[實用新型]化學水浴薄膜的沉積裝置有效
| 申請號: | 201820833550.5 | 申請日: | 2018-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN208829763U | 公開(公告)日: | 2019-05-07 |
| 發明(設計)人: | 陳騰 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/00 | 分類號: | C23C18/00;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 102600 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放卷輥 化學水 沉積 沉積裝置 復合層 襯底 薄膜 隔離保護層 鍍膜 纏繞 配置 節約生產成本 本實用新型 清洗工藝 生產效率 水浴反應 收卷輥 背面 容納 覆蓋 申請 | ||
本申請公開了一種化學水浴薄膜的沉積裝置,放卷輥,包括第一放卷輥和第二放卷輥,其中所述第一放卷輥用于纏繞隔離保護層,所述第二放卷輥用于纏繞鍍膜襯底,并且,所述第一放卷輥和第二放卷輥被配置為使得所述隔離保護層覆蓋所述鍍膜襯底以形成復合層;水浴反應室,被配置為容納所述復合層使其進行沉積反應;收卷輥,被配置為接收完成沉積反應的復合層。采用本實用新型的沉積裝置對化學水浴薄膜進行沉積,可以阻止化學水浴在襯底背面的沉積,從而避免后續背面清洗工藝處理,既提高生產效率,又節約生產成本。
技術領域
本公開一般涉及一種薄膜的沉積裝置,具體涉及一種化學水浴薄膜的沉積裝置。
背景技術
對于不銹鋼襯底卷對卷制造的薄膜電池,包括但不限于銅銦鎵硒薄膜電池和碲化鎘薄膜電池,都需要制備硫化鎘或硫化鋅緩沖層或n型層。由于物理濺射法靶材利于率低以及直接濺射會損傷電池吸收層等工藝弊端,目前產業上緩沖層制備大多采用化學沉積方法,包括化學水浴法和化學噴淋法。
化學水浴法通常需要將襯底浸沒在反應溶液中進行薄膜沉積,因而襯底背面也會有薄膜沉積,需要后續的清洗工藝處理,增加了工藝的復雜性和生產成本;化學噴淋法可以實現襯底單面反應溶液噴淋,因而只在單面形成薄膜沉積,但是由于噴淋工藝的限制,反應溶液在柔性襯底表面的分布很難達到化學水浴時的各向同性,因而化學噴淋法制備的薄膜均勻性差,影響薄膜電池的性能和外觀。
實用新型內容
鑒于現有技術中的上述缺陷或不足,期望提供一種提高生產效率,節約生產成本的化學水浴薄膜的沉積裝置。
本實用新型實施例采用的技術方案為:
一種化學水浴薄膜的沉積裝置,包括:
放卷輥,包括第一放卷輥和第二放卷輥,其中所述第一放卷輥用于纏繞隔離保護層,所述第二放卷輥用于纏繞鍍膜襯底,并且,所述第一放卷輥和第二放卷輥被配置為使得所述隔離保護層覆蓋所述鍍膜襯底以形成復合層;
水浴反應室,被配置為容納所述復合層使其進行沉積反應;
收卷輥,被配置為接收完成沉積反應的復合層。
所述收卷輥包括第一收卷輥和第二收卷輥,其中第一收卷輥用于接收完成沉積反應的隔離保護層,第二收卷輥用于接收完成沉積反應的鍍膜襯底。
所述放卷輥還包括放卷定位滾軸,所述放卷定位滾軸設置在第一放卷輥和第二放卷輥靠近水浴反應室的一側。
所述收卷輥還包括收卷定位滾軸,所述收卷定位滾軸設置在第一收卷輥和第二收卷輥靠近水浴反應室的一側。
所述水浴反應室內設有滾軸,所述滾軸包括第一滾軸和第二滾軸,所述第一滾軸設置在所述放卷定位滾軸的斜下方,所述第二滾軸設置在所述收卷定位滾軸的斜下方。
所述放卷輥與所述收卷輥對稱設置在所述水浴反應室的側上方。
所述第二滾軸與所述收卷定位滾軸之間設有清洗噴淋裝置和干燥裝置。
所述隔離保護層為柔性磁鐵,所述鍍膜襯底為不銹鋼襯底。
所述柔性磁鐵為具有強磁性的橡膠磁條或磁鐵薄膜。
所述水浴反應室包括耐腐蝕的反應槽體、加熱恒溫裝置、反應溶液排放裝置和反應溶液補給裝置,所述滾軸放置于耐腐蝕的反應槽體中,所述滾軸為耐腐蝕滾軸。
所述鍍膜襯底上設有背電極金屬層和p型光吸收層,所述隔離保護層覆蓋在所述鍍膜襯底遠離背電極金屬層的一面。
采用本實用新型的沉積裝置對化學水浴薄膜進行沉積,可以阻止化學水浴在襯底無需鍍膜的一面的無效沉積,從而避免后續對無效沉積面的清洗工藝處理,既提高生產效率,又節約生產成本。
附圖說明
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司,未經北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820833550.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種管式PECVD電極桿
- 下一篇:一種制備高質量硫化鎘薄膜的裝置
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





