[實用新型]一種掩膜板框架

有效

• 申請號: 201820780470.8
• 申請日: 2018-05-23
• 公開（公告）號: CN208127246U
• 公開（公告）日: 2018-11-20
• 發明（設計）人: 呂守華
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

本實用新型涉及顯示設備制造技術領域，公開了一種掩膜板框架，該掩膜板框架包括依次首尾相連以形成封閉環形結構的多個邊框，每個邊框的頂面形成掩膜板焊接面，且每一個邊框的底面形成有多個凸出底面的摩擦凸起。該掩膜板框架通過在邊框的底面設置傾斜于底面且與邊框的底面形成的夾角中朝向封閉環形結構中心方向的夾角為銳角的摩擦凸起，加大了底面與放置掩膜板框架的載臺之間的摩擦力和受到載臺上定位柱施加的擠壓力后的反方向抗力，從而能夠改善在放置過程中受擠壓而發生形變的情況，進而達到提高產品良率的效果。

技術領域

本實用新型涉及顯示設備制造技術領域，特別涉及一種掩膜板框架。

背景技術

現有的有機蒸鍍鍍膜是在蒸鍍腔室中進行，利用高精度金屬掩膜板作為模具，有機材料高溫揮發后以材料分子狀態透過金屬掩膜板的有效開口蒸鍍到背板玻璃上實現有機發光。其中，金屬掩膜板通過掩膜板框架固定，背板玻璃放置于金屬掩膜板上，掩膜板框架放在載臺上，有機材料從坩堝經高溫揮發到背板玻璃上，形成有效像素圖案。現有技術中的掩膜板框架放置到載臺上后，容易與載臺上的定位柱發生接觸，定位柱的位置是固定的，會和與定位柱接觸的掩膜板框架發生相對對抗力，使得掩膜板框架產生形變，形變如圖1所示，從而導致與掩膜板框架固定的金屬掩膜板的位置發生偏移，造成蒸鍍混色等不良發生。

實用新型內容

本實用新型提供了一種掩膜板框架，上述掩膜板框架能夠改善在放置過程中受擠壓而發生形變的情況，進而達到提高產品良率的效果。

為達到上述目的，本實用新型提供以下技術方案：

一種掩膜板框架，包括依次首尾相連以形成封閉環形結構的多個邊框，每個所述邊框的頂面形成掩膜板焊接面，且每一個所述邊框的底面形成有多個凸出所述底面的摩擦凸起。

上述掩膜板框架包括依次首尾相連以形成封閉環形結構的多個邊框，其中每個邊框的頂面形成掩膜板焊接面，掩膜板焊接面用來焊接掩膜板，使得掩膜板固定于多個邊框形成的封閉環形結構中間，有機材料高溫揮發后通過封閉環形結構中間對應的掩膜板區域后蒸鍍到背板玻璃上；每一個所述邊框的底面形成有多個凸出所述底面的摩擦凸起，摩擦凸起能夠在掩膜板框架放置到載臺上時，加大掩膜板框架與載臺接觸的表面之間的摩擦力，減少掩膜板框架因與載臺上的定位柱接觸而發生的變形，從而防止與掩膜板框架固定的金屬掩膜板的位置發生偏移，減少因金屬掩膜板位置偏移而造成的蒸鍍混色現象的發生，從而大大提高蒸鍍良率。

優選地，至少一個所述邊框具有開口位于底面的多個凹槽，每相鄰的兩個所述凹槽之間形成一個所述摩擦凸起。

優選地，每一個所述邊框的底面形成有沿所述邊框外邊緣指向所述邊框中心方向排列的多排摩擦凸起。

優選地，每一個所述邊框具有的摩擦凸起在所述邊框的底面呈陣列分布。

優選地，沿與所述邊框的底面垂直的方向，每一個所述摩擦凸起的高度為5μm至10μm。

優選地，每相鄰兩個所述摩擦凸起的之間的間距為1mm至5mm。

優選地，所述摩擦凸起傾斜設置于所述底面且所述摩擦凸起與所述邊框的底面形成的夾角中朝向所述封閉環形結構中心方向的夾角為銳角。

優選地，每一個所述邊框背離所述封閉環形結構中心的側邊具有階梯狀結構，所述階梯狀結構的階梯面背離所述邊框的底面、且與所述邊框的頂面平行。

優選地，所述邊框的底面與所述掩膜板焊接面之間的最大距離為20mm至30mm，其中所述階梯面與所述掩膜板焊接面之間的距離為10mm至20mm。

優選地，所述邊框包括多個定位機構。

附圖說明

圖1為現有技術中掩膜板框架形變示意圖；

圖2為本實用新型中提供的一種掩膜板框架底面示意圖；