[實用新型]一種接觸式曝光用防粘鉻版

有效

• 申請號: 201820900218.6
• 申請日: 2018-06-12
• 公開（公告）號: CN208207511U
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 崔子龍;俎阿敏;劉威;吳德生
• 申請（專利權）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 鄧義華;廖苑濱

本實用新型提供的接觸式曝光用防粘鉻版，在鉻版最下表面設置一層二氧化硅—含氟聚合物復合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷復合薄膜，由于二氧化硅—含氟聚合物復合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷復合薄膜具有極低的表面張力，與光刻膠之間沒有粘性，因此，可以有效避免在接觸曝光時鉻版與光刻膠之間的粘附現象，從而杜絕了鉻版被污染、光刻膠發生脫落和變形、光刻膠與鉻版難以分離現象的發生，解決了傳統鉻版在接觸曝光過程中生產效率低、曝光質量差的技術問題。

技術領域

本實用新型涉及光刻工藝設備的技術領域，尤其是涉及一種接觸式曝光用防粘鉻版。

背景技術

觸摸顯示屏是進入21世紀開啟智能時代以來普及性相當高的一類產品，觸摸顯示屏廣泛應用于手機、平板、車載設備等各種顯示終端上，其作為一種成熟、便捷的輸入設備，它是當今社會最簡單、自然、最受歡迎的一種人機交互方式，它賦予了生活、生產以嶄新的面貌，是現代人生活、工作中不可或缺的一部分。

觸摸顯示屏中，無論是觸控面板還是顯示屏模組，都包含導電薄膜層，為了實現特定的功能，導電薄膜往往是要通過蝕刻工藝獲得相應的線路結構。黃光微影技術由于其技術成熟、線寬控制精細、均勻性好是目前廣泛應用的導電薄膜蝕刻技術，其一般分為接觸式曝光和間接式曝光，間接式曝光機的光學效果比接觸式曝光機要差，因此，將接觸式曝光機用于精密曝光，是解決曝光精度和均勻性的一個重要工藝。實現精密曝光的另外一個重要影響因素是感光劑，相對而言，感光劑圖層做的越均勻、越薄其光學性能越好，目前干膜厚度比較薄的在7μm左右，而使用光刻膠可以做到1μm左右，光學性能要遠遠強于干膜；光刻膠是做精細曝光的重要感光材料，但是光刻膠有存在一個較大的技術缺陷：由于光刻膠粘性較強，在鉻版與其接觸的過程中，光刻膠容易粘附在鉻板表面，一方面需要進行鉻版與光刻膠的分離，從而影響工序效率，另一方面，由于鉻版與光刻膠之間粘合力較強，容易在轉移鉻版的過程中導致光刻膠被鉻版拖拽，導致光刻膠的脫落和變形，進而影響下一步工序的正常進行，另外，由于光刻膠與鉻版接觸時發生鉻版黏膠，從而導致鉻版被污染，影響曝光質量和工序的生產效率。

因此，避免鉻版在接觸曝光時與光刻膠發生粘附現象是本行業亟待解決的技術問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種接觸式曝光用防粘鉻版，從而解決現有技術鉻版在接觸式曝光時容易粘膠，從而導致鉻版被污染、光刻膠發生脫落和變形、光刻膠與鉻版難以分離而帶來的生產效率低、曝光質量差的技術問題。

本實用新型提供的一種接觸式曝光用防粘鉻版，其特征在于，所述接觸式曝光用防粘鉻版包括：玻璃承載板、金屬鉻層、防粘貼層，玻璃承載板位于鉻版的最上表面，所述防粘貼層設置在鉻版的最下表面，所述防粘貼層為二氧化硅—含氟聚合物復合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷復合薄膜。

進一步的，所述玻璃承載板的材質為石英玻璃、蘇打玻璃或者低膨脹玻璃。

進一步的，所述接觸式曝光用防粘鉻版由上至下依次設置：玻璃承載板、金屬鉻層、第一氧化鉻層、防粘貼層。

進一步的，所述接觸式曝光用防粘鉻版由上至下依次設置：玻璃承載板、金屬鉻層、第一氮化鉻層、防粘貼層。

進一步的，在玻璃承載板和金屬各層之間還設置第二氧化鉻層或第二氮化鉻層。

進一步的，所述防粘貼層通過溶膠—凝膠法或者噴涂法或者蒸鍍法或者濺鍍法制備得到。

進一步的，所述防粘貼層的厚度為50-150nm。

本實用新型提供的一種接觸式曝光用防粘鉻版，其特征在于，所述接觸式曝光用防粘鉻版包括：玻璃承載板、金屬鉻層、防粘貼層，玻璃承載板位于鉻版的最上表面，所述防粘貼層設置在鉻版的最下表面，所述防粘貼層為二氧化硅—含氟聚合物復合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷復合薄膜。