礎座面板活動板(109)和第九光源媒介基礎座面板活動板(110)；

所述光源媒介基礎座主面板(108)的下表面上設有第一光源媒介基礎座支撐立柱(112)、第二光源媒介基礎座支撐立柱(113)、第三光源媒介基礎座支撐立柱(114)、第四光源媒介基礎座支撐立柱(115)、第五光源媒介基礎座支撐立柱(118)和第六光源媒介基礎座支撐立柱(120)；所述第四光源媒介基礎座支撐立柱(115)與光源媒介基礎座主面板(108)之間連接有一個L形不銹鋼配件(116)；所述光源媒介基礎座主面板(108)外側表面四周上設有光源媒介基礎座鋼構框架(117)；所述光源媒介基礎座主面板(108)下表面上連接有一個不銹鋼連接件(119)。