[實用新型]用于刻蝕設備的新型陶瓷環

有效

• 申請號: 201820760179.4
• 申請日: 2018-05-22
• 公開（公告）號: CN208284449U
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發明（設計）人: 許文澤;袁鵬華;石生寶;李明;湯介峰;潘無忌
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: H01J37/02
• 分類號: H01J37/02;H01J37/16;H01J37/065
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 欒美潔

本實用新型公開了一種用于刻蝕設備的新型陶瓷環，所述陶瓷環具有中空內腔，且內腔頂部為與冷卻盤配合的卡臺，所述陶瓷環的卡臺底面上開有供密封圈嵌入的溝槽，該溝槽的縱截面為梯形或一優弧。本實用新型可以清楚地檢查密封圈的安裝情況，有效避免因密封圈在安裝過程中發生脫離或部分脫落造成陶瓷環和冷卻盤接觸不充分進而導致腔體漏率異常以及安裝困難的問題；并且可以有效解決安裝過程中因密封圈發生扭曲或變形導致陶瓷環與冷卻盤接觸不充分的問題，同時有效避免冷卻盤按壓造成密封圈損壞帶來的腔體漏率異常的情況。

技術領域

本實用新型屬于集成電路半導體制造領域，具體涉及一種用于刻蝕設備的新型陶瓷環。

背景技術

TEL Vigus刻蝕機臺的上部主要包括有陶瓷環1(Low Insulation Ring)和冷卻盤2(Cooling Plate)。由于生產過程中冷卻盤2和陶瓷環1分別處于真空狀態和大氣狀態，因此需要在冷卻盤2和陶瓷環1之間使用密封圈3進行密封連接。

現有技術中，如圖1所示，冷卻盤2安裝在陶瓷環1上方，陶瓷環1具有中空內腔且內腔頂部形成有卡臺，對應地冷卻盤2形成有向外延伸的凸緣，該凸緣與陶瓷環1的卡臺配合實現連接，與陶瓷環1連接處的冷卻盤2底面開有溝槽，圓形截面的密封圈3安裝在所述溝槽中，如圖2所示。然而，在安裝過程中，密封圈3容易在翻轉冷卻盤2以及垂直安裝到冷卻盤2時受重力作用發生脫落的意外，而且僅僅抬起冷卻盤2不能方便地檢查密封圈3的安裝情況。此外，密封圈3嵌入安裝在方形溝槽4中，這種結構導致密封圈3在安裝過程總極易發生扭曲和變形。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種用于刻蝕設備的新型陶瓷環，可以避免安裝過程中發生密封圈脫落及密封圈變形或扭曲的情況，同時便于對密封圈的安裝狀態進行檢查。

為解決上述技術問題，本實用新型提供的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，所述陶瓷環具有中空內腔，且內腔頂部為與冷卻盤配合的卡臺，所述陶瓷環的卡臺底面上開有供密封圈嵌入的溝槽。

在上述結構中，所述溝槽的縱截面為梯形。其中，所述溝槽的梯形截面的開口長度小于溝槽梯形截面的底邊長度。

進一步的，所述密封圈的縱截面為圓形，且密封圈圓形截面的直徑大于溝槽梯形截面的開口長度并小于溝槽梯形截面的底邊長度。

或者進一步的，所述密封圈的縱截面為方形，且密封圈方形截面的長度大于溝槽梯形截面的開口長度并小于溝槽梯形截面的底邊長度。

或者在上述結構中，所述溝槽的縱截面為一優弧。

進一步的，所述密封圈的縱截面為圓形，且密封圈圓形截面的直徑大于溝槽優弧截面的開口長度并小于溝槽優弧截面的直徑。

或者進一步的，所述密封圈的縱截面為方形，且密封圈方形截面的長度大于溝槽優弧截面的開口長度并小于溝槽優弧截面的直徑。

更佳的，所述陶瓷環的卡臺側面上也開有供密封圈嵌入的溝槽。

本實用新型的有益效果在于：

1)將安裝密封圈的溝槽設置在陶瓷環上，結構簡單明了，可以有效地避免因密封圈在安裝過程中發生脫離或部分脫落造成陶瓷環和冷卻盤接觸不充分進而導致腔體漏率異常以及安裝困難的問題；

2)采用梯形溝槽或優弧溝槽安裝密封圈，可以有效解決安裝過程中因密封圈發生扭曲或變形導致陶瓷環與冷卻盤接觸不充分的問題，同時有效避免冷卻盤按壓造成密封圈損壞帶來的腔體漏率異常的情況；

3)密封圈溝槽設置在陶瓷環的卡臺底面，可以一目了然地檢查密封圈的安裝情況。

附圖說明

圖1為現有刻蝕設備的機臺裝配前的示意圖；

圖2為現有刻蝕設備的機臺裝配后的局部示意圖；