[實用新型]一種磁控濺射設備

有效

• 申請號: 201820969086.2
• 申請日: 2018-06-22
• 公開（公告）號: CN208762572U
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發明（設計）人: 劉洋;汪振南;雷紹溫;楊永雷;見東偉;張偉;鄔英;劉福山;韓曉琳
• 申請（專利權）人: 山西米亞索樂裝備科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447
• 代理人: 陳慶超;桑傳標

本實用新型公開了一種磁控濺射設備，包括：設置在設備的真空腔室(1)內的網狀屏蔽板(2)；真空腔室(1)內包括一個或多個鍍膜腔(3)，網狀屏蔽板設置在鍍膜腔(3)內的側壁上，鍍膜腔(3)內的側壁還設置有防護板(4)，網狀屏蔽板(2)設置在防護板(4)外側。防護板(4)和屏蔽板(3)對磁控濺射靶(5)本身磁場和外部的干擾磁場形成高效電磁屏蔽，有利于磁控濺射靶(5)的平穩運行，同時避免了真空腔室(1)的氣體污染，而且安裝和拆卸簡單而快速。本實用新型為磁濺射設備生產線提供了重要的解決方案和途徑。

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射領域，尤其涉及一種磁控濺射設備。

背景技術

磁控濺射主要用于鍍膜，在各領域有廣泛的應用，如各種功能性薄膜、裝飾領域、微電子領域、光學領域、機械加工領域，都有大量的應用，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。

上世紀70年代發展起來的磁控濺射法實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射的工作原理是指：利用含氬的混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面，能量交換后，靶材表面的原子脫離原晶格而逸出，轉移到基體表面而成膜。

磁控濺射具有設備簡單、基片溫度低、易于控制、成膜速率高、鍍膜面積大和附著力強等優點。

國內傳統的磁控濺射設備都采用平面式防護板，此結構在真空鍍膜腔室運行一段時間后，會形成大量的濺射沉積物，積累在濺射靶附近，影響濺射靶正常工作，嚴重時引發濺射靶打火，當沉積物較多時，會導致真空室的氣氛不潔凈，引發真空度下降，造成生產質量故障。此外，目前的磁控濺射設備的真空腔室有以下缺點：1、因防護板固定在真空腔室門上，靠近濺射靶附件，生產中形成的沉積物容易干裂、褶皺、脫落，易引起濺射靶打火；2、該防護沒有粘接性，沉積物容易脫落，導致更換周期短；3、防護板安裝結構復雜，拆卸、更換工作量大；4、真空腔室的氣體容易被污染；5、真空腔室抗電磁干擾能力弱，電磁屏蔽效果差。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種磁控濺射設備。現有技術中存在如下缺陷：磁控濺射生產中形成的沉積物導致真空室的氣氛不潔凈，裝置結構復雜，拆卸和更換工作量大，而且抗電磁干擾能力弱，電磁屏蔽效果差。

為解決上述問題，本實用新型的第一方面提供了一種磁控濺射設備，包括：設置在設備的真空腔室內的網狀屏蔽板；所述真空腔室內包括一個或多個鍍膜腔，所述網狀屏蔽板設置在所述鍍膜腔內的側壁上。

進一步的，所述鍍膜腔內的側壁還設置有防護板，網狀屏蔽板設置在所述防護板的外側。

進一步的，網狀屏蔽板是由銅合金線通過交叉打結編織制成的網狀板。

進一步的，銅合金線的直徑為1～2mm。

進一步的，防護板為1.2～1.8㎜厚的鋼板。

進一步的，鍍膜腔的內壁上預留有安裝孔，用于安裝防護板和網狀屏蔽板。

進一步的，鍍膜腔的上下兩內壁設置有連接件，用于與防護板和網狀屏蔽板連接。

進一步的，鍍膜腔內設置有磁控濺射靶。

進一步的，鍍膜腔為四個。

進一步的，網狀屏蔽板和磁控濺射靶相隔距離為70～100mm。