[實用新型]一種提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820779229.3
• 申請日: 2018-05-24
• 公開（公告）號: CN208238527U
• 公開（公告）日: 2018-12-14
• 發(fā)明（設計）人: 劉冠成
• 申請（專利權）人: 劉冠誠
• 主分類號: F27B14/06
• 分類號: F27B14/06;F27B14/14;F27D11/06
• 代理公司: 昆明潤勤同創(chuàng)知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) 53205
• 代理人: 王遠同

1.一種提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：包括熔煉通道、熔煉爐（13）和防護室（16），所述熔煉通道出口端承接設置熔煉爐（13），所述熔煉通道出口端與熔煉爐（13）均設置在防護室（16）內(nèi)；

所述熔煉通道包括內(nèi)腔管（3）、隔離管（4）、外防護管（5）和射流給料管（8），所述外防護管（5）內(nèi)設置隔離管（4），所述隔離管（4）內(nèi)設置內(nèi)腔管（3），所述內(nèi)腔管（3）內(nèi)設置射流給料管（8），所述射流給料管（8）的出口端設置等離子發(fā)生線圈（10）、且等離子發(fā)生線圈（10）設置在內(nèi)腔管（3）和隔離管（4）之間。

2.根據(jù)權利要求1所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述熔煉通道出口端設置為擴散嘴（11），所述擴散嘴（11）下方承接設置熔煉爐（13）。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述內(nèi)腔管（3）與隔離管（4）之間形成封閉空間，且在隔離管（4）上設置冷卻進口（6）和冷卻出口（9），所述冷卻進口（6）和冷卻出口（9）分別設置在隔離管（4）的兩端。

4.根據(jù)權利要求3所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述內(nèi)腔管（3）與射流給料管（8）之間形成輔助氣體空間，輔助氣體空間側(cè)壁上設置輔助氣體入口（7）。

5.根據(jù)權利要求2所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述擴散嘴（11）的喇叭口張角在45°~90°之間，所述擴散嘴（11）內(nèi)部設置為空心腔，空心腔連接外部設置有冷卻進口（6）和冷卻出口（9）。

6.根據(jù)權利要求1或2所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述等離子發(fā)生線圈（10）的電感線圈（2）設置在外防護管（5）上，所述電感線圈（2）連接高頻電源（1）。

7.根據(jù)權利要求1或2所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述熔煉爐（13）外側(cè)設置保溫線圈（14），所述保溫線圈（14）連接電源（15）。

8.根據(jù)權利要求1或2所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述熔煉爐（13）上部設置爐渣排放口（17）、中部設置澆筑口（18）。

9.根據(jù)權利要求1或2所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述防護室（16）內(nèi)設置緩沖通道（19），所述緩沖通道上方設置煙塵出口（20），煙塵出口（20）連接負壓風機，負壓風機連接靜電集塵器，靜電集塵器出口設置礦棉過慮器，礦棉過濾器出口設置水霧噴淋器。

10.根據(jù)權利要求1或2所述的提高產(chǎn)品純度的等離子金屬冶煉還原裝置，其特征是：所述內(nèi)腔管（3）和射流給料管（8）均設置為石英管，隔離管（4）為石英炬管。