[實用新型]釉漿循環使用裝置有效
| 申請號： | 201820956112.8 | 申請日： | 2018-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN208395063U | 公開（公告）日： | 2019-01-18 |
| 發明（設計）人： | 黃歡 | 申請（專利權）人： | 湖南恒華電瓷電氣有限公司 |
| 主分類號： | C04B41/86 | 分類號： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人： | 何耀煌 |
| 地址： | 412200 湖南省*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 上釉 釉漿 循環使用裝置 本實用新型 溢出槽 抽回 底壁 腔內 釉料 釉面 溢出 | ||
1.一種釉漿循環使用裝置，其特征在于，它包括：
上釉桶(1)，所述上釉桶(1)設置有上釉腔，所述上釉桶(1)上設置有與上釉腔相連通并距離上釉腔的底壁具有一定高度的釉漿溢出槽(2)；
儲釉桶(6)，所述儲釉桶(6)設置有儲釉腔，所述上釉桶(1)內從釉漿溢出槽(2)溢出的釉漿回流至儲釉桶(6)中；
抽釉裝置，所述抽釉裝置用于將儲釉腔內的釉料抽回上釉腔中。
2.根據權利要求1所述的釉漿循環使用裝置，其特征在于：所述儲釉桶(6)的回流釉漿口低于所述釉漿溢出槽(2)，所述上釉桶(1)內從釉漿溢出槽(2)溢出的釉漿通過回流釉漿口回流至儲釉桶(6)中。
3.根據權利要求2所述的釉漿循環使用裝置，其特征在于：所述儲釉桶(6)的回流釉漿口處設置有網篩(5)，所述釉漿溢出槽(2)溢出的釉漿先經過網篩(5)再通過回流釉漿口回流至儲釉桶(6)中。
4.根據權利要求3所述的釉漿循環使用裝置，其特征在于：所述儲釉桶(6)上設置有支撐組件，所述網篩(5)安裝在支撐組件上。
5.根據權利要求1所述的釉漿循環使用裝置，其特征在于：所述抽釉裝置包括泵和出漿管道(4)，所述泵設置在儲釉桶(6)中，所述出漿管道(4)的進口與所述泵的出口相連接，所述出漿管道(4)的出口通入上釉桶(1)中。
6.根據權利要求5所述的釉漿循環使用裝置，其特征在于：所述上釉桶(1)在其底部設置有環形噴釉管道(3)，所述環形噴釉管道(3)上設置有噴釉孔，所述出漿管道(4)的出口與所述環形噴釉管道(3)相連通。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于湖南恒華電瓷電氣有限公司，未經湖南恒華電瓷電氣有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820956112.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
