[實用新型]一種掩膜板框架

有效

• 申請號: 201820780470.8
• 申請日: 2018-05-23
• 公開（公告）號: CN208127246U
• 公開（公告）日: 2018-11-20
• 發明（設計）人: 呂守華
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種掩膜板框架，其特征在于，包括依次首尾相連以形成封閉環形結構的多個邊框，每個所述邊框的頂面形成掩膜板焊接面，且每一個所述邊框的底面形成有多個凸出所述底面的摩擦凸起。

2.根據權利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，至少一個所述邊框具有開口位于底面的多個凹槽，每相鄰的兩個所述凹槽之間形成一個所述摩擦凸起。

3.根據權利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，每一個所述邊框的底面形成有沿所述邊框外邊緣指向所述邊框中心方向排列的多排摩擦凸起。

4.根據權利要求3所述的掩膜板框架，其特征在于，每一個所述邊框具有的摩擦凸起在所述邊框的底面呈陣列分布。

5.根據權利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，沿與所述邊框的底面垂直的方向，每一個所述摩擦凸起的高度為5μm至10μm。

6.根據權利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，每相鄰兩個所述摩擦凸起之間的間距為1mm至5mm。

7.根據權利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，所述摩擦凸起傾斜設置于所述底面且所述摩擦凸起與所述邊框的底面形成的夾角中朝向所述封閉環形結構中心方向的夾角為銳角。

8.根據權利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，每一個所述邊框背離所述封閉環形結構中心的側邊具有階梯狀結構，所述階梯狀結構的階梯面背離所述邊框的底面、且與所述邊框的頂面平行。

9.根據權利要求8所述的掩膜板框架，其特征在于，所述邊框的底面與所述掩膜板焊接面之間的最大距離為20mm至30mm，其中所述階梯面與所述掩膜板焊接面之間的距離為10mm至20mm。

10.根據權利要求1所述的掩膜板框架，其特征在于，所述邊框包括多個定位機構。