[實用新型]一種真空蒸發鍍膜設備

有效

• 申請號: 201820962066.2
• 申請日: 2018-06-21
• 公開（公告）號: CN208440688U
• 公開（公告）日: 2019-01-29
• 發明（設計）人: 蘇艷波
• 申請（專利權）人: 東泰高科裝備科技（北京）有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

1.一種真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，包括蒸發腔室，用于支撐所述蒸發腔室的腔室支架，以及用于驅動蒸發源進出所述蒸發腔室的驅動設備。

2.根據權利要求1所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述蒸發腔室包括腔室本體，所述腔室本體的底部設有供所述蒸發源通過的通孔，所述驅動設備可驅動所述蒸發源自所述通孔進出所述腔室本體。

3.根據權利要求2所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述驅動設備包括用于驅動所述蒸發源自所述通孔縱向進出所述腔室本體的縱向驅動機構，以及用于驅動所述蒸發源在所述蒸發腔室下方進行橫向移動的橫向驅動機構，所述縱向驅動機構與所述橫向驅動機構相連接。

4.根據權利要求3所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述縱向驅動機構包括豎直導軌，用于承載所述蒸發源的托板，以及用于帶動所述托板沿所述豎直導軌縱向滑動的驅動件，所述豎直導軌與所述橫向驅動機構相連接，且可在所述橫向驅動機構的帶動下橫向移動。

5.根據權利要求4所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述橫向驅動機構包括水平導軌和底板，所述底板的底面可滑動地設于所述水平導軌上，所述豎直導軌的底部設于所述底板的頂面上。

6.根據權利要求5所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述縱向驅動機構還包括豎直滑塊，所述豎直滑塊的一端可滑動地設于所述豎直導軌上，所述豎直滑塊的另一端與所述托板連接。

7.根據權利要求6所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述驅動件包括第一絲杠和帶動所述第一絲杠旋轉的電機，所述第一絲杠與所述豎直導軌平行設置，所述豎直滑塊內設有與所述第一絲杠的外螺紋相配合的內螺紋；

或者，所述驅動件為氣缸，所述氣缸的活塞桿與所述豎直導軌平行設置，所述活塞桿的伸縮端與所述豎直滑塊相連接；

或者，所述驅動件為電缸，所述電缸的絲杠與所述豎直導軌平行設置，所述豎直滑塊內設有與所述絲杠的外螺紋相配合的內螺紋。

8.根據權利要求7所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述豎直導軌的上端和下端分別連接有上端軸承和下端軸承，所述第一絲杠的上端與所述上端軸承的內圈固定連接，所述第一絲杠的下端與所述下端軸承的內圈固定連接，所述下端軸承設于所述底板的頂面上。

9.根據權利要求5-8任一項所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述水平導軌設于地面上或所述腔室支架上；

和/或，所述底板的底面通過水平滑塊可滑動地設于所述水平導軌上；

和/或，所述橫向驅動機構還包括第二絲杠，帶動所述第二絲杠旋轉的第二電機，以及安裝于所述底板上的固定塊，所述第二絲杠與水平導軌平行設置，所述固定塊內設有與第二絲杠的外螺紋相配合的內螺紋。

10.根據權利要求4所述的真空蒸發鍍膜設備，其特征在于，所述托板上設有支撐座，所述支撐座頂部設有法蘭，所述蒸發源設于所述法蘭上，所述法蘭的橫截面尺寸大于所述通孔的橫截面尺寸，且所述法蘭可通過緊固件與所述腔室本體的底部相連接，以在所述蒸發源進入所述腔室本體內時將所述通孔進行密封。