[實用新型]鍍膜系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821007371.2
• 申請日: 2018-06-27
• 公開（公告）號: CN208617974U
• 公開（公告）日: 2019-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姚立柱;張津巖;楊曦曦;袁世成;張文
• 申請（專利權(quán)）人: 君泰創(chuàng)新(北京)科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C16/52;H01L31/18
• 代理公司: 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 邢惠童

本實用新型提供了一種鍍膜系統(tǒng)，屬于鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。所述鍍膜系統(tǒng)包括鍍膜腔室、控制設(shè)備、傳輸設(shè)備、第一基板檢測設(shè)備和第二基板檢測設(shè)備，其中：所述控制設(shè)備分別與所述傳輸設(shè)備、所述第一基板檢測設(shè)備和所述第二基板檢測設(shè)備電性連接；所述第一基板檢測設(shè)備安裝在所述鍍膜腔室的入口位置，所述第二基板檢測設(shè)備安裝在所述鍍膜腔室的出口位置；所述第一基板檢測設(shè)備和所述第二基板檢測設(shè)備的信號傳輸線路均垂直于所述傳輸設(shè)備的載板所在的平面。采用本實用新型，控制設(shè)備可以準(zhǔn)確控制承載基板的載板停止在預(yù)設(shè)位置處，從而，可以準(zhǔn)確控制鍍膜腔室的入口閥門和出口閥門的關(guān)閉與開啟，進(jìn)而有效避免了入口閥門或者出口閥門壓碎基板的情況。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種鍍膜系統(tǒng)。

背景技術(shù)

太陽能電池制備中，需要使用鍍膜系統(tǒng)在太陽能基板(以下統(tǒng)稱為基板)上鍍一層用于發(fā)電的膜。

如圖1所示，鍍膜系統(tǒng)通常包括鍍膜腔室01、控制設(shè)備(圖1中未示出)、傳輸設(shè)備(圖1中未示出)、第一基板檢測設(shè)備02和第二基板檢測設(shè)備03，其中，鍍膜腔室01的一側(cè)壁上設(shè)置有入口和入口閥門，與其相對的另一側(cè)壁上設(shè)置有出口和出口閥門，在入口與出口之間形成供傳輸設(shè)備的載板傳輸?shù)膫鬏斖罚?4放置在載板上，如圖1所示，第一基板檢測設(shè)備02和第二基板檢測設(shè)備03的信號傳輸線路(如檢測設(shè)備發(fā)射的激光形成的光傳輸線路，圖1中的虛線即為信號傳輸線路)平行于載板所在的平面且垂直于載板的傳輸方向(圖1中箭頭所指的方向)。

這樣，當(dāng)基板04通過入口進(jìn)入鍍膜腔室01時，由于基板04具有一定的厚度，會遮擋第一基板檢測設(shè)備02的一部分甚至全部的檢測信號，此時控制設(shè)備會檢測到第一基板檢測設(shè)備02的檢測信號小于預(yù)設(shè)強度閾值。隨后基板04繼續(xù)沿著傳輸通路向鍍膜腔室的內(nèi)部傳輸，當(dāng)基板04剛開始遮擋第二基板檢測設(shè)備03的一部分甚至全部的檢測信號，控制設(shè)備剛開始檢測到第一基板檢測設(shè)備02和第二基板檢測設(shè)備03的檢測信號均小于預(yù)設(shè)強度閾值時，控制傳輸設(shè)備停止傳輸，使承載基板04的載板停在預(yù)設(shè)位置處，控制設(shè)備再控制鍍膜腔室01的入口閥門關(guān)閉，然后對鍍膜腔室01內(nèi)的基板04進(jìn)行鍍膜處理。

在實現(xiàn)本實用新型的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)至少存在以下問題：

鍍膜系統(tǒng)中的各種設(shè)備在運行的過程中會不可避免的發(fā)生振動的情況，長時間使用之后會引起第一基板檢測設(shè)備或者第二基板檢測設(shè)備的位置發(fā)生偏移，例如，檢測通路位于傳輸通路的上方或者下方，這樣也會使控制設(shè)備檢測到的檢測信號小于預(yù)設(shè)強度閾值，導(dǎo)致控制設(shè)備不能準(zhǔn)確控制鍍膜腔室的入口閥門或者出口閥門的關(guān)閉與開啟，甚至還會出現(xiàn)入口閥門或者出口閥門壓碎基板的情況。

實用新型內(nèi)容

本實用新型實施例提供了一種鍍膜系統(tǒng)，以解決相關(guān)技術(shù)的問題。所述技術(shù)方案如下：

根據(jù)本實用新型實施例提供了一種鍍膜系統(tǒng)，所述鍍膜系統(tǒng)包括鍍膜腔室、控制設(shè)備、傳輸設(shè)備、第一基板檢測設(shè)備和第二基板檢測設(shè)備，其中：

所述控制設(shè)備分別與所述傳輸設(shè)備、所述第一基板檢測設(shè)備、所述第二基板檢測設(shè)備電性連接；

所述第一基板檢測設(shè)備安裝在所述鍍膜腔室的入口位置，所述第二基板檢測設(shè)備安裝在所述鍍膜腔室的出口位置；

所述第一基板檢測設(shè)備和所述第二基板檢測設(shè)備的信號傳輸線路均垂直于所述傳輸設(shè)備的載板所在的平面。

可選的，所述第一基板檢測設(shè)備包括第一信號收發(fā)器和第一信號反射板，所述第二基板檢測設(shè)備包括第二信號收發(fā)器和第二信號反射板；

所述第一信號收發(fā)器、所述第二信號收發(fā)器均與所述控制設(shè)備電性連接；