[實用新型]用于刻蝕設備的新型陶瓷環有效
| 申請號： | 201820760179.4 | 申請日： | 2018-05-22 |
| 公開（公告）號： | CN208284449U | 公開（公告）日： | 2018-12-25 |
| 發明（設計）人： | 許文澤;袁鵬華;石生寶;李明;湯介峰;潘無忌 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/02 | 分類號： | H01J37/02;H01J37/16;H01J37/065 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人： | 欒美潔 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 密封圈 冷卻盤 陶瓷環 本實用新型 安裝過程 刻蝕設備 新型陶瓷 漏率 腔體 按壓 內腔頂部 有效解決 中空內腔 嵌入的 縱截面 優弧 變形 扭曲 脫離 配合 檢查 | ||
1.一種用于刻蝕設備的新型陶瓷環，所述陶瓷環具有中空內腔，且內腔頂部為與冷卻盤配合的卡臺，其特征在于，所述陶瓷環的卡臺底面上開有供密封圈嵌入的溝槽。
2.根據權利要求1所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述溝槽的縱截面為梯形。
3.根據權利要求2所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述溝槽的梯形截面的開口長度小于溝槽梯形截面的底邊長度。
4.根據權利要求3所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述密封圈的縱截面為圓形，且密封圈圓形截面的直徑大于溝槽梯形截面的開口長度并小于溝槽梯形截面的底邊長度。
5.根據權利要求3所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述密封圈的縱截面為方形，且密封圈方形截面的長度大于溝槽梯形截面的開口長度并小于溝槽梯形截面的底邊長度。
6.根據權利要求1所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述溝槽的縱截面為一優弧。
7.根據權利要求6所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述密封圈的縱截面為圓形，且密封圈圓形截面的直徑大于溝槽優弧截面的開口長度并小于溝槽優弧截面的直徑。
8.根據權利要求6所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述密封圈的縱截面為方形，且密封圈方形截面的長度大于溝槽優弧截面的開口長度并小于溝槽優弧截面的直徑。
9.根據權利要求1所述的用于刻蝕設備的新型陶瓷環，其特征在于，所述陶瓷環的卡臺側面上也開有供密封圈嵌入的溝槽。
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