[實(shí)用新型]一種提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820779229.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208238527U | 公開(公告)日: | 2018-12-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉冠成 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 劉冠誠(chéng) |
| 主分類號(hào): | F27B14/06 | 分類號(hào): | F27B14/06;F27B14/14;F27D11/06 |
| 代理公司: | 昆明潤(rùn)勤同創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 53205 | 代理人: | 王遠(yuǎn)同 |
| 地址: | 679200 云南省德宏*** | 國(guó)省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熔煉 隔離管 給料管 內(nèi)腔管 熔煉爐 射流 本實(shí)用新型 等離子發(fā)生 通道出口端 產(chǎn)品純度 還原裝置 金屬冶煉 等離子 防護(hù)管 等離子體 等離子發(fā)生器 中頻加熱電源 非金屬熔煉 金屬氧化物 保護(hù)氣體 保溫線圈 高頻電源 熔渣分離 線圈設(shè)置 出口端 防護(hù)室 接受器 無電極 腔管 澆鑄 保溫 承接 防護(hù) 金屬 室內(nèi) | ||
本實(shí)用新型公開一種提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置,包括熔煉通道、熔煉爐和防護(hù)室,所述熔煉通道出口端承接設(shè)置熔煉爐,所述熔煉通道出口端與熔煉爐均設(shè)置在防護(hù)室內(nèi);所述熔煉通道包括內(nèi)腔管、隔離管、外防護(hù)管和射流給料管,所述外防護(hù)管內(nèi)設(shè)置隔離管,所述隔離管內(nèi)設(shè)置內(nèi)腔管,所述內(nèi)腔管內(nèi)設(shè)置射流給料管,所述射流給料管的出口端設(shè)置等離子發(fā)生線圈、且等離子發(fā)生線圈設(shè)置在內(nèi)腔管和隔離管之間。本實(shí)用新型通過高頻電源提供給無電極等離子發(fā)生器,得到純的等離子體,在保護(hù)氣體存在下進(jìn)行對(duì)金屬氧化物或非金屬熔煉,在熔煉過程中由中頻加熱電源和接受器(保溫線圈)進(jìn)行保溫,再度熔渣分離,能夠澆鑄出純度很高的金屬或非金屬的型材。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于冶金設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、用方便的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置。
背景技術(shù)
以往的金屬還原方法是以冶煉窯爐,現(xiàn)代是電弧爐來進(jìn)行,大型的鋼鐵冶煉質(zhì)量要求不高的完全沒有問題,但在單一金屬純度要求高時(shí)就無能為力了,窯爐方法就不用提,就現(xiàn)代電弧爐也有不足之處,因?yàn)樗鼈兌际抢秒姌O產(chǎn)生電弧,電極材料損耗時(shí)會(huì)跟熔化的金屬結(jié)合在一起形成合金,很難得到純的單一金屬,對(duì)于難熔金屬(如鎢、鉬、鉭、鈮、鈦、鋯等)都是難以勝任的。現(xiàn)在工業(yè)上普遍使用的等離子切割機(jī)、等離子敷焊機(jī)、等離子堆焊機(jī)、等離子金屬噴涂機(jī)、等離子鍋爐點(diǎn)火器、等離子垃圾焚燒系統(tǒng)等設(shè)備均以不同的電極放電形式來實(shí)現(xiàn)能量轉(zhuǎn)移,具有高效清潔的特點(diǎn),因此,結(jié)合等離子傳遞能量的特點(diǎn),設(shè)計(jì)一種提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置具有重要實(shí)用意義。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的,包括熔煉通道、熔煉爐和防護(hù)室,所述熔煉通道出口端承接設(shè)置熔煉爐,所述熔煉通道出口端與熔煉爐均設(shè)置在防護(hù)室內(nèi);所述熔煉通道包括內(nèi)腔管、隔離管、外防護(hù)管和射流給料管,所述外防護(hù)管內(nèi)設(shè)置隔離管,所述隔離管內(nèi)設(shè)置內(nèi)腔管,所述內(nèi)腔管內(nèi)設(shè)置射流給料管,所述射流給料管的出口端設(shè)置等離子發(fā)生線圈、且等離子發(fā)生線圈設(shè)置在內(nèi)腔管和隔離管之間。
本實(shí)用新型裝置利用無電極等離子體實(shí)現(xiàn)以往的窯爐、電極式電弧爐難以勝任難熔金屬和高熔點(diǎn)材料的煉制,由于不存在無電極損耗,不會(huì)污染參加煉制的物料而得到純的金屬或非金屬材料。本實(shí)用新型通過高頻電源提供給無電極等離子發(fā)生器,得到純的等離子體,在保護(hù)氣體存在下進(jìn)行對(duì)金屬氧化物或非金屬熔煉,在熔煉過程中由中頻加熱電源和接受器(保溫線圈)進(jìn)行保溫,再度熔渣分離,能夠澆鑄出純度很高的金屬或非金屬的型材。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)圖;
圖中:1-高頻電源,2-電感線圈,3-內(nèi)腔管,4-隔離管,5-外防護(hù)管,6-冷卻進(jìn)口,7-輔助氣體入口,8-射流給料管,9-冷卻出口,10-等離子發(fā)生線圈,11-擴(kuò)散嘴,12-等離子體,13-熔煉爐,14-保溫線圈,15-電源,16-防護(hù)室,17-爐渣排放口,18-澆筑口,19-緩沖通道,20-煙塵出口。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明,但不得以任何方式對(duì)本實(shí)用新型加以限制,基于本實(shí)用新型教導(dǎo)所作的任何變更或改進(jìn),均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
如圖1所示,本實(shí)用新型包括熔煉通道、熔煉爐13和防護(hù)室16,所述熔煉通道出口端承接設(shè)置熔煉爐13,所述熔煉通道出口端與熔煉爐13均設(shè)置在防護(hù)室16內(nèi);
所述熔煉通道包括內(nèi)腔管3、隔離管4、外防護(hù)管5和射流給料管8,所述外防護(hù)管5內(nèi)設(shè)置隔離管4,所述隔離管4內(nèi)設(shè)置內(nèi)腔管3,所述內(nèi)腔管3內(nèi)設(shè)置射流給料管8,所述射流給料管8的出口端設(shè)置等離子發(fā)生線圈10、且等離子發(fā)生線圈10設(shè)置在內(nèi)腔管3和隔離管4之間。外防護(hù)管5對(duì)發(fā)生器整體起保護(hù)作用。射流給料管8內(nèi)的粉狀物料輸送的氣體根據(jù)物料材質(zhì)來選定不同的惰性氣體。
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