[實用新型]一種表面覆膜的雙面單晶硅片

有效

• 申請號: 201820990414.7
• 申請日: 2018-06-26
• 公開（公告）號: CN208422938U
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發明（設計）人: 陳春成;戚建靜
• 申請（專利權）人: 江蘇晶品新能源科技有限公司
• 主分類號: H01L31/054
• 分類號: H01L31/054;H01L31/048;H01L31/041
• 代理公司: 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427
• 代理人: 陳娟

1.一種表面覆膜的雙面單晶硅片，包括連接板(1)，其特征在于：所述連接板(1)的內腔壁上開設有放置槽(2)，所述放置槽(2)的內腔均勻設置有三組橡膠環(3)，且三組橡膠環(3)從上到下依次呈線性排列，相鄰兩組所述橡膠環(3)之間設置有鋼化玻璃(4)，兩組所述鋼化玻璃(4)的相鄰面均設置有光學膠彈性層(5)，兩組所述光學膠彈性層(5)的相鄰面設置有硅片基體(6)，所述鋼化玻璃(4)遠離硅片基體(6)的一側設置有反射層(7)，所述反射層(7)遠離硅片基體(6)的一側設置有增透層(8)。

2.根據權利要求1所述的一種表面覆膜的雙面單晶硅片，其特征在于：所述連接板(1)的頂部和底部均設置有防護罩(9)，且防護罩(9)的豎截面呈圓弧形。

3.根據權利要求1所述的一種表面覆膜的雙面單晶硅片，其特征在于：增透層(8)遠離硅片基體(6)的一側均勻設置有凸塊(10)，且凸塊(10)矩形陣列排列，所述凸塊(10)為半球形凸塊。

4.根據權利要求3所述的一種表面覆膜的雙面單晶硅片，其特征在于：所述凸塊(10)遠離硅片基體(6)的一側設置有氮化硅膜，且氮化硅膜的厚度為七十五納米。

5.根據權利要求1所述的一種表面覆膜的雙面單晶硅片，其特征在于：所述反射層(7)包括壓花玻璃，且壓花玻璃靠近硅片基體(6)的一側設置有低折射率介質膜，且低折射率介質膜靠近硅片基體(6)的一側設置有高折射率介質膜。

6.根據權利要求2所述的一種表面覆膜的雙面單晶硅片，其特征在于：所述防護罩(9)遠離硅片基體(6)的一側設置有紫外線保護膜(11)。