[實用新型]化學機械研磨裝置有效
| 申請號： | 201820832850.1 | 申請日： | 2018-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN208246556U | 公開（公告）日： | 2018-12-18 |
| 發明（設計）人： | 蔡長益 | 申請（專利權）人： | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/10 | 分類號： | B24B37/10;B24B37/34;B24B53/017 |
| 代理公司： | 北京市鑄成律師事務所 11313 | 代理人： | 張臻賢;李夠生 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨墊 去離子水 噴霧器 噴頭 進水口 溫控水 加熱 化學機械研磨裝置 本實用新型 研磨 出水口 晶圓 修整 表面傾斜 供應裝置 粗糙度 研磨臺 加溫 移出 預設 軟化 噴射 | ||
1.一種化學機械研磨裝置，其特征在于，包括：
研磨臺，用于設置研磨墊；
溫控水機，具有進水口和出水口，所述進水口與去離子水供應裝置連接，所述溫控水機用于將經所述進水口流入的去離子水加熱且穩定在預設溫度范圍中；
噴霧器，設置在所述研磨臺上方，所述噴霧器與所述溫控水機的所述出水口連接，所述噴霧器具有噴頭，所述噴頭相對所述研磨墊表面傾斜設置，用于向所述研磨墊表面噴射加溫后的所述去離子水，以加熱和清潔所述研磨墊；以及
調節頭，設置在所述研磨臺上方，用于調節修整所述研磨墊表面的粗糙度。
2.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，還包括：
控制單元，所述控制單元與所述溫控水機電連接，用于控制所述溫控水機對所述去離子水的加熱溫度在所述預設溫度范圍中；所述控制單元還與所述噴霧器電連接，用于控制所述噴頭噴出所述去離子水的流速。
3.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述噴頭相對所述研磨墊表面的傾斜角度在30°-75°之間，包含端點值。
4.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述研磨臺為多個，各所述研磨臺分別配置有各一所述研磨墊和各一所述噴霧器，多個所述噴霧器與同一所述溫控水機連接。
5.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，還包括研磨頭，所述研磨頭設置在所述研磨臺上方，用于裝載晶圓。
6.如權利要求1-5任一項所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述預設溫度范圍為43℃-47℃，包含端點值。
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