[實用新型]用于酸性蝕刻液循環再生銅回收系統中氯氣處理的系統

有效

• 申請號: 201821003989.1
• 申請日: 2018-06-27
• 公開（公告）號: CN208685056U
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 龍正;歐陽鋒;花慧洋
• 申請（專利權）人: 江蘇凈拓環保科技有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C25C1/12;C25C7/00;B01D53/78;B01D53/68
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 傅靖

本實用新型涉及了一種用于酸性蝕刻液循環再生銅回收系統中氯氣處理的系統。電解過程中生成的氯氣進行過三級處理，首先，電解后的刻蝕液在再生液處理系統中被濃縮分離出高酸度蝕刻液和低酸度蝕刻液，高酸度蝕刻液可直接用作蝕刻液，而低酸度蝕刻液在一級處理系統中與氯氣相混合生成高酸度蝕刻液，也被用作蝕刻液，降低了生產成本；未被完全溶解的氯氣再次與氫氧化鈉溶液混合，進一步降低氯氣的含量，最后，流經三級處理系統排入大氣，基本實現氯氣零排放，保護了大氣環境。另外，由于射流器的使用，大大提高了氯氣與低酸度蝕刻液或氫氧化鈉溶液的混合均勻性，提高了氯氣的吸收率。

技術領域

本實用新型涉及工業廢水、廢氣處理領域，特別涉及一種用于酸性蝕刻液循環再生銅回收系統中氯氣處理的系統。

背景技術

酸性蝕刻液是一種用于印制電路板精細線路制作、多層板內層制作的蝕刻液。在印刷電路板酸性蝕刻廢水的再生工藝中，電解槽陽極會生成大量氯氣，既污染了空氣，惡化了工作環境。市面上現有氯氣回收系統大多結構復雜，造價較高，且處理過程中不能有效地對氯氣進行二次利用，造成了資源浪費。因而，亟待技術人員解決上述問題。

實用新型內容

為了解決上述技術問題，本實用新型的目的在于提供一種用于酸性蝕刻液循環再生銅回收系統中氯氣處理的系統，其結構設計簡單，處理效率高，基本能實現零排放，且部分氯氣能夠得到二次利用，提高了資源利用率。

為了解決上述技術問題，本實用新型涉及了一種用于酸性蝕刻液循環再生銅回收系統中氯氣處理的系統，其由依序設置的一級處理系統，二級處理系統和三級處理系統構成。其中，一級處理系統包括低酸度刻蝕液存儲裝置，第一射流器及第一泵。低酸度刻蝕液在第一泵的作用下通過進行循環，第一射流器設置于第一泵的下游，生成真空度，經銅離子分離系統排出的氯氣自動進入第一射流器的吸入口，且與低酸度刻蝕液進行混合；二級處理系統包括氫氧化鈉溶液存儲裝置，第二射流器及第二泵；氫氧化鈉溶液在第二泵的作用下通過進行循環，第二射流器設置于第二泵的下游，生成真空度，經一級處理系統排出的氯氣自動進入第二射流器的吸入口與氫氧化鈉溶液進行混合；三級處理系統為塔處理系統，對經二級處理系統排出的氯氣進行最終處理。

電解過程中生成的氯氣進行過三級處理，首先，電解后的刻蝕液在再生液處理系統中被濃縮分離出高酸度蝕刻液和低酸度蝕刻液，高酸度蝕刻液可直接用作蝕刻液，而低酸度蝕刻液在一級處理系統中與氯氣相混合生成高酸度蝕刻液，也被用作蝕刻液，降低了生產成本；未被完全溶解的氯氣再次與氫氧化鈉溶液混合，進一步降低氯氣的含量，最后，流經三級處理系統排入大氣，基本實現氯氣零排放，保護了大氣環境。另外，由于射流器的使用，大大提高了氯氣與低酸度蝕刻液或氫氧化鈉溶液的混合均勻性，提高了氯氣的吸收率。

作為本實用新型的進一步改進，在低酸度刻蝕液存儲裝置內設置有第一噴淋裝置，用于對經銅離子分離系統排出，且未流經第一射流器的氯氣進行吸收。在氫氧化鈉溶液存儲裝置內設置有第二噴淋裝置，用于對經上述一級處理系統排出，且未流經第二射流器的氯氣進行吸收。第一噴淋裝置和第二噴淋裝置均包括多個呈線性排列的高壓噴頭，用于分別對低酸度刻蝕液、氫氧化鈉溶液進行霧化。

采用上述方式設置，將低酸度刻蝕液及氫氧化鈉溶液進行霧化，而后與氯氣進行溶合，從而盡可能地提高氯氣與低酸度刻蝕液及氫氧化鈉溶液之間的溶合度，提高氯氣溶解量。

作為本實用新型的進一步改進，高壓噴頭包括呈上大下小的圓錐形噴頭本體，在噴頭本體的內壁上開設有螺旋狀凹槽。

采用上述方式設置，使得低酸度刻蝕液及氫氧化鈉溶液通過高壓噴頭呈螺旋狀噴出，使其具有較大的運動動能，提高霧化程度。