[實用新型]用于磁控濺射室觀察窗的保護機構

有效

• 申請號: 201820864145.X
• 申請日: 2018-06-05
• 公開（公告）號: CN208328098U
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發明（設計）人: 朱安秋
• 申請（專利權）人: 蘇州勝利精密制造科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/52
• 分類號: C23C14/52;C23C14/35
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 范晴;胡秋嬋

本實用新型公開了用于磁控濺射室觀察窗的保護機構，其包括：轉軸(1)，轉動設置在磁控濺射室外壁(4)上，其內端延伸至所述磁控濺射室內而外端延伸至所述磁控濺射室外；及遮蓋板(2)，其固定在所述轉軸(1)上并位于所述磁控濺射室內，當轉動所述轉軸(1)，所述遮蓋板(2)旋轉至所述觀察窗并覆蓋所述觀察窗或遠離所述觀察窗。本實用新型提供的用于磁控濺射室觀察窗的保護機構，結構簡單，可減少自由狀態電子附著于觀察窗上，減少觀察窗玻璃的更換次數，降低生產成本。

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射技術領域，特別涉及一種用于磁控濺射室觀察窗的保護機構。

背景技術

在磁控濺射鍍膜生產過程中，陰極內加裝一個磁體和靶材表面形成一個與電場正交的磁場，電子在磁場力的作用下改變其運動方向。從靶材表面上釋放出來的電子以及工藝氣體離化出來的電子，并不直接飛向陽極而是會沿著螺旋方向運動，這樣的運動方式減少電子與氣體原子(或分子)碰撞的平均自由程，增加了氣體的離化程度，雖然可以在保證濺射率的前提下減少氣體的使用量，從而提高了濺射效率，而且能較好地控制等離子體的范圍，并使其集中并均勻地濺射靶材。但尚有部分電子在真空狀態下在腔室中自由游走，其中以觀察靶材輝光狀態位于靶材正上方的觀察窗為甚。在穩定生產的狀態下，平均15天左右需更換一次觀察窗玻璃。

實用新型內容

為了解決現有技術的問題，本實用新型目的是提供一種用于磁控濺射室觀察窗的保護機構，可在生產狀態下保護觀察窗。

基于上述問題，本實用新型提供的技術方案是：

用于磁控濺射室觀察窗的保護機構，其包括：

轉軸，轉動設置在磁控濺射室外壁上，其內端延伸至所述磁控濺射室內而外端延伸至所述磁控濺射室外；

及遮蓋板，其固定在所述轉軸上并位于所述磁控濺射室內，當轉動所述轉軸，所述遮蓋板旋轉至所述觀察窗并覆蓋所述觀察窗或遠離所述觀察窗。

在其中的一些實施方式中，所述磁控濺射室外壁上設有轉軸支撐組件，所述轉軸轉動設置在所述轉軸支撐組件上。

在其中的一些實施方式中，所述轉軸支撐組件包括固定在所述磁控濺射室外壁上的底座、固定在所述底座上的軸承支撐座、及設置在所述軸承支撐座內的多個軸承，所述轉軸由所述軸承支撐，所述轉軸的內端經所述底座上的穿孔延伸至所述磁控濺射室內，所述轉軸的外端形成有將所述轉軸限位在所述軸承內的限位部、及用于旋轉的握持部。

在其中的一些實施方式中，所述軸承的數目為兩個，且分別位于所述軸承支撐座的下上部。

在其中的一些實施方式中，所述轉軸與所述軸承支撐座之間設有軸封，所述軸封位于兩個軸承之間。

在其中的一些實施方式中，所述軸承支撐座與所述底座之間設有密封圈。

在其中的一些實施方式中，所述握持部呈長方體型。

在其中的一些實施方式中，所述遮蓋板包括固定部和遮蓋部，所述固定部固定在所述轉軸的內端，所述遮蓋部向所述固定部外側延伸，所述遮蓋部的尺寸大于所述觀察窗。

與現有技術相比，本實用新型的優點是：

采用本實用新型的技術方案，旋轉轉軸外端，可將遮蓋板遮蓋觀察窗或與觀察窗分離，在正常生產狀態下，遮蓋板遮蓋觀察窗，可減少自由狀態電子附著于觀察窗上，減少觀察窗玻璃的更換次數，降低生產成本。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。