[實(shí)用新型]鍍膜系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821007371.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208617974U | 公開(公告)日: | 2019-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚立柱;張津巖;楊曦曦;袁世成;張文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 君泰創(chuàng)新(北京)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/54 | 分類號(hào): | C23C14/54;C23C16/52;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138 | 代理人: | 邢惠童 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)亦*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測(cè)設(shè)備 第二基板 第一基板 鍍膜腔室 傳輸設(shè)備 鍍膜系統(tǒng) 控制設(shè)備 本實(shí)用新型 出口閥門 入口閥門 準(zhǔn)確控制 載板 信號(hào)傳輸線路 承載基板 出口位置 電性連接 鍍膜技術(shù) 入口位置 預(yù)設(shè)位置 基板 壓碎 垂直 | ||
1.一種鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述鍍膜系統(tǒng)包括鍍膜腔室、控制設(shè)備、傳輸設(shè)備、第一基板檢測(cè)設(shè)備和第二基板檢測(cè)設(shè)備,其中:
所述控制設(shè)備分別與所述傳輸設(shè)備、所述第一基板檢測(cè)設(shè)備、所述第二基板檢測(cè)設(shè)備電性連接;
所述第一基板檢測(cè)設(shè)備安裝在所述鍍膜腔室的入口位置,所述第二基板檢測(cè)設(shè)備安裝在所述鍍膜腔室的出口位置;
所述第一基板檢測(cè)設(shè)備和所述第二基板檢測(cè)設(shè)備的信號(hào)傳輸線路均垂直于所述傳輸設(shè)備的載板所在的平面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述第一基板檢測(cè)設(shè)備包括第一信號(hào)收發(fā)器和第一信號(hào)反射板,所述第二基板檢測(cè)設(shè)備包括第二信號(hào)收發(fā)器和第二信號(hào)反射板;
所述第一信號(hào)收發(fā)器、所述第二信號(hào)收發(fā)器均與所述控制設(shè)備電性連接;
所述第一信號(hào)收發(fā)器安裝在所述鍍膜腔室的入口位置處的第一側(cè)壁上,所述第一信號(hào)反射板安裝在所述鍍膜腔室的入口位置處的第二側(cè)壁上,且所述第一信號(hào)收發(fā)器的位置與所述第一信號(hào)反射板的位置相對(duì)應(yīng),所述第一信號(hào)收發(fā)器的信號(hào)發(fā)射方向與所述第一信號(hào)反射板相垂直;
所述第二信號(hào)收發(fā)器安裝在所述鍍膜腔室的出口位置處的第一側(cè)壁上,所述第二信號(hào)反射板安裝在所述鍍膜腔室的出口位置處的第二側(cè)壁上,且所述第二信號(hào)收發(fā)器的位置與所述第二信號(hào)反射板的位置相對(duì)應(yīng),所述第二信號(hào)收發(fā)器的信號(hào)發(fā)射方向與所述第二信號(hào)反射板相垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述第一側(cè)壁上設(shè)置有與所述第一信號(hào)收發(fā)器相配合的第一通孔、與所述第二信號(hào)收發(fā)器相配合的第二通孔,所述第一信號(hào)收發(fā)器安裝在所述第一通孔中,所述第二信號(hào)收發(fā)器安裝在所述第二通孔中;
所述第二側(cè)壁上設(shè)置有與所述第一信號(hào)反射板相配合的第三通孔、與所述第二信號(hào)反射板相配合的第四通孔,所述第一信號(hào)反射板安裝在所述第三通孔中,所述第二信號(hào)反射板安裝在所述第四通孔中。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述第一通孔、所述第二通孔、所述第三通孔、所述第四通孔中均安裝有可被檢測(cè)信號(hào)穿透的隔離層;
所述第一信號(hào)收發(fā)器位于所述第一通孔中的隔離層遠(yuǎn)離所述載板的一面,所述第二信號(hào)收發(fā)器位于所述第二通孔中的隔離層遠(yuǎn)離所述載板的一面,所述第一信號(hào)反射板位于所述第三通孔中的隔離層遠(yuǎn)離所述載板的一面,所述第二信號(hào)反射板位于所述第四通孔中的隔離層遠(yuǎn)離所述載板的一面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述第一通孔的隔離層上與所述第一信號(hào)收發(fā)器相對(duì)應(yīng)的位置處設(shè)置有沿著信號(hào)發(fā)射方向的保護(hù)筒,所述第二通孔的隔離層上與所述第二信號(hào)收發(fā)器相對(duì)應(yīng)的位置處設(shè)置有沿著信號(hào)發(fā)射方向的保護(hù)筒。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述第一基板檢測(cè)設(shè)備包括第一信號(hào)發(fā)射器和第一信號(hào)接收器,所述第二基板檢測(cè)設(shè)備包括第二信號(hào)發(fā)射器和第二信號(hào)接收器;
所述第一信號(hào)發(fā)射器、所述第一信號(hào)接收器、所述第二信號(hào)發(fā)射器、所述第二信號(hào)接收器均為所述控制設(shè)備電性連接;
所述第一信號(hào)發(fā)射器安裝在所述鍍膜腔室的入口位置處的第一側(cè)壁上,所述第一信號(hào)接收器安裝在所述鍍膜腔室的入口位置處的第二側(cè)壁上,且所述第一信號(hào)發(fā)射器的位置與所述第一信號(hào)接收器的位置相對(duì)應(yīng);
所述第二信號(hào)發(fā)射器安裝在所述鍍膜腔室的出口位置處的第一側(cè)壁上,所述第二信號(hào)接收器安裝在所述鍍膜腔室的出口位置處的第二側(cè)壁上,且所述第二信號(hào)發(fā)射器的位置與所述第二信號(hào)接收器的位置相對(duì)應(yīng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述第一基板檢測(cè)設(shè)備和所述第二基板檢測(cè)設(shè)備的檢測(cè)信號(hào)所在的直線與所述載板沿著傳輸方向的中軸線垂直相交。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述鍍膜腔室為真空鍍膜腔室。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的鍍膜系統(tǒng),其特征在于,所述鍍膜系統(tǒng)還包括第一信號(hào)放大器和第二信號(hào)放大器;
所述第一基板檢測(cè)設(shè)備通過所述第一信號(hào)放大器與所述控制設(shè)備電性連接,所述第二基板檢測(cè)設(shè)備通過所述第二信號(hào)放大器與所述控制設(shè)備電性連接。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 天線檢測(cè)方法、檢測(cè)設(shè)備和待檢測(cè)設(shè)備
- 檢測(cè)設(shè)備和包括檢測(cè)設(shè)備的注射設(shè)備
- 一種設(shè)備檢測(cè)方法及檢測(cè)設(shè)備
- 一種室內(nèi)環(huán)境檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)方法、檢測(cè)程序和成像設(shè)備
- 檢測(cè)設(shè)備
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)方法和攝像設(shè)備
- 電源車檢測(cè)系統(tǒng)
- 接線檢測(cè)設(shè)備以及燈具檢測(cè)設(shè)備
- 接線檢測(cè)設(shè)備以及燈具檢測(cè)設(shè)備





