[實用新型]一種MPCVD設備基板臺冷卻結(jié)構

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821029075.2
• 申請日: 2018-07-01
• 公開（公告）號: CN208949403U
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設計）人: 黃翀;范杰
• 申請（專利權）人: 長沙新材料產(chǎn)業(yè)研究院有限公司
• 主分類號: C23C16/511
• 分類號: C23C16/511
• 代理公司: 武漢智匯為專利代理事務所(普通合伙) 42235
• 代理人: 李恭渝

本實用新型涉及一種MPCVD設備基板臺冷卻結(jié)構，包括基板臺支撐臺、設置有冷卻液出口的冷卻管，還包括設置于冷卻液出口處的噴頭，所述噴頭的一端連接冷卻管，另一端設置有截面面積覆蓋基板臺支撐臺底面的噴口。本實用新型使冷卻液經(jīng)過冷卻管進入噴頭并儲存于噴頭內(nèi)，冷卻液均勻分布在基板臺底部，實現(xiàn)基板臺底部全覆蓋，進而使基板臺得以均勻冷卻。噴頭與冷卻管之間通過連接螺紋連接，噴口與基板臺支撐臺的距離通過連接螺紋進行調(diào)節(jié)，在流量不變的情況下，通過調(diào)節(jié)兩者的距離，可調(diào)節(jié)冷卻速度，距離大，冷卻速度慢；距離小，冷卻速度快，即根據(jù)需求調(diào)節(jié)冷卻效果。

技術領域

本實用新型涉及MPCVD(微波等離子體化學氣相沉積)設備中的冷卻結(jié)構，具體涉及一種MPCVD設備基板臺冷卻結(jié)構。

背景技術

MPCVD(微波等離子體化學氣相沉積)法是合成高質(zhì)量金剛石最具潛力的方法之一。MPCVD反設備是通過將微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波，經(jīng)波導傳輸系統(tǒng)進入反應設備的腔內(nèi)(反應腔)，往反應腔中通入甲烷和氫氣的混合氣體，在微波的激勵下，在反應腔內(nèi)產(chǎn)生輝光放電，使反應氣體的分子離化，產(chǎn)生等離子體，在基板臺沉積得到金剛石膜。基板臺的溫度均勻性影響金剛石膜的生長，基板臺冷卻均勻有利于保持基板臺的溫度均勻性，進而得到質(zhì)量好的金剛石膜。

目前基板臺冷卻結(jié)構為通過一根冷卻管，將冷卻液直接噴在基板臺底部冷卻管正上方區(qū)域，其余非冷卻管正上方區(qū)域的位置冷卻液覆蓋面積小，導致基板臺冷卻不均勻，而且冷卻速度的快慢也不能調(diào)節(jié)。

實用新型內(nèi)容

本實用新型是針對現(xiàn)有基板臺冷卻結(jié)構的缺點，提供基板臺冷卻均勻及冷卻速度可調(diào)節(jié)的一種MPCVD設備基板臺冷卻結(jié)構，包括基板臺支撐臺、設置有冷卻液出口的冷卻管，還包括設置于冷卻液出口處的噴頭，其特征在于所述噴頭的一端連接冷卻管，另一端設置有截面面積基本覆蓋基板臺支撐臺底面面積的噴口，所述噴頭與基板臺支撐臺之間還有縫隙，供冷卻液流出。

具體地，還包括支撐臺連接件、密封件、冷卻液排出管接頭，所述密封件用于基板臺支撐臺和支撐臺連接件的密封，所述冷卻液排出管接頭設置于支撐臺連接件的底部。

可選地，所述噴頭為漏斗型，所述噴口為漏斗的大端通口。

可選地，所述噴頭為漏斗型，在漏斗的大端口設置有噴口蓋，所述噴口蓋上設置有均勻分布的小通孔。

具體地，所述噴頭與基板臺支撐臺之間的縫隙寬度為2～15mm。

優(yōu)選地，所述噴頭與冷卻管之間活動連接，以便于調(diào)整噴口與基板臺支撐臺底面的距離。

具體地，所述噴頭與冷卻管之間活動連接為螺紋連接，噴口與基板臺支撐臺底面的距離通過連接螺紋進行調(diào)節(jié)。

本實用新型的一種MPCVD設備基板臺冷卻結(jié)構，使冷卻液經(jīng)過冷卻管進入噴頭并儲存于噴頭內(nèi)，冷卻液均勻分布在基板臺底部，實現(xiàn)基板臺底部全覆蓋，進而使基板臺得以均勻冷卻。噴頭與冷卻管之間通過連接螺紋連接，噴口與基板臺支撐臺的距離通過連接螺紋進行調(diào)節(jié)，在流量不變的情況下，通過調(diào)節(jié)兩者的距離，可調(diào)節(jié)冷卻速度，距離大，冷卻速度慢；距離小，冷卻速度快，即根據(jù)需求調(diào)節(jié)冷卻效果。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的基板臺冷卻結(jié)構示意圖；

圖2為圖1的B向A-A剖視圖；

圖3為在漏斗的大端口設置有噴口蓋的噴頭結(jié)構示意圖。

其中，1-基板臺；2-基板臺支撐臺(21-基板臺支撐臺底面)；3-噴頭(31-大端通口；32-噴口蓋；321-小通孔)；4-冷卻管(41-冷卻液出口)；5-密封件；6-支撐臺連接件；7-冷卻液排出管接頭。

具體實施方式

以下結(jié)合實施例對本實用新型作進一步描述。