[實(shí)用新型]一種真空蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820960342.1
• 申請(qǐng)日: 2018-06-21
• 公開（公告）號(hào): CN208440687U
• 公開（公告）日: 2019-01-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇艷波;宋永明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東泰高科裝備科技（北京）有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

1.一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，包括：

蒸鍍腔體，所述蒸鍍腔體的底板上開設(shè)有供蒸鍍?cè)赐ㄟ^的第一通孔；

驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可驅(qū)動(dòng)所述蒸鍍?cè)创┻^所述第一通孔，并在所述蒸鍍腔體內(nèi)上下移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括豎直導(dǎo)軌，用于承載所述蒸鍍?cè)吹耐邪澹约坝糜趲?dòng)所述托板沿所述豎直導(dǎo)軌上下滑動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括豎直滑塊，所述豎直滑塊的一端可滑動(dòng)地設(shè)于所述豎直導(dǎo)軌上，所述豎直滑塊的另一端與所述托板連接，所述驅(qū)動(dòng)件可驅(qū)動(dòng)所述豎直滑塊沿所述豎直導(dǎo)軌上下滑動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)件包括絲杠和帶動(dòng)所述絲杠旋轉(zhuǎn)的電機(jī)或電缸，所述絲杠與所述豎直導(dǎo)軌平行設(shè)置，所述豎直滑塊內(nèi)設(shè)有與所述絲杠的外螺紋相配合的內(nèi)螺紋。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述豎直導(dǎo)軌的上端和下端分別連接有上端軸承和下端軸承，所述絲杠的上端與所述上端軸承的內(nèi)圈固定連接，所述絲杠的下端與所述下端軸承的內(nèi)圈固定連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括支架，所述蒸鍍腔體和所述豎直導(dǎo)軌均設(shè)于所述支架上。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括可軸向伸縮的連接管，所述連接管的頂端與所述第一通孔的邊緣相連接，所述連接管的軸向內(nèi)部用于供所述蒸鍍?cè)创┻^，所述連接管的底端用于與所述蒸鍍?cè)吹闹芟蛲鈬噙B接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，還包括用于遮擋所述蒸鍍?cè)吹恼翦冊(cè)纯诘恼趽鯔C(jī)構(gòu)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述遮擋機(jī)構(gòu)包括磁流體密封件和帶動(dòng)所述磁流體密封件旋轉(zhuǎn)的電機(jī)，所述磁流體密封件軸向穿過所述底板，且所述磁流體密封件的頂部橫向設(shè)有擋片。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍腔體還包括頂板和側(cè)板，所述底板和側(cè)板相互焊接成一個(gè)上端開口的腔體，所述頂板與所述腔體的上端開口可拆卸地連接。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍腔體還包括頂板安裝塊和側(cè)板安裝塊，所述頂板與所述頂板安裝塊可拆卸地連接，所述側(cè)板與所述側(cè)板安裝塊可拆卸地連接，所述頂板安裝塊可通過緊固件與所述側(cè)板安裝塊連接，從而將所述頂板連接在所述腔體的上端開口。