[實(shí)用新型]用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820864145.X
• 申請(qǐng)日: 2018-06-05
• 公開（公告）號(hào): CN208328098U
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱安秋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州勝利精密制造科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/52
• 分類號(hào): C23C14/52;C23C14/35
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 范晴;胡秋嬋

1.用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括：

轉(zhuǎn)軸(1)，轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在磁控濺射室外壁(4)上，其內(nèi)端延伸至所述磁控濺射室內(nèi)而外端延伸至所述磁控濺射室外；

及遮蓋板(2)，其固定在所述轉(zhuǎn)軸(1)上并位于所述磁控濺射室內(nèi)，當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)所述轉(zhuǎn)軸(1)，所述遮蓋板(2)旋轉(zhuǎn)至所述觀察窗并覆蓋所述觀察窗或遠(yuǎn)離所述觀察窗。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述磁控濺射室外壁(4)上設(shè)有轉(zhuǎn)軸支撐組件(3)，所述轉(zhuǎn)軸(1)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在所述轉(zhuǎn)軸支撐組件(3)上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)軸支撐組件(3)包括固定在所述磁控濺射室外壁(4)上的底座(3-1)、固定在所述底座(3-1)上的軸承支撐座(3-2)、及設(shè)置在所述軸承支撐座(3-2)內(nèi)的多個(gè)軸承(3-3)，所述轉(zhuǎn)軸(1)由所述軸承(3-3)支撐，所述轉(zhuǎn)軸(1)的內(nèi)端經(jīng)所述底座(3-1)上的穿孔延伸至所述磁控濺射室內(nèi)，所述轉(zhuǎn)軸(1)的外端形成有將所述轉(zhuǎn)軸(1)限位在所述軸承(3-3)內(nèi)的限位部(1-1)、及用于旋轉(zhuǎn)的握持部(1-2)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述軸承(3-3)的數(shù)目為兩個(gè)，且分別位于所述軸承支撐座(3-2)的下上部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)軸(1)與所述軸承支撐座(3-2)之間設(shè)有軸封(3-4)，所述軸封(3-4)位于兩個(gè)軸承(3-3)之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述軸承支撐座(3-2)與所述底座(3-1)之間設(shè)有密封圈(3-5)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述握持部(1-2)呈長(zhǎng)方體型。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射室觀察窗的保護(hù)機(jī)構(gòu)，其特征在于：所述遮蓋板(2)包括固定部(2-1)和遮蓋部(2-2)，所述固定部(2-1)固定在所述轉(zhuǎn)軸(1)的內(nèi)端，所述遮蓋部(2-2)向所述固定部(2-1)外側(cè)延伸，所述遮蓋部(2-2)的尺寸大于所述觀察窗。