[實(shí)用新型]一種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820962066.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208440688U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇艷波 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東泰高科裝備科技(北京)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩;吳歡燕 |
| 地址: | 102209 北京市昌平*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸發(fā)腔室 蒸發(fā)源 真空蒸發(fā)鍍膜 驅(qū)動(dòng)設(shè)備 本實(shí)用新型 腔室 驅(qū)動(dòng) 支架 真空鍍膜技術(shù) 腔室本體 有效減少 支撐 換料 取放 增設(shè) 維護(hù) 支出 | ||
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。所述真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備包括蒸發(fā)腔室,用于支撐所述蒸發(fā)腔室的腔室支架,以及用于驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源進(jìn)出所述蒸發(fā)腔室的驅(qū)動(dòng)設(shè)備。本實(shí)用新型的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,設(shè)置了腔室支架用于支撐蒸發(fā)腔室,還設(shè)置了用于驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源進(jìn)出所述蒸發(fā)腔室的驅(qū)動(dòng)設(shè)備,使蒸發(fā)源可以從腔室本體底部進(jìn)出蒸發(fā)腔室,維護(hù)或添料時(shí),所述驅(qū)動(dòng)設(shè)備用于驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源進(jìn)出蒸發(fā)腔室,便于維護(hù)和換料;驅(qū)動(dòng)設(shè)備的增設(shè),有效減少了人力支出,大大降低了人工取放和操作蒸發(fā)源的難度,尤其是大體積大質(zhì)量蒸發(fā)源的難度。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)
蒸發(fā)鍍膜法指在真空室中,加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到固體(稱為襯底或基片)表面,凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法,是太陽(yáng)能電池領(lǐng)域常用的鍍膜方法。傳統(tǒng)的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備經(jīng)常采用坩堝作為蒸發(fā)源,但坩堝體積較小,所盛放的蒸發(fā)材料較少,需要頻繁的填加蒸發(fā)材料,難以滿足太陽(yáng)能領(lǐng)域及產(chǎn)線鍍膜設(shè)備的產(chǎn)能要求。
目前,現(xiàn)有技術(shù)研制出較大體積的蒸發(fā)源,一次可以盛放較多蒸發(fā)材料,極大的延長(zhǎng)了換料時(shí)間。但較重的蒸發(fā)源材料,加之蒸發(fā)源本身質(zhì)量較大,不便于維護(hù)和換料。因此,有必要設(shè)計(jì)一種蒸發(fā)源固定裝置,可以將蒸發(fā)源置于其上,方便進(jìn)行維護(hù),降低人工操作難度。
實(shí)用新型內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
本實(shí)用新型旨在提供一種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,以解決大體積蒸發(fā)源由于質(zhì)量較大所導(dǎo)致的不易維護(hù)和蒸發(fā)操作的技術(shù)問(wèn)題。
(二)技術(shù)方案
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型提供了一種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,其包括蒸發(fā)腔室,用于支撐所述蒸發(fā)腔室的腔室支架,以及用于驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源進(jìn)出所述蒸發(fā)腔室的驅(qū)動(dòng)設(shè)備。
進(jìn)一步地,所述蒸發(fā)腔室包括腔室本體,所述腔室本體的底部設(shè)有供所述蒸發(fā)源通過(guò)的通孔,所述驅(qū)動(dòng)設(shè)備可驅(qū)動(dòng)所述蒸發(fā)源自所述通孔進(jìn)出所述腔室本體。在進(jìn)行蒸發(fā)工藝時(shí),蒸發(fā)源位于所述腔室本體下方;腔室本體內(nèi)部還水平設(shè)置了襯底,襯底位于蒸發(fā)源上部,且與進(jìn)入腔室本體內(nèi)的蒸發(fā)源頂部保持一定距離。
優(yōu)選的,所述蒸發(fā)腔室還包括腔室蓋,所述腔室蓋覆蓋于腔室本體頂部,且與腔室本體密封連接。優(yōu)選的,所述腔室本體置于所述腔室支架頂部,并通過(guò)螺栓與腔室支架連接。
優(yōu)選的,所述腔室支架水平置于平臺(tái)或水平地面上,并與平臺(tái)或水平地面固定連接。
進(jìn)一步地,所述驅(qū)動(dòng)設(shè)備包括用于驅(qū)動(dòng)所述蒸發(fā)源自所述通孔縱向進(jìn)出所述腔室本體的縱向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),以及用于驅(qū)動(dòng)所述蒸發(fā)源在所述蒸發(fā)腔室下方進(jìn)行橫向移動(dòng)的橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述縱向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連接,這樣確保了縱向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的聯(lián)動(dòng),縱向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可在橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的帶動(dòng)下橫向移動(dòng),使得整個(gè)驅(qū)動(dòng)設(shè)備的結(jié)構(gòu)更加緊湊。
進(jìn)一步地,所述縱向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括豎直導(dǎo)軌,用于承載所述蒸發(fā)源的托板,以及用于帶動(dòng)所述托板沿所述豎直導(dǎo)軌縱向滑動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件,所述豎直導(dǎo)軌與所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)相連接,且可在所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的帶動(dòng)下橫向移動(dòng)。優(yōu)選的,所述蒸發(fā)源通過(guò)螺栓安裝在所述托板上。
進(jìn)一步地,所述橫向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括水平導(dǎo)軌和底板,所述底板的底面可滑動(dòng)地設(shè)于所述水平導(dǎo)軌上,所述豎直導(dǎo)軌的底部設(shè)于所述底板的頂面上。
進(jìn)一步地,所述縱向驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括豎直滑塊,所述豎直滑塊的一端可滑動(dòng)地設(shè)于所述豎直導(dǎo)軌上,所述豎直滑塊的另一端與所述托板連接。優(yōu)選的,所述豎直滑塊的另一端通過(guò)螺栓與所述托板連接。
進(jìn)一步地,所述驅(qū)動(dòng)件包括第一絲杠和帶動(dòng)所述第一絲杠旋轉(zhuǎn)的電機(jī),所述第一絲杠與所述豎直導(dǎo)軌平行設(shè)置,所述豎直滑塊內(nèi)設(shè)有與所述第一絲杠的外螺紋相配合的內(nèi)螺紋,使得所述第一絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)帶動(dòng)所述豎直滑塊沿豎直導(dǎo)軌上下運(yùn)動(dòng);
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、顯示設(shè)備及其驅(qū)動(dòng)方法
- 顯示設(shè)備、驅(qū)動(dòng)設(shè)備及其驅(qū)動(dòng)方法
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備及具有該驅(qū)動(dòng)設(shè)備的透鏡驅(qū)動(dòng)設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備
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- 驅(qū)動(dòng)控制設(shè)備、驅(qū)動(dòng)設(shè)備和驅(qū)動(dòng)控制方法
- 驅(qū)動(dòng)電機(jī)(設(shè)備驅(qū)動(dòng))





