[實用新型]一種減反射鍍膜結構

有效

• 申請號: 201820914259.0
• 申請日: 2018-06-13
• 公開（公告）號: CN208649456U
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 劉雙;張榮光;胡冰;杜彥
• 申請（專利權）人: 天津南玻節能玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;C03C17/34
• 代理公司: 天津濱海科緯知識產權代理有限公司 12211
• 代理人: 李莎

1.一種減反射鍍膜結構，在透明基片的一面或兩面，各自獨立鍍制有減反射功能膜層，所述減反射功能膜層自玻璃基片向外依次為中折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層。

2.根據權利要求1所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述透明基片的折射率在1.5-1.52之間，厚度在3-20mm之間，所述透明基片為玻璃或有機透明塑料。

3.根據權利要求1所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述中折射率膜層的折射率在1.6-1.75之間，所述高折射率膜層的折射率在2.0-2.5之間，所述低折射率膜層的折射率在1.45-1.5之間。

4.根據權利要求1所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述中折射率膜層的膜層厚度在80-92nm之間，所述高折射率膜層的膜層厚度在125-140nm之間，所述低折射率膜層的膜層厚度在80-100nm之間。

5.根據權利要求1所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述中折射率膜層的膜層材料為SiNxOy、SiBNxOy、SiTiNxOy、SiAlNxOy、SiZrNxOy，所述高折射率膜層的膜層材料為SiNx、SiAlNx、SiBNx、SiTiNx、SiZrNx、TiOx、NbOx、ZrOx，所述低折射率膜層的膜層材料為SiOx、SiBOx、SiTiOx、SiAlOx、SiZrOx。

6.根據權利要求1所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述中折射率膜層和高折射率膜層的折射率差值大于0.3，所述高折射率膜層和低折射率膜層的折射率差值大于0.5。

7.根據權利要求1所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述中折射率膜層、高折射率膜層、低折射率膜層中，其中至少兩個相鄰膜層中含有相同的組成元素。

8.根據權利要求1所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述減反射功能膜層之上還設置有保護膜層，所述保護膜層的折射率在1.4-2.3之間，厚度在2-20nm之間。

9.根據權利要求8所述的減反射鍍膜結構，其特征在于，所述保護膜層的材料為SiC、ZrOx、易清潔膜、或防指紋液膜。