[實用新型]釉漿循環(huán)使用裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820956112.8
• 申請日: 2018-06-21
• 公開（公告）號: CN208395063U
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃歡
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南恒華電瓷電氣有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 何耀煌

本實用新型公開了一種釉漿循環(huán)使用裝置，它包括上釉桶、儲釉桶和抽釉裝置，所述上釉桶設(shè)置有上釉腔，所述上釉桶上設(shè)置有與上釉腔相連通并距離上釉腔的底壁具有一定高度的釉漿溢出槽；所述儲釉桶設(shè)置有儲釉腔，所述上釉桶內(nèi)從釉漿溢出槽溢出的釉漿回流至儲釉桶中；所述抽釉裝置用于將儲釉腔內(nèi)的釉料抽回上釉腔中。本實用新型不僅能夠使釉漿循環(huán)使用，并且能夠保持上釉桶中的釉面高度不變。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種釉漿循環(huán)使用裝置。

背景技術(shù)

目前，行業(yè)內(nèi)釉坯機釉桶的釉面高度只能依靠工人手動用桶往釉桶里加釉來維持，依靠人眼來目測釉面高度是肯定不準確的，而且工人不一定及時給釉桶加釉，所以產(chǎn)品的釉面高度是無法保持一致的。

另外，在上釉過程中，釉是比較容易沉淀的，因此釉桶里的釉是需要不定時攪拌的，目前也只能依靠工人手動進行攪拌。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種釉漿循環(huán)使用裝置，它不僅能夠使釉漿循環(huán)使用，并且能夠保持上釉桶中的釉面高度不變。

本實用新型解決上述技術(shù)問題采取的技術(shù)方案是：一種釉漿循環(huán)使用裝置，它包括：

上釉桶，所述上釉桶設(shè)置有上釉腔，所述上釉桶上設(shè)置有與上釉腔相連通并距離上釉腔的底壁具有一定高度的釉漿溢出槽；

儲釉桶，所述儲釉桶設(shè)置有儲釉腔，所述上釉桶內(nèi)從釉漿溢出槽溢出的釉漿回流至儲釉桶中；

抽釉裝置，所述抽釉裝置用于將儲釉腔內(nèi)的釉料抽回上釉腔中。

進一步為了使上釉桶內(nèi)的釉漿能夠順利的回流至儲釉桶內(nèi)，所述儲釉桶的回流釉漿口低于所述釉漿溢出槽，所述上釉桶內(nèi)從釉漿溢出槽溢出的釉漿通過回流釉漿口回流至儲釉桶中。

進一步為了便于保證釉漿從上釉桶流回到儲釉桶中釉漿是干凈細度合格的，所述儲釉桶的回流釉漿口處設(shè)置有網(wǎng)篩，所述釉漿溢出槽溢出的釉漿先經(jīng)過網(wǎng)篩再通過回流釉漿口回流至儲釉桶中。

進一步，所述儲釉桶上設(shè)置有支撐組件，所述網(wǎng)篩安裝在支撐組件上。

進一步提供了一種抽釉裝置的具體結(jié)構(gòu)，所述抽釉裝置包括泵和出漿管道，所述泵設(shè)置在儲釉桶中，所述出漿管道的進口與所述泵的出口相連接，所述出漿管道的出口通入上釉桶中。

進一步為了使儲釉桶進入上釉桶中的釉漿能夠形成噴射效果，從而避免上釉桶中的釉出現(xiàn)沉淀現(xiàn)象，所述上釉桶在其底部設(shè)置有環(huán)形噴釉管道，所述環(huán)形噴釉管道上設(shè)置有噴釉孔，所述出漿管道的出口與所述環(huán)形噴釉管道相連通。

采用了上述技術(shù)方案后，開始上釉時，先啟動儲釉桶中的泵，儲釉桶中的釉會通過與泵連接的出漿管道被抽送到上釉桶底部的環(huán)形噴射管道中然后對上釉桶底部形成噴射現(xiàn)象，使得上釉桶里釉不停的流動，達到自動攪拌的效果，隨著上釉桶中的釉不斷增多，上釉桶中的釉漿會自動從上釉桶1側(cè)壁的釉漿溢出槽處溢出，并且溢出的釉漿由于上釉桶和儲釉桶之間存在高低落差會自動流回到儲釉桶中的網(wǎng)篩，啟動釉坯機開始對產(chǎn)品進行上釉，上釉桶中使用過的釉漿經(jīng)過儲釉桶中的網(wǎng)篩過篩后會變成干凈且細度合格的可上釉漿回到儲釉桶待使用，所以利用本實用新型裝置就可以達到讓釉漿重復(fù)循環(huán)使用的效果。

附圖說明

圖1為本實用新型的釉漿循環(huán)使用裝置的立體圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實施例并結(jié)合附圖，對本實用新型作進一步詳細的說明。

如圖1所示，一種釉漿循環(huán)使用裝置，它包括：

上釉桶1，所述上釉桶1設(shè)置有上釉腔，所述上釉桶1上設(shè)置有與上釉腔相連通并距離上釉腔的底壁具有一定高度的釉漿溢出槽2；