[實用新型]一種真空蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201820960342.1
• 申請日: 2018-06-21
• 公開（公告）號: CN208440687U
• 公開（公告）日: 2019-01-29
• 發明（設計）人: 蘇艷波;宋永明
• 申請（專利權）人: 東泰高科裝備科技（北京）有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

本實用新型涉及真空鍍膜領域，尤其涉及一種真空蒸鍍裝置。所述蒸鍍裝置包括蒸鍍腔體和驅動機構；所述蒸鍍腔體的底板上開設有供蒸鍍源通過的第一通孔，所述驅動機構可驅動所述蒸鍍源穿過所述第一通孔，并在所述蒸鍍腔體內上下移動。本實用新型的真空蒸鍍裝置，其縱向驅動機構可驅動蒸鍍源穿過第一通孔，并在蒸鍍腔體內上下移動，從而達到調節蒸鍍源與蒸鍍腔體內基片之間距離的目的，繼而達到合理控制鍍膜厚度的目的，提高了鍍膜效率和鍍膜質量。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜領域，尤其涉及一種應用于PVD臥式生產線的真空蒸鍍裝置。

背景技術

PVD技術在進行實施的過程當中，是通過對某種物理機制加以應用來在相關物體表面形成一層薄膜。比如通過對物質進行熱蒸發或者是物質表面原子受到粒子轟擊發生濺射現象。這能夠有效地實現物質從原物質到薄膜間的可控化的轉移。歸納總結為真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜三種方法。

蒸鍍是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。但是因為大多數腔體設備性能和指標相對都不能調節，導致其所制成的工藝設備的穩定性并不能合乎標準。會產生膜厚度大，功率高，時間長，wafer溫度高，膜料消耗量大，耗材成本高。

現有蒸鍍裝置是將蒸鍍源固定在腔體下方，進行從下而上蒸鍍，但是對于不同膜料，不同基片無法進行調節蒸鍍源與基片的距離，同時蒸鍍完成后無法進行急停，會導致鍍膜厚度增加。

實用新型內容

(一)要解決的技術問題

本實用新型要解決的是現有蒸鍍裝置無法調節蒸鍍源與蒸鍍腔體內的基片之間距離的技術問題。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種真空蒸鍍裝置，包括：

蒸鍍腔體，所述蒸鍍腔體內橫向設有基片，所述蒸鍍腔體的底板上開設有供蒸鍍源通過的第一通孔；

驅動機構，所述驅動機構可驅動所述蒸鍍源穿過所述第一通孔，并在所述蒸鍍腔體內上下移動，以調節所述蒸鍍源與所述基片之間的距離。

進一步地，所述驅動機構包括豎直導軌，用于承載所述蒸鍍源的托板，以及用于帶動所述托板沿所述豎直導軌作縱向往復滑動的驅動件。

進一步地，所述驅動機構還包括豎直滑塊，所述豎直滑塊的一端可滑動地設于所述豎直導軌上，所述豎直滑塊的另一端與所述托板連接，所述驅動件可驅動所述豎直滑塊沿所述豎直導軌上下滑動。

進一步地，所述驅動件包括絲杠和帶動所述絲杠旋轉的電機或電缸，所述絲杠與所述豎直導軌平行設置，所述豎直滑塊內設有與所述絲杠的外螺紋相配合的內螺紋。

進一步地，所述豎直導軌的上端和下端分別連接有上端軸承和下端軸承，所述絲杠的上端與所述上端軸承的內圈固定連接，所述絲杠的下端與所述下端軸承的內圈固定連接。

進一步地，所述真空蒸鍍裝置還包括支架，所述蒸鍍腔體和所述豎直導軌均設于所述支架上。

進一步地，所述真空蒸鍍裝置還包括可軸向伸縮的連接管，所述連接管的頂端與所述第一通孔的邊緣相連接，所述連接管的軸向內部用于供所述蒸鍍源穿過，所述連接管的底端用于與所述蒸鍍源的周向外圍相連接。

優選的，所述連接管為波紋管。

進一步地，所述真空蒸鍍裝置還包括用于遮擋所述蒸鍍源的蒸鍍源口的遮擋機構。

進一步地，所述遮擋機構包括磁流體密封件和帶動所述磁流體密封件旋轉的電機，所述磁流體密封件軸向穿過所述底板，且所述磁流體密封件的頂部橫向設有擋片；所述擋片位于所述基片的下方。