[實用新型]一種氣相沉積裝置有效
| 申請號: | 201820933204.4 | 申請日: | 2018-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN208532926U | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發明(設計)人: | 葉侃 | 申請(專利權)人: | 南通常安能源有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/00 | 分類號: | C23C16/00;C23C16/52 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 226000 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應管 加熱爐 支撐架 流量計 轉軸 動力機構 液壓表 蓋板 本實用新型 沉積裝置 控制閥 工作效率 | ||
本實用新型公開了一種氣相沉積裝置,其包括動力機構、真空流量計、連接塊、支撐架、轉軸、加熱爐、反應管、蓋板、控制閥、泵、液壓表,動力機構與真空流量計相連,動力機構、真空流量計都與連接塊相連,連接塊與多個支撐架相連,支撐架與反應管相連,連接塊與多個轉軸相連,轉軸位于支撐架一側,泵安裝在反應管一端,蓋板與反應管的另一端相連,蓋板與控制閥相連,加熱爐、液壓表都安裝在反應管上,加熱爐位于液壓表一側,加熱爐與多個轉軸相連等。本實用新型能夠提高工作效率,且操作簡單。
技術領域
本實用新型涉及一種化工設備,特別是涉及一種氣相沉積裝置。
背景技術
氣相沉積裝置主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。但現有的氣相沉積裝置工作效率差,且操作復雜。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是提供一種氣相沉積裝置,其能夠提高工作效率,且操作簡單。
本實用新型是通過下述技術方案來解決上述技術問題的:一種氣相沉積裝置,其包括動力機構、真空流量計、連接塊、支撐架、轉軸、加熱爐、反應管、蓋板、控制閥、泵、液壓表,動力機構與真空流量計相連,動力機構、真空流量計都與連接塊相連,連接塊與多個支撐架相連,支撐架與反應管相連,連接塊與多個轉軸相連,轉軸位于支撐架一側,泵安裝在反應管一端,蓋板與反應管的另一端相連,蓋板與控制閥相連,加熱爐、液壓表都安裝在反應管上,加熱爐位于液壓表一側,加熱爐與多個轉軸相連,其中:
動力機構包括軸承、齒輪、轉子、渦輪,齒輪、轉子、渦輪都與軸承相連,齒輪與轉子相連,轉子與渦輪相連。
優選地,所述動力機構、真空流量計、加熱爐上都設有顯示器。
優選地,所述加熱爐上設有多個圓孔。
優選地,所述動力機構、真空流量計上都設有底座。
優選地,所述真空流量計上設有小孔。
優選地,所述真空流量計通過管道與反應管相連。
本實用新型的積極進步效果在于:本實用新型能夠提高工作效率,且操作簡單,結構簡單,成本低,體積小。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖。
圖2為本實用新型流量計結構的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖給出本實用新型較佳實施例,以詳細說明本實用新型的技術方案。
如圖1至圖2所示,本實用新型氣相沉積裝置包括動力機構1、真空流量計2、連接塊3、支撐架4、轉軸5、加熱爐6、反應管7、蓋板8、控制閥9、泵10、液壓表11,動力機構1與真空流量計2相連,動力機構1、真空流量計2都與連接塊3相連,連接塊3與多個支撐架4相連,支撐架4與反應管7相連,連接塊3與多個轉軸5相連,轉軸5位于支撐架4一側,泵10安裝在反應管7一端,蓋板8與反應管7的另一端相連,蓋板8與控制閥9相連,加熱爐6、液壓表11都安裝在反應管7上,加熱爐6位于液壓表11一側,加熱爐6與多個轉軸5相連,其中:
動力機構1包括軸承17、齒輪12、轉子13、渦輪14,齒輪12、轉子13、渦輪14都與軸承17相連,齒輪12與轉子13相連,轉子13與渦輪14相連。
所述動力機構1、真空流量計2、加熱爐6上都設有顯示器,這樣方便顯示。
所述加熱爐6上設有多個圓孔,這樣方便與轉軸5、反應管7相連,從而方便使用。
所述動力機構1、真空流量計2上都設有底座,這樣方便固定。
所述真空流量計2上設有小孔,這樣方便氣體流入真空流量計2中。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于南通常安能源有限公司,未經南通常安能源有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820933204.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種雙面物理氣相沉積鍍膜設備
- 下一篇:一種防止晶圓片襯底翹曲的反應腔體
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





