[實用新型]一種減反射鍍膜結構

有效

• 申請號: 201820914259.0
• 申請日: 2018-06-13
• 公開（公告）號: CN208649456U
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 劉雙;張榮光;胡冰;杜彥
• 申請（專利權）人: 天津南玻節能玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;C03C17/34
• 代理公司: 天津濱?？凭曋R產權代理有限公司 12211
• 代理人: 李莎

本實用新型提供一種減反射鍍膜結構，在透明基片的一面或兩面，各自獨立鍍制有減反射功能膜層，所述減反射功能膜層自玻璃基片向外依次為中折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層。本實用新型在有效降低玻璃表面反射的同時，降低大角度范圍內干擾色變化，使整體膜層具有可鋼化及可彎鋼性能，實現最大尺寸為3.3m*12m減反射玻璃的生產。

技術領域

本實用新型屬于玻璃深加工技術領域，具體涉及一種大角度范圍內單色調的減反射光學鍍膜玻璃。

背景技術

目前，對于減反射膜及減反射鍍膜結構產品的制備，一般是采用化學方法及物理方法兩種方式進行制備?；瘜W方法一般是采用溶膠凝膠法或使用有機噴涂等方式，使減反層置于玻璃表面，從而實現玻璃或其它基片具有減反射效果，如專利CN103782203A，2017年5月7日公開，及CN102533040A，2012年7月4日公開等。而現有物理鍍膜方法主要是采用濺射的方式，將減反射層鍍制在玻璃或其它基底的表面，從而達到減反射效果，但該類專利技術，都是采用純無機材料高/低或者低/高折射率搭配形式，用濺射成膜的方式實現減反射效果，膜層厚度較厚，結構較為復雜，一般至少為5層膜結構，甚至更多。這類膜層結構具有諸多缺陷：(1)嚴重影響生產效率及生產質量，同時存在調試難度較大，調試時間長等問題，不利于減反射鍍膜結構的大面積生產；(2)減反射效率低，效果不顯著，透過率沒有顯著增加；(3)膜層結構復雜，難以進行鋼化處理；(4)大角度觀察范圍內容易出現色調變化大，容易出現跨軸變色或發紅現象；(5)膜層表面易劃傷磨損，不易清潔。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種減反射鍍膜結構，能夠通過合理的膜層結構及光譜設計優化，簡化膜層結構，采用磁控濺射或其它的物理或化學沉積方式，將其逐層鍍制在玻璃表面，在有效降低玻璃表面反射的同時，降低大角度范圍內干擾色變化。并通過材料選取、濺射方式及氣氛的調整，使整體膜層具有可鋼化及可彎鋼性能，從而實現最大尺寸為3.3m*12m減反射玻璃的生產，實現先鍍后鋼的加工流程，大大提高了生產效率，并降低了生產成本。

本實用新型的減反射鍍膜結構，在玻璃基片的一面或兩面，各自獨立鍍制有減反射功能膜層，所述減反射功能膜層自玻璃基片向外依次為中折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層。

其中，所述玻璃基片的折射率在1.5-1.52之間，是鍍膜層的承載基體，厚度優選在3-20mm之間，也可以為其他形式的基片，如有機透明塑料等，玻璃表面優選進行清洗拋光處理，有助于提高與膜層的結合強度。

其中，所述中折射率膜層的折射率在1.6-1.75之間，折射率較玻璃基片略高。膜層厚度在80-92nm之間。優選的膜層材料為SiNxOy、SiBNxOy、SiTiNxOy、SiAlNxOy、SiZrNxOy。采用磁控濺射進行鍍膜時，靶材選自Si、SiB、SiTi、SiAl、SiZr中的一種或幾種，其中SiB靶中B的含量為0.4-0.6w％，SiTi靶中Ti的含量為10-20w％，SiAl靶中Al的含量為5-15w％，SiZr靶中Zr的含量為20-40w％，濺射成膜時在氧氣、氮氣和氬氣氣氛下成膜，氧氣和氮氣的體積比為1:4-2:3，Ar氣量為400-800sccm。

其中，所述高折射率膜層的折射率在2.0-2.5之間。膜層厚度在125-140nm之間。優選的膜層材料為SiNx、SiAlNx、SiBNx、SiTiNx、SiZrNx、TiOx、NbOx、ZrOx。采用磁控濺射進行鍍膜時，靶材選自Si、SiAl、SiB、SiTi、SiZr時，在氮氣氣氛下濺射成膜，形成膜層為SiNx、SiAlNx、SiBNx、SiTiNx、SiZrNx；靶材選自TiOx、NbOx、ZrOx時，在氬氣和微氧氣(氧氣濃度2～10v％)氣氛下濺射成膜，形成膜層仍為TiOx、NbOx、ZrOx。